JP2831620B2 - 液晶オルガノシロキサン、その製法、それらの混合物、それらの化合物又はその混合物を有する光学素子、偏光カラーフィルター及び装飾材料並びに新規のジアンヒドロヘキシット−誘導体及びオルガノシラン - Google Patents
液晶オルガノシロキサン、その製法、それらの混合物、それらの化合物又はその混合物を有する光学素子、偏光カラーフィルター及び装飾材料並びに新規のジアンヒドロヘキシット−誘導体及びオルガノシランInfo
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ジアンヒドロヘキ
シット−誘導体を、キラル基として有する液晶オルガノ
シロキサン、その製法、その使用、ジアンヒドロヘキシ
ット−誘導体、液晶ジアンヒドロヘキシット−誘導体を
含有するオルガノシロキサンに縮合可能なオルガノシラ
ン及びジアンヒドロヘキシット−誘導体を含有するオル
ガノシロキサンとその他の液晶材料との混合物並びにそ
の混合物の使用に関する。
シット−誘導体を、キラル基として有する液晶オルガノ
シロキサン、その製法、その使用、ジアンヒドロヘキシ
ット−誘導体、液晶ジアンヒドロヘキシット−誘導体を
含有するオルガノシロキサンに縮合可能なオルガノシラ
ン及びジアンヒドロヘキシット−誘導体を含有するオル
ガノシロキサンとその他の液晶材料との混合物並びにそ
の混合物の使用に関する。
【0002】らせん構造を有する液晶材料は、一般に、
スメクチック、ネマチック又はコレステリック相を有す
る。液晶混合物は、キラル構造の導入のために1種又は
数種の光学活性成分を有することが多い。例えば、コレ
ステリック液晶は、ネマチックベース材料及び1種又は
数種の光学活性ドーピング物質からなりうる。その際、
これらは、ネマチック物質(Nematen)中に、右巻き又は
左巻きを生じさせる。波長が、らせんピッチとほぼ同じ
(λ=n・p)である波長領域で、コレステリック液晶
は、光を反射する。反射光は、完全に円偏光される。反
射光のねじれ方向は、コレステリックらせん構造のねじ
れ方向に依存している。それぞれ反対の円偏光が、弱め
られずに伝搬される。特定の目的のためにより良い又は
より劣っている多数の光学活性ドーピング物質が、文献
中に記載されている。
スメクチック、ネマチック又はコレステリック相を有す
る。液晶混合物は、キラル構造の導入のために1種又は
数種の光学活性成分を有することが多い。例えば、コレ
ステリック液晶は、ネマチックベース材料及び1種又は
数種の光学活性ドーピング物質からなりうる。その際、
これらは、ネマチック物質(Nematen)中に、右巻き又は
左巻きを生じさせる。波長が、らせんピッチとほぼ同じ
(λ=n・p)である波長領域で、コレステリック液晶
は、光を反射する。反射光は、完全に円偏光される。反
射光のねじれ方向は、コレステリックらせん構造のねじ
れ方向に依存している。それぞれ反対の円偏光が、弱め
られずに伝搬される。特定の目的のためにより良い又は
より劣っている多数の光学活性ドーピング物質が、文献
中に記載されている。
【0003】液晶材料の光学的使用のいくつかのため
に、例えばノッチフィルターでの使用のためには、左円
偏光及び右円偏光が反射され得るように、右らせんのコ
レステリック相及び左らせんのコレステリック相の両方
を手に入れる必要がある。その際、左らせんフィルター
に関しては、安定な中間相を生じさせるために、キラリ
ティーの他に充分なメソゲン特性を有するコレステリン
化合物に依ることが多い。このために、例えば、H.Fink
elmann, H.Ringsdorf et al.(Makromol. Chem. 179, 82
9-832(1978))から公知のコレステリン誘導体又は米国特
許(US−A)第4996330号明細書及びヨーロッ
パ特許(EP−A)第626386号明細書から公知の
酒石酸イミド誘導体が好適である。従来、右らせんフィ
ルターの製造の場合には、一般に、非ステロイド系に依
った。これらの系は概して、充分な中間相安定性を有さ
ないか、又は長期安定性が低すぎる。好適な右らせんス
テロイド−系は、ドイツ特許(DE−A)第42348
45号明細書中に記載されている。そこに記載のコレス
ト−8(14)−エン−3β−オール(ドリステロール
(Doristerol))もしくはその誘導体は、複雑化された合
成及び高い製造費用の欠点を有する。
に、例えばノッチフィルターでの使用のためには、左円
偏光及び右円偏光が反射され得るように、右らせんのコ
レステリック相及び左らせんのコレステリック相の両方
を手に入れる必要がある。その際、左らせんフィルター
に関しては、安定な中間相を生じさせるために、キラリ
ティーの他に充分なメソゲン特性を有するコレステリン
化合物に依ることが多い。このために、例えば、H.Fink
elmann, H.Ringsdorf et al.(Makromol. Chem. 179, 82
9-832(1978))から公知のコレステリン誘導体又は米国特
許(US−A)第4996330号明細書及びヨーロッ
パ特許(EP−A)第626386号明細書から公知の
酒石酸イミド誘導体が好適である。従来、右らせんフィ
ルターの製造の場合には、一般に、非ステロイド系に依
った。これらの系は概して、充分な中間相安定性を有さ
ないか、又は長期安定性が低すぎる。好適な右らせんス
テロイド−系は、ドイツ特許(DE−A)第42348
45号明細書中に記載されている。そこに記載のコレス
ト−8(14)−エン−3β−オール(ドリステロール
(Doristerol))もしくはその誘導体は、複雑化された合
成及び高い製造費用の欠点を有する。
【0004】低分子量の系は、限られた使用、例えば、
光学素子、装飾分野での使用又は光学フィルターでのみ
好適である。その相安定性が低すぎるか、粘度が低すぎ
るか、又は殊に、温度安定性が、どの方法でも保証され
ていないことが多い。
光学素子、装飾分野での使用又は光学フィルターでのみ
好適である。その相安定性が低すぎるか、粘度が低すぎ
るか、又は殊に、温度安定性が、どの方法でも保証され
ていないことが多い。
【0005】ポリマーもしくは架橋されたコレステリッ
ク液晶では、更に進んだ使用も可能である。これらか
ら、新種の効果を有するLC−顔料又は反射偏光フィル
ター及びその他多くを製造することができる。
ク液晶では、更に進んだ使用も可能である。これらか
ら、新種の効果を有するLC−顔料又は反射偏光フィル
ター及びその他多くを製造することができる。
【0006】ドイツ特許(DE−A)第4342280
号明細書もしくはドイツ特許(DE−A)第44081
71号明細書中に、架橋可能なモノマーのヘキシット誘
導体もしくはモノマーのヘキシット誘導体とその他の液
晶化合物との混合物が記載されている。このモノマーヘ
キシット誘導体は、モノマードーピング物質として、コ
レステリックネットワークの製造のために使用すること
ができる。ここに記載のヘキシット含有系は、経費のか
かる合成によってのみ入手することができる。ドイツ特
許(DE−A)第4342280号明細書中に記載のモ
ノマーヘキシット−誘導体は、ビニル基又はエポキシド
基を介して重合させることができる。ドイツ特許(DE
−A)第4408171号明細書中に記載のモノマーヘ
キシット−誘導体の混合物は、ラジカル又はイオン重合
法により架橋させることができる。
号明細書もしくはドイツ特許(DE−A)第44081
71号明細書中に、架橋可能なモノマーのヘキシット誘
導体もしくはモノマーのヘキシット誘導体とその他の液
晶化合物との混合物が記載されている。このモノマーヘ
キシット誘導体は、モノマードーピング物質として、コ
レステリックネットワークの製造のために使用すること
ができる。ここに記載のヘキシット含有系は、経費のか
かる合成によってのみ入手することができる。ドイツ特
許(DE−A)第4342280号明細書中に記載のモ
ノマーヘキシット−誘導体は、ビニル基又はエポキシド
基を介して重合させることができる。ドイツ特許(DE
−A)第4408171号明細書中に記載のモノマーヘ
キシット−誘導体の混合物は、ラジカル又はイオン重合
法により架橋させることができる。
【0007】メソゲン側基を有するオルガノシロキサン
基質からなる液晶は、シロキサンを含有しないLC系に
比べて、オルガノシロキサン脊柱(Organosiloxanrueckg
rat)の選択により、分子量を簡単に、かつほぼ任意に変
動させることができることにより優れている。これによ
り、液晶特性、例えば相特性、ガラス転移温度及び透明
点又は例えば、粘度も、広い範囲で要求に合わせること
ができる。
基質からなる液晶は、シロキサンを含有しないLC系に
比べて、オルガノシロキサン脊柱(Organosiloxanrueckg
rat)の選択により、分子量を簡単に、かつほぼ任意に変
動させることができることにより優れている。これによ
り、液晶特性、例えば相特性、ガラス転移温度及び透明
点又は例えば、粘度も、広い範囲で要求に合わせること
ができる。
【0008】例えば、米国特許(US−A)第5211
877号明細書、ドイツ特許(DE−A)第42348
45号明細書及びヨーロッパ特許(EP−A)第626
386号明細書中に、メソゲン側基を有する環状シロキ
サンが記載されており、その際、その側基の一部は、メ
タクリル酸でエステル化されている。従って、このシロ
キサンも架橋可能である。このポリマー中に添加される
ドーピング物質は、殊に、コレステリンのヒドロシリル
化されたω−オレフィン誘導体、ドリステロール、もし
くは酒石酸イミドである。これらは、比較的僅かなねじ
り力("helicaltwisting power"=HTP)を有するの
みであり、従って、例えば、色彩効果を、可視領域で生
じさせるためには、これらを多量(>約10〜20%)
に添加しなければならない。多量のドーピング物質によ
り、非常に高い架橋基密度を選択することができない。
更に、キラルドーピング物質は比較的高価であるか、又
は多工程の合成によってしか入手することができない。
877号明細書、ドイツ特許(DE−A)第42348
45号明細書及びヨーロッパ特許(EP−A)第626
386号明細書中に、メソゲン側基を有する環状シロキ
サンが記載されており、その際、その側基の一部は、メ
タクリル酸でエステル化されている。従って、このシロ
キサンも架橋可能である。このポリマー中に添加される
ドーピング物質は、殊に、コレステリンのヒドロシリル
化されたω−オレフィン誘導体、ドリステロール、もし
くは酒石酸イミドである。これらは、比較的僅かなねじ
り力("helicaltwisting power"=HTP)を有するの
みであり、従って、例えば、色彩効果を、可視領域で生
じさせるためには、これらを多量(>約10〜20%)
に添加しなければならない。多量のドーピング物質によ
り、非常に高い架橋基密度を選択することができない。
更に、キラルドーピング物質は比較的高価であるか、又
は多工程の合成によってしか入手することができない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、従来
使用されているキラルドーピング物質に代わって、より
高いHTPを有する適当なキラル物質を有し、室温から
約100℃の温度範囲で、安定な、又は架橋により固定
可能なコレステリック相を有し、右偏光もしくは左偏光
の選択的反射を可能にし、かつその反射波長が、充分に
温度非依存性である右らせん及び左らせんの液晶オルガ
ノシロキサンを提供することであった。
使用されているキラルドーピング物質に代わって、より
高いHTPを有する適当なキラル物質を有し、室温から
約100℃の温度範囲で、安定な、又は架橋により固定
可能なコレステリック相を有し、右偏光もしくは左偏光
の選択的反射を可能にし、かつその反射波長が、充分に
温度非依存性である右らせん及び左らせんの液晶オルガ
ノシロキサンを提供することであった。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記の課題は、本発明
で、ジアンヒドロヘキシット−誘導体をキラル基として
有する液晶オルガノシロキサンにより解決される。
で、ジアンヒドロヘキシット−誘導体をキラル基として
有する液晶オルガノシロキサンにより解決される。
【0011】この液晶オルガノシロキサンは、従来記載
のステロイド含有及び酒石酸イミド含有液晶オルガノシ
ロキサンに比べて、ジアンヒドロヘキシット基1つ当た
り、明らかにより高いHTPを、従って、より良好な光
学ねじり力を有し、その結果、同じ光学作用を得るため
に、例えば、同じ反射波長を得るために、かなり少ない
量のキラルジアンヒドロヘキシット−誘導体を、キラル
成分として使用すればよい。
のステロイド含有及び酒石酸イミド含有液晶オルガノシ
ロキサンに比べて、ジアンヒドロヘキシット基1つ当た
り、明らかにより高いHTPを、従って、より良好な光
学ねじり力を有し、その結果、同じ光学作用を得るため
に、例えば、同じ反射波長を得るために、かなり少ない
量のキラルジアンヒドロヘキシット−誘導体を、キラル
成分として使用すればよい。
【0012】更に、この液晶オルガノシロキサンは、低
分子量のジアンヒドロヘキシット誘導体に比べて、明ら
かにより高いHTPを、従って、より良好な光学ねじり
力を、ジアンヒドロヘキシット基1つあたり有し、その
結果、同一の光学作用を得るために、より少ない量のジ
アンヒドロヘキシット基を使用すればよい。ヨーロッパ
特許(EP−A)第626386号明細書中に記載の酒
石酸イミド基を有する環状オルガノシロキサンは、相応
する低分子量の酒石酸イミド誘導体に比べて、より高い
HTPを有さない。
分子量のジアンヒドロヘキシット誘導体に比べて、明ら
かにより高いHTPを、従って、より良好な光学ねじり
力を、ジアンヒドロヘキシット基1つあたり有し、その
結果、同一の光学作用を得るために、より少ない量のジ
アンヒドロヘキシット基を使用すればよい。ヨーロッパ
特許(EP−A)第626386号明細書中に記載の酒
石酸イミド基を有する環状オルガノシロキサンは、相応
する低分子量の酒石酸イミド誘導体に比べて、より高い
HTPを有さない。
【0013】ジアンヒドロヘキシットは、糖アルコール
のジアンヒドロ−誘導体として2つのヒドロキシル基を
付与されており、従って、2結合性である。従って、こ
れらは、有機化学の方法で、容易に、ほぼ任意の方法
で、誘導体化することができる。
のジアンヒドロ−誘導体として2つのヒドロキシル基を
付与されており、従って、2結合性である。従って、こ
れらは、有機化学の方法で、容易に、ほぼ任意の方法
で、誘導体化することができる。
【0014】その他のオルガノシロキサンでヒドロシリ
ル化された化合物に依存して、室温での配向により、ガ
ラス転移温度上での配向及び引き続くガラス状態への引
き続く急冷により、又は室温もしくは高めた温度での重
合による配向の固定により、安定なコレステリック相を
得ることができる。ジアンヒドロヘキシット−誘導体を
含有する液晶オルガノシロキサンで、右らせん及び左ら
せんの両方を誘導することができる。左らせん及び右ら
せん液晶オルガノシロキサンは、左もしくは右偏光の選
択的反射を示す。
ル化された化合物に依存して、室温での配向により、ガ
ラス転移温度上での配向及び引き続くガラス状態への引
き続く急冷により、又は室温もしくは高めた温度での重
合による配向の固定により、安定なコレステリック相を
得ることができる。ジアンヒドロヘキシット−誘導体を
含有する液晶オルガノシロキサンで、右らせん及び左ら
せんの両方を誘導することができる。左らせん及び右ら
せん液晶オルガノシロキサンは、左もしくは右偏光の選
択的反射を示す。
【0015】液晶オルガノシロキサンが、キラル成分と
してのキラルジアンヒドロヘキシット−誘導体と並ん
で、なお他の、後続のラジカル架橋又はイオン架橋を可
能にするメソゲン基を有するのが有利である。
してのキラルジアンヒドロヘキシット−誘導体と並ん
で、なお他の、後続のラジカル架橋又はイオン架橋を可
能にするメソゲン基を有するのが有利である。
【0016】液晶オルガノシロキサン中のキラルジアン
ヒドロヘキシット含有基の含有率及びジアンヒドロヘキ
シット含有基とその他のメソゲン基との比を変化させる
ことにより、選択反射の反射波長を調節することができ
る。可視領域の反射を得るために、その高いHTP−値
に基づき、全てのオルガノシロキサン中に存在するメソ
ゲン基に対して、ジアンヒドロヘキシット含有基2〜1
0モル%の割合のみが必要であるのに対して、相応する
コレステリン含有オルガノシロキサンでは、コレステリ
ル基40〜50モル%を、かつ相応する酒石酸イミド含
有オルガノシロキサンでは、酒石酸イミド基10〜20
モル%が必要である。
ヒドロヘキシット含有基の含有率及びジアンヒドロヘキ
シット含有基とその他のメソゲン基との比を変化させる
ことにより、選択反射の反射波長を調節することができ
る。可視領域の反射を得るために、その高いHTP−値
に基づき、全てのオルガノシロキサン中に存在するメソ
ゲン基に対して、ジアンヒドロヘキシット含有基2〜1
0モル%の割合のみが必要であるのに対して、相応する
コレステリン含有オルガノシロキサンでは、コレステリ
ル基40〜50モル%を、かつ相応する酒石酸イミド含
有オルガノシロキサンでは、酒石酸イミド基10〜20
モル%が必要である。
【0017】ジアンヒドロヘキシット−誘導体は、存在
するジアンヒドロヘキシット−群、即ち式:
するジアンヒドロヘキシット−群、即ち式:
【0018】
【化3】
【0019】[式中、記号R及びSは、それぞれ炭素原
子でのカーンインゴールドプレローグによるR/S−表
示に相応する絶対配置を定義している]を有するジアン
ヒドロソルビット、ジアンヒドロマンニットもしくはジ
アンヒドロイジットのいずれか1つを有する。
子でのカーンインゴールドプレローグによるR/S−表
示に相応する絶対配置を定義している]を有するジアン
ヒドロソルビット、ジアンヒドロマンニットもしくはジ
アンヒドロイジットのいずれか1つを有する。
【0020】液晶オルガノシロキサンは、1分子当た
り、一般式(1): M1−Hexit−M2 (1) [式中、Hexitは、前記のジアンヒドロヘキシット
−基を表し、M1は、一般式(2): R1−(A1)a−Z1 r−(A2)b−X1− (2) の基を表し、かつM2は、一般式(2)の基又は一般式
(3): R2−R3−(A3)c−Z2 s−(A4)d−X2− (3) の基を表し、ここで、前記の一般式(2)及び(3)中
で、R1及びR3は、それぞれ、式:CnHmの基を表
し、その際、1つ又はそれ以上の隣り合わないメチレン
単位が、酸素原子又はジメチルシリル基により代えられ
ていてよく、R2は、重合可能なエチレン系不飽和基又
はアルコキシシロキシ基又はコレステリル基、ドリステ
ロール基(Doristerolrest)、ハロゲン原子、水素原子、
ヒドロキシル基、ニトリル基及びそのアルキル基がそれ
ぞれ1〜8個の炭素原子を有するトリアルキルシロキシ
基を表し、A1、A2、A3及びA4は、同じか、又は異な
る2結合性基、即ち、1,4−フェニレン基、1,4−
シクロヘキシレン基、1〜10個の炭素原子を有する置
換されたアリーレン、1〜10個の炭素原子を有する置
換されたシクロアルキレン及び1〜10個の炭素原子を
有するヘテロアリーレンを表し、X1及びX2は、群−O
CO−、−NHCO−、−CO−又は基R1からの同じ
か、又は異なる2結合性基を表し、Z1及びZ2は、群−
(CH2)q−、−COO−、−CH=CH−、−N=N
−、−N=N(O)−、−OCO−、−CH2CO−、−
COCH2−、−CH2−O−、−O−CH2−、−CH2
−NH−、−NH−CH2−、−CONH−、−NHC
O−、−N=CH−又は−CH=N−からの同じか、又
は異なる2結合性基を表し、a、b、c及びdはそれぞ
れ、0、1、2又は3の値の同じか、又は異なる整数を
表し、nは、0〜20の値の整数を表し、mは、2nの
値を有するか、又はnが、少なくとも2を表す場合に
は、(2n−2)の値を有することもでき、qは、1、
2又は3の値の整数を表し、r及びsはそれぞれ、0又
は1の値の整数を表す]のSi−C結合されたジアンヒ
ドロヘキシット−誘導体少なくとも1つを、キラル成分
として有するのが有利である。
り、一般式(1): M1−Hexit−M2 (1) [式中、Hexitは、前記のジアンヒドロヘキシット
−基を表し、M1は、一般式(2): R1−(A1)a−Z1 r−(A2)b−X1− (2) の基を表し、かつM2は、一般式(2)の基又は一般式
(3): R2−R3−(A3)c−Z2 s−(A4)d−X2− (3) の基を表し、ここで、前記の一般式(2)及び(3)中
で、R1及びR3は、それぞれ、式:CnHmの基を表
し、その際、1つ又はそれ以上の隣り合わないメチレン
単位が、酸素原子又はジメチルシリル基により代えられ
ていてよく、R2は、重合可能なエチレン系不飽和基又
はアルコキシシロキシ基又はコレステリル基、ドリステ
ロール基(Doristerolrest)、ハロゲン原子、水素原子、
ヒドロキシル基、ニトリル基及びそのアルキル基がそれ
ぞれ1〜8個の炭素原子を有するトリアルキルシロキシ
基を表し、A1、A2、A3及びA4は、同じか、又は異な
る2結合性基、即ち、1,4−フェニレン基、1,4−
シクロヘキシレン基、1〜10個の炭素原子を有する置
換されたアリーレン、1〜10個の炭素原子を有する置
換されたシクロアルキレン及び1〜10個の炭素原子を
有するヘテロアリーレンを表し、X1及びX2は、群−O
CO−、−NHCO−、−CO−又は基R1からの同じ
か、又は異なる2結合性基を表し、Z1及びZ2は、群−
(CH2)q−、−COO−、−CH=CH−、−N=N
−、−N=N(O)−、−OCO−、−CH2CO−、−
COCH2−、−CH2−O−、−O−CH2−、−CH2
−NH−、−NH−CH2−、−CONH−、−NHC
O−、−N=CH−又は−CH=N−からの同じか、又
は異なる2結合性基を表し、a、b、c及びdはそれぞ
れ、0、1、2又は3の値の同じか、又は異なる整数を
表し、nは、0〜20の値の整数を表し、mは、2nの
値を有するか、又はnが、少なくとも2を表す場合に
は、(2n−2)の値を有することもでき、qは、1、
2又は3の値の整数を表し、r及びsはそれぞれ、0又
は1の値の整数を表す]のSi−C結合されたジアンヒ
ドロヘキシット−誘導体少なくとも1つを、キラル成分
として有するのが有利である。
【0021】液晶オルガノシロキサンは、一般式(4)
〜(6):
〜(6):
【0022】
【化4】
【0023】[式中、Bは、一般式(1)の基及び場合
により一般式(7): R4−(A5)x−Z3 t−(A6)y−Z4 u−(A7)z−A8 (7) の基を表し、ここで、前記の式(4)〜(7)中、R
は、同じか、又は異なる、場合により置換されたC1〜
C18−炭化水素基であり、e及びgは、それぞれ1〜1
00の値の整数であり、f、h、i及びjは、それぞ
れ、0〜100の値の整数であり、R4は、R1の意味を
有し、A5、A6、A7は、A1の意味を有し、Z3及びZ4
は、Z1の意味を有し、A8は、それぞれ1〜16個の炭
素原子を有し、飽和又はオレフィン系不飽和の場合によ
り置換されたアルキル基、アルコキシ基又はシクロアル
キル基、コレスタン基、コレステリル基、ドリステロー
ル基、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル基、ニト
リル基、(メタ)アクリルオキシ基、(メタ)アクリル
オキシエチレンオキシ基、(メタ)アクリルオキシジ
(エチレンオキシ)基、(メタ)アクリルオキシトリ
(エチレンオキシ)基、R−テトラヒドロフランカルボ
ン酸エステル又はS−テトラヒドロフランカルボン酸エ
ステル及びそのアルキル基もしくはアルコキシ基が、1
〜8個の炭素原子を有するトリアルキルシロキシ基又は
トリアルコキシシロキシ基を表し、x、y及びzがそれ
ぞれ、0、1、2及び3の値の同じか、又は異なる整数
を表し、かつt及びuは、rの意味を有するが、但し、
e+fの合計は、少なくとも2である]により構成され
ているのが有利である。
により一般式(7): R4−(A5)x−Z3 t−(A6)y−Z4 u−(A7)z−A8 (7) の基を表し、ここで、前記の式(4)〜(7)中、R
は、同じか、又は異なる、場合により置換されたC1〜
C18−炭化水素基であり、e及びgは、それぞれ1〜1
00の値の整数であり、f、h、i及びjは、それぞ
れ、0〜100の値の整数であり、R4は、R1の意味を
有し、A5、A6、A7は、A1の意味を有し、Z3及びZ4
は、Z1の意味を有し、A8は、それぞれ1〜16個の炭
素原子を有し、飽和又はオレフィン系不飽和の場合によ
り置換されたアルキル基、アルコキシ基又はシクロアル
キル基、コレスタン基、コレステリル基、ドリステロー
ル基、ハロゲン原子、水素原子、ヒドロキシル基、ニト
リル基、(メタ)アクリルオキシ基、(メタ)アクリル
オキシエチレンオキシ基、(メタ)アクリルオキシジ
(エチレンオキシ)基、(メタ)アクリルオキシトリ
(エチレンオキシ)基、R−テトラヒドロフランカルボ
ン酸エステル又はS−テトラヒドロフランカルボン酸エ
ステル及びそのアルキル基もしくはアルコキシ基が、1
〜8個の炭素原子を有するトリアルキルシロキシ基又は
トリアルコキシシロキシ基を表し、x、y及びzがそれ
ぞれ、0、1、2及び3の値の同じか、又は異なる整数
を表し、かつt及びuは、rの意味を有するが、但し、
e+fの合計は、少なくとも2である]により構成され
ているのが有利である。
【0024】R1、R3及びR4の例は、単位:[O(C
H2)v]wで中断されているか、又は代えられていてよ
い直線又は分枝鎖の飽和二価アルキル基であり、ここ
で、v及びwは、それぞれ1、2、3及び4の値の同じ
か、又は異なる整数であるのが有利である。例えば、単
位:[O(CH2)v]wは、ポリエチレングリコール/ポ
リプロピレングリコールブロックコポリマーであってよ
い。殊に、nは、3、4、5又は6の値で、mは、2n
の値であるのが有利である。
H2)v]wで中断されているか、又は代えられていてよ
い直線又は分枝鎖の飽和二価アルキル基であり、ここ
で、v及びwは、それぞれ1、2、3及び4の値の同じ
か、又は異なる整数であるのが有利である。例えば、単
位:[O(CH2)v]wは、ポリエチレングリコール/ポ
リプロピレングリコールブロックコポリマーであってよ
い。殊に、nは、3、4、5又は6の値で、mは、2n
の値であるのが有利である。
【0025】重合可能なエチレン系不飽和基R2は、例
えばメタクリルオキシ基、アクリルオキシ基、ビニルオ
キシ基、エチレンオキシ基又はスチリル基であってよ
い。アルコキシシロキシ基R2の例は、それらのアルキ
ル基及びアルコキシ基が、1〜8個の炭素原子を有する
トリアルコキシシロキシ基又はアルキルジアルコキシシ
ロキシ基である。好適なアルキル基及びアルコキシ基中
に存在するアルキル基の例は、後記の基Rで記載する。
アルキル基及びアルコキシ基は、1、2又は3個の炭素
原子を有するのが有利である。
えばメタクリルオキシ基、アクリルオキシ基、ビニルオ
キシ基、エチレンオキシ基又はスチリル基であってよ
い。アルコキシシロキシ基R2の例は、それらのアルキ
ル基及びアルコキシ基が、1〜8個の炭素原子を有する
トリアルコキシシロキシ基又はアルキルジアルコキシシ
ロキシ基である。好適なアルキル基及びアルコキシ基中
に存在するアルキル基の例は、後記の基Rで記載する。
アルキル基及びアルコキシ基は、1、2又は3個の炭素
原子を有するのが有利である。
【0026】置換されたアリーレン及び置換されたシク
ロアルキレンA1、A2、A3、A4、A5、A6及びA7の
置換基としては、ハロゲン原子、C1〜C4−アルキル基
又はアルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基が有利であ
る。
ロアルキレンA1、A2、A3、A4、A5、A6及びA7の
置換基としては、ハロゲン原子、C1〜C4−アルキル基
又はアルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基が有利であ
る。
【0027】合計a+b及びc+dは、それぞれ1又は
2であるのが有利である。
2であるのが有利である。
【0028】Rの例は、アルキル基、例えばメチル基、
エチル基、n−プロピル基、イソ−プロピル基、n−ブ
チル基、イソ−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル
基、イソ−ペンチル基、ネオ−ペンチル基、t−ペンチ
ル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基;ヘプチル
基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、例えばn−オ
クチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,2,4−ト
リメチルペンチル基;ノニル基、例えばn−ノニル基;
デシル基、例えばn−デシル基、ドデシル基、例えばn
−ドデシル基;オクタデシル基、例えばn−オクタデシ
ル基;アルケニル基、例えばビニル基、アリル基及び3
−ブテニル基;シクロアルキル基、例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びメチル
シクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基及びフェナントリル基;アルカ
リール基、例えばo−トリル基、m−トリル基、p−ト
リル基、キシリル基及びエチルフェニル基;及びアラル
キル基、例えばベンジル基、α−フェニルエチル基及び
β−フェニルエチル基である。置換された炭化水素の置
換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基又はシアノ基が
有利である。
エチル基、n−プロピル基、イソ−プロピル基、n−ブ
チル基、イソ−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル
基、イソ−ペンチル基、ネオ−ペンチル基、t−ペンチ
ル基;ヘキシル基、例えばn−ヘキシル基;ヘプチル
基、例えばn−ヘプチル基;オクチル基、例えばn−オ
クチル基及びイソ−オクチル基、例えば2,2,4−ト
リメチルペンチル基;ノニル基、例えばn−ノニル基;
デシル基、例えばn−デシル基、ドデシル基、例えばn
−ドデシル基;オクタデシル基、例えばn−オクタデシ
ル基;アルケニル基、例えばビニル基、アリル基及び3
−ブテニル基;シクロアルキル基、例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びメチル
シクロヘキシル基;アリール基、例えばフェニル基、ナ
フチル基、アントリル基及びフェナントリル基;アルカ
リール基、例えばo−トリル基、m−トリル基、p−ト
リル基、キシリル基及びエチルフェニル基;及びアラル
キル基、例えばベンジル基、α−フェニルエチル基及び
β−フェニルエチル基である。置換された炭化水素の置
換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基又はシアノ基が
有利である。
【0029】基Rとしては、C1〜C4−アルキル基及び
フェニル基、殊に、メチル基が有利である。
フェニル基、殊に、メチル基が有利である。
【0030】ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭
素及びヨウ素、殊にフッ素、塩素及び臭素が、これに該
当する。
素及びヨウ素、殊にフッ素、塩素及び臭素が、これに該
当する。
【0031】e及びgは、それぞれ、少なくとも1、殊
に少なくとも2の値の整数であるのが有利である。f、
h、i及びjは、それぞれ、0〜35の整数であるのが
有利である。合計e+fは、最低で4、かつ最高で15
であるのが有利である。合計g+hは、最低で2、かつ
最高で35であるのが有利である。合計i+jは、最高
で10であるのが有利である。
に少なくとも2の値の整数であるのが有利である。f、
h、i及びjは、それぞれ、0〜35の整数であるのが
有利である。合計e+fは、最低で4、かつ最高で15
であるのが有利である。合計g+hは、最低で2、かつ
最高で35であるのが有利である。合計i+jは、最高
で10であるのが有利である。
【0032】それぞれ1〜16個の炭素原子を有する適
当な飽和又はオレフィン系不飽和アルキル基、アルコキ
シ基又はシクロアルキル基A8の例は、前記の基Rの所
に記載されている。アルキル基及びアルコキシ基は、炭
素原子1〜8個を有するのが有利である。
当な飽和又はオレフィン系不飽和アルキル基、アルコキ
シ基又はシクロアルキル基A8の例は、前記の基Rの所
に記載されている。アルキル基及びアルコキシ基は、炭
素原子1〜8個を有するのが有利である。
【0033】置換基A8の例は、シアンアルキル基、例
えば2−シアンエチル基、ハロゲンアルキル基、殊に、
ペルフルオルアルキル基、例えばヘプタフルオルプロピ
ル基、ハロゲンアリール基、例えばo−クロルフェニル
基、m−クロルフェニル基及びp−クロルフェニル基及
びシアノアリール基、例えばシアノフェニル基である。
えば2−シアンエチル基、ハロゲンアルキル基、殊に、
ペルフルオルアルキル基、例えばヘプタフルオルプロピ
ル基、ハロゲンアリール基、例えばo−クロルフェニル
基、m−クロルフェニル基及びp−クロルフェニル基及
びシアノアリール基、例えばシアノフェニル基である。
【0034】置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基
又はシアノ基が有利である。
又はシアノ基が有利である。
【0035】合計x+y+zは、1、2又は3であるの
が有利である。
が有利である。
【0036】合計t+uは、1又は2であるのが有利で
ある。
ある。
【0037】一般式(1)の化合物としては、式中のM
1、即ち、一般式(2)が、一般式(8):
1、即ち、一般式(2)が、一般式(8):
【0038】
【化5】
【0039】[式中、oは、数3又は4を表し、かつ
Z1、A2、X1、r及びbは、前記の意味を有する]を表
すジアンヒドロヘキシット−誘導体が有利である。
Z1、A2、X1、r及びbは、前記の意味を有する]を表
すジアンヒドロヘキシット−誘導体が有利である。
【0040】ヘキシットは、ジアンヒドロソルビット又
はジアンヒドロマンニットを意味するのが有利である。
はジアンヒドロマンニットを意味するのが有利である。
【0041】一般式(7)の化合物としては、一般式
(9):
(9):
【0042】
【化6】
【0043】[式中、pは、数3又は4を表し、かつ
Z3、Z4、A6、A7、A8、t、u、y及びzは、前記
の意味を有する]のものが殊に有利である。
Z3、Z4、A6、A7、A8、t、u、y及びzは、前記
の意味を有する]のものが殊に有利である。
【0044】tは、値1を、かつy及びzは、それぞれ
値0又は1を有するのが有利である。yが、値1を有し
うる場合には、uは、値0又は1を有し、yが、値0を
有する場合には、uは、値0を有する。
値0又は1を有するのが有利である。yが、値1を有し
うる場合には、uは、値0又は1を有し、yが、値0を
有する場合には、uは、値0を有する。
【0045】ジアンヒドロヘキシット−誘導体含有液晶
オルガノシロキサンは、オルガノシロキサン及び/又は
オルガノシロキサンに縮合可能なオルガノシランと、一
般式(1)及び場合により一般式(7)のメソゲン基を
有するアルケン又はアルキンとを反応させることにより
製造することができ、その際、オルガノシロキサン及び
少なくとも1部のオルガノシランは、少なくとも1つの
直接ケイ素に結合している水素原子を有する。
オルガノシロキサンは、オルガノシロキサン及び/又は
オルガノシロキサンに縮合可能なオルガノシランと、一
般式(1)及び場合により一般式(7)のメソゲン基を
有するアルケン又はアルキンとを反応させることにより
製造することができ、その際、オルガノシロキサン及び
少なくとも1部のオルガノシランは、少なくとも1つの
直接ケイ素に結合している水素原子を有する。
【0046】有利な前記の一般式(4)〜(6)のジア
ンヒドロヘキシット誘導体含有液晶オルガノシロキサン
の有利な製法においては、一般式(10)〜(12):
ンヒドロヘキシット誘導体含有液晶オルガノシロキサン
の有利な製法においては、一般式(10)〜(12):
【0047】
【化7】
【0048】のオルガノシロキサン及び/又は一般式
(13): HRSiY1Y2 (13) のオルガノシランと、一般式(14): M3−Hexit−M2 (14) の化合物及び場合により一般式(15): R5−(A5)x−Z3 t−(A6)y−Z4 u−(A7)z−A8 (15) の化合物とを反応させ、かつ一般式(13)のオルガノ
シランを使用する場合には、一般式(16): BRSiY1Y2 (16) の得られたオルガノシランを縮合させ、その際、前記の
式(10)〜(16)中で、M3は、一般式(17): R6−(A1)a−Z1 r−(A2)b−X1− (17) の基を表し、Y1は、縮合可能な基を表し、Y2は、縮合
可能な基又は基Rを表し、R5及びR6は、それぞれ式:
CαHβ(ここで、1つ又はそれ以上の隣接しないメチ
レン単位は、酸素原子又はジメチルシリル基で代えられ
ていてよく、かつαは、nの意味を有し、かつβは、2
α−1又は2α−3の値を有する)の基を表し、かつ
R、M2、A1、A2、A5、A6、A7、A8、Z1、Z3、
Z4、B、X1、a、b、e、f、g、h、i、j、t、
u、r、x、y及びzは、前記の意味を有する。
(13): HRSiY1Y2 (13) のオルガノシランと、一般式(14): M3−Hexit−M2 (14) の化合物及び場合により一般式(15): R5−(A5)x−Z3 t−(A6)y−Z4 u−(A7)z−A8 (15) の化合物とを反応させ、かつ一般式(13)のオルガノ
シランを使用する場合には、一般式(16): BRSiY1Y2 (16) の得られたオルガノシランを縮合させ、その際、前記の
式(10)〜(16)中で、M3は、一般式(17): R6−(A1)a−Z1 r−(A2)b−X1− (17) の基を表し、Y1は、縮合可能な基を表し、Y2は、縮合
可能な基又は基Rを表し、R5及びR6は、それぞれ式:
CαHβ(ここで、1つ又はそれ以上の隣接しないメチ
レン単位は、酸素原子又はジメチルシリル基で代えられ
ていてよく、かつαは、nの意味を有し、かつβは、2
α−1又は2α−3の値を有する)の基を表し、かつ
R、M2、A1、A2、A5、A6、A7、A8、Z1、Z3、
Z4、B、X1、a、b、e、f、g、h、i、j、t、
u、r、x、y及びzは、前記の意味を有する。
【0049】Y2がRを表さない場合には、Y1及びY2
は、ハロゲン原子又はC1〜C4−アルコキシ基を、殊に
塩素原子又はメトキシ基又はエトキシ基を表すのが有利
である。
は、ハロゲン原子又はC1〜C4−アルコキシ基を、殊に
塩素原子又はメトキシ基又はエトキシ基を表すのが有利
である。
【0050】前記の一般式(15)及び(17)中で、
R5及びR6は、末端位で不飽和である。αは、値3〜
7、殊に、値3及び4を有するのが有利である。
R5及びR6は、末端位で不飽和である。αは、値3〜
7、殊に、値3及び4を有するのが有利である。
【0051】一般式(15)の特に有利な化合物は、一
般式(18):
般式(18):
【0052】
【化8】
【0053】[式中、Xは、数1又は2を表し、かつ
Z3、Z4、A6、A7、A8、t、u、y及びzは、前記
の意味を有する]のものである。
Z3、Z4、A6、A7、A8、t、u、y及びzは、前記
の意味を有する]のものである。
【0054】一般式(14)及び(15)の化合物は、
直接ケイ素に結合されている水素原子を、ヒドロシリル
化することができる。
直接ケイ素に結合されている水素原子を、ヒドロシリル
化することができる。
【0055】前記の一般式(4)〜(6)中のe、f、
g、h、i及びjに関して記載された有利な値及び合計
は、一般式(10)〜(12)にも当てはまる。
g、h、i及びjに関して記載された有利な値及び合計
は、一般式(10)〜(12)にも当てはまる。
【0056】直接ケイ素に結合されている水素原子を有
するオルガノシロキサン及び/又はオルガノシロキサン
に縮合可能なオルガノシランと、一般式(14)及び
(15)のアルケン又はアルキンとの反応を、自体公知
の方法、例えば、溶剤、例えば炭化水素、エーテル又は
エステル中で、触媒として白金群の金属又は化合物を用
いるヒドロシリル化により行う。ヒドロシリル化のため
の適当な方法は、例えば、ヨーロッパ特許(EP−A)
第358208号明細書中に記載されている。直接ケイ
素原子に結合されている水素原子1グラム原子当たり、
一般式(1)及び(7)の化合物0.1〜10モル、殊
に、0.2〜2モルを、ヒドロシリル化の際に使用する
のが有利である。
するオルガノシロキサン及び/又はオルガノシロキサン
に縮合可能なオルガノシランと、一般式(14)及び
(15)のアルケン又はアルキンとの反応を、自体公知
の方法、例えば、溶剤、例えば炭化水素、エーテル又は
エステル中で、触媒として白金群の金属又は化合物を用
いるヒドロシリル化により行う。ヒドロシリル化のため
の適当な方法は、例えば、ヨーロッパ特許(EP−A)
第358208号明細書中に記載されている。直接ケイ
素原子に結合されている水素原子1グラム原子当たり、
一般式(1)及び(7)の化合物0.1〜10モル、殊
に、0.2〜2モルを、ヒドロシリル化の際に使用する
のが有利である。
【0057】前記の方法で、例えば一般式(13)のオ
ルガノシランを使用する場合には、これらを、一般式
(1)のジアンヒドロヘキシット誘導体含有オルガノシ
ラン又はオルガノシロキサンと一緒に、自体公知の方法
で縮合させて、液晶オルガノシロキサンにする。これ
は、殊に酸、例えば塩酸水溶液と反応させることにより
行うことができる。このような方法は、W.Noll:Chemist
ry and Technology of Silicones, Academic Press, Or
lando Fla., 1968, P191-239に記載されている。記載の
反応により、種々異なる分子の混合物が得られる。
ルガノシランを使用する場合には、これらを、一般式
(1)のジアンヒドロヘキシット誘導体含有オルガノシ
ラン又はオルガノシロキサンと一緒に、自体公知の方法
で縮合させて、液晶オルガノシロキサンにする。これ
は、殊に酸、例えば塩酸水溶液と反応させることにより
行うことができる。このような方法は、W.Noll:Chemist
ry and Technology of Silicones, Academic Press, Or
lando Fla., 1968, P191-239に記載されている。記載の
反応により、種々異なる分子の混合物が得られる。
【0058】本発明は、液晶ジアンヒドロヘキシット−
誘導体含有オルガノシロキサンの製造の際の中間体であ
る一般式(14)のジアンヒドロヘキシット−誘導体に
も関する。ジアンヒドロヘキシット−誘導体の合成は、
例えば次の方法で行うことができる:ジアンヒドロヘキ
シットを、既に有機化学で公知の方法でオレフィン系又
はアセチレン系基を導入されたカルボン酸又はカルボン
酸塩化物を用いて、不活性溶剤中で、室温又は高めた温
度で、場合により活性の、水と結合する、又は酸と結合
する助剤の添加下に、自体公知の方法でエステル化す
る。
誘導体含有オルガノシロキサンの製造の際の中間体であ
る一般式(14)のジアンヒドロヘキシット−誘導体に
も関する。ジアンヒドロヘキシット−誘導体の合成は、
例えば次の方法で行うことができる:ジアンヒドロヘキ
シットを、既に有機化学で公知の方法でオレフィン系又
はアセチレン系基を導入されたカルボン酸又はカルボン
酸塩化物を用いて、不活性溶剤中で、室温又は高めた温
度で、場合により活性の、水と結合する、又は酸と結合
する助剤の添加下に、自体公知の方法でエステル化す
る。
【0059】前記の一般式(16)の新規のオルガノシ
ランは、液晶オルガノシロキサンの製造の際の中間体と
して、同じく、本発明の目的である。
ランは、液晶オルガノシロキサンの製造の際の中間体と
して、同じく、本発明の目的である。
【0060】液晶ジアンヒドロヘキシット−誘導体含有
オルガノシロキサンは、種々の方法で、光学素子中に、
装飾目的に、かつ偏光カラーフィルター、殊に、ノッチ
−フィルターとして使用することができる。これらは、
光の右偏光又は左偏光される分を、特定の所定のスペク
トル範囲で反射することを可能にする。
オルガノシロキサンは、種々の方法で、光学素子中に、
装飾目的に、かつ偏光カラーフィルター、殊に、ノッチ
−フィルターとして使用することができる。これらは、
光の右偏光又は左偏光される分を、特定の所定のスペク
トル範囲で反射することを可能にする。
【0061】前記の使用のために、ジアンヒドロヘキシ
ット−誘導体含有液晶オルガノシロキサン相互の混合物
も、このオルガノシロキサンとその他の液晶材料との、
液晶特性に本質的に負に影響しない材料との混合物も、
又は純粋なジアンヒドロヘキシット−誘導体含有オルガ
ノシロキサンも使用することができる。殊に、その他の
液晶物質との混合物も使用することができ、これによ
り、例えば、400nm右らせんから、赤外右らせん、
ネマチック(=無限ピッチ)、赤外左らせんを介して、
400nm左らせんまで反射波長を調節することができ
る。
ット−誘導体含有液晶オルガノシロキサン相互の混合物
も、このオルガノシロキサンとその他の液晶材料との、
液晶特性に本質的に負に影響しない材料との混合物も、
又は純粋なジアンヒドロヘキシット−誘導体含有オルガ
ノシロキサンも使用することができる。殊に、その他の
液晶物質との混合物も使用することができ、これによ
り、例えば、400nm右らせんから、赤外右らせん、
ネマチック(=無限ピッチ)、赤外左らせんを介して、
400nm左らせんまで反射波長を調節することができ
る。
【0062】液晶ジアンヒドロヘキシット−誘導体含有
オルガノシロキサン相互の、かつその他の液晶材料との
混合物も同じく、本発明の目的である。このような混合
物のその他の成分は、例えば、モノマー液晶メタクリル
酸エステル及び/又はアクリル酸エステルであってよ
い。メタクリルオキシ基及び/又はアクリルオキシ基を
有する成分からなる液晶混合物は、自体公知の方法で重
合させ、かつ成分の適当な選択で架橋させることもでき
る。
オルガノシロキサン相互の、かつその他の液晶材料との
混合物も同じく、本発明の目的である。このような混合
物のその他の成分は、例えば、モノマー液晶メタクリル
酸エステル及び/又はアクリル酸エステルであってよ
い。メタクリルオキシ基及び/又はアクリルオキシ基を
有する成分からなる液晶混合物は、自体公知の方法で重
合させ、かつ成分の適当な選択で架橋させることもでき
る。
【0063】一般式(1)及び/又は(7)のメソゲン
基中に、メタクリルオキシ基及び/又はアクリルオキシ
基を有する液晶ジアンヒドロヘキシット−誘導体含有オ
ルガノシロキサンは、三次元的に架橋することができ
る。この架橋を、過酸化物により、UV−光により又は
UV−光としての高エネルギー電磁放射により、又は熱
的に生じる遊離のラディカルにより行うのが有利であ
る。しかし、この架橋を、直接、ケイ素原子に結合され
ている水素原子を含有する架橋剤を用いて、前記の白金
金属触媒の触媒作用下に行うこともできる。これらは、
カチオン又はアニオンにより行うこともできる。UV−
光による架橋が、特に有利である。これらの架橋は、米
国特許(US−A)第5211877号明細書に記載さ
れている。
基中に、メタクリルオキシ基及び/又はアクリルオキシ
基を有する液晶ジアンヒドロヘキシット−誘導体含有オ
ルガノシロキサンは、三次元的に架橋することができ
る。この架橋を、過酸化物により、UV−光により又は
UV−光としての高エネルギー電磁放射により、又は熱
的に生じる遊離のラディカルにより行うのが有利であ
る。しかし、この架橋を、直接、ケイ素原子に結合され
ている水素原子を含有する架橋剤を用いて、前記の白金
金属触媒の触媒作用下に行うこともできる。これらは、
カチオン又はアニオンにより行うこともできる。UV−
光による架橋が、特に有利である。これらの架橋は、米
国特許(US−A)第5211877号明細書に記載さ
れている。
【0064】
【実施例】次の例中では、それぞれ他に記載が無い限
り、 a)量の表示は全て、重量に関し; b)圧力は全て、0.10MPa(絶対)であり; c)温度は全て、20℃であり; d)HTP=らせんねじり力(helical twisting powe
r); e)WOR=反射波長 f)LC=液晶 g)ABChol=4−アリルオキシ安息香酸コレステ
リンエステル h)ABDor=4−アリルオキシ安息香酸ドリステリ
ルエステルである。
り、 a)量の表示は全て、重量に関し; b)圧力は全て、0.10MPa(絶対)であり; c)温度は全て、20℃であり; d)HTP=らせんねじり力(helical twisting powe
r); e)WOR=反射波長 f)LC=液晶 g)ABChol=4−アリルオキシ安息香酸コレステ
リンエステル h)ABDor=4−アリルオキシ安息香酸ドリステリ
ルエステルである。
【0065】例で、ジアンヒドロヘキシット−誘導体1
〜5を製造した。これらは、次の一般的な処理方法で製
造することができる:イソソルビット24ミリモル及び
ω−アルケニルオキシ酸塩化物もしくはω−アルキニル
オキシ−酸塩化物48ミリモルを、トルエン40ml中
に溶かし、かつ12時間、還流下に加熱する。トルエン
を真空中で留去し、かつ粗製生成物を、エタノールもし
くはイソプロパノールから再結晶させる。
〜5を製造した。これらは、次の一般的な処理方法で製
造することができる:イソソルビット24ミリモル及び
ω−アルケニルオキシ酸塩化物もしくはω−アルキニル
オキシ−酸塩化物48ミリモルを、トルエン40ml中
に溶かし、かつ12時間、還流下に加熱する。トルエン
を真空中で留去し、かつ粗製生成物を、エタノールもし
くはイソプロパノールから再結晶させる。
【0066】
【化9】
【0067】ジアンヒドロヘキシット−誘導体6を、次
の方法で製造した:イソソルビット−ビス(4−ヒドロ
キシ)ベンゾエート5g(12.95ミリモル)及びト
リエチルアミン3mlを、アセトン50ml中に溶か
し、かつこの混合物に、5〜10℃で塩化メタクリル酸
3g(28.7ミリモル)を滴加する。室温で2時間撹
拌し、氷上に注ぎ、かつ希HClで酸性にする。この混
合物を、それぞれt−ブチル−メチルエーテル50ml
で2回抽出し、合わせた有機相を中性まで洗浄し、かつ
硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を、真空中で留去
し、かつ粗製生成物をシリカゲルでのカラムクロマトグ
ラフィー処理により精製した(溶離剤:石油エーテル/
酢酸エチル2:1)。収率:2.34g。
の方法で製造した:イソソルビット−ビス(4−ヒドロ
キシ)ベンゾエート5g(12.95ミリモル)及びト
リエチルアミン3mlを、アセトン50ml中に溶か
し、かつこの混合物に、5〜10℃で塩化メタクリル酸
3g(28.7ミリモル)を滴加する。室温で2時間撹
拌し、氷上に注ぎ、かつ希HClで酸性にする。この混
合物を、それぞれt−ブチル−メチルエーテル50ml
で2回抽出し、合わせた有機相を中性まで洗浄し、かつ
硫酸ナトリウム上で乾燥させる。溶剤を、真空中で留去
し、かつ粗製生成物をシリカゲルでのカラムクロマトグ
ラフィー処理により精製した(溶離剤:石油エーテル/
酢酸エチル2:1)。収率:2.34g。
【0068】
【化10】
【0069】例1 (モノマーのドーピングに対してヒ
ドロシリル化) ペンタメチルシクロペンタシロキサン及び4−アリルオ
キシ安息香酸−4−シアノフェニルエステルのヒドロシ
リル化生成物に、イソソルビット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート2.73重量%を混合すると、92
7nmの反射波長が生ずる。しかし、4−アリルオキシ
安息香酸−4−シアノフェニルエステル及びイソソルビ
ット−ビス(4−アリルオキシ)ベンゾエートを一緒に
ペンタメチルシクロペンタシロキサンでヒドロシリル化
すると、生成物中に2.73重量%のイソソルビット−
誘導体濃度で、698nmの反射波長、即ち、短波光へ
200nmを上回る移動が生じる。
ドロシリル化) ペンタメチルシクロペンタシロキサン及び4−アリルオ
キシ安息香酸−4−シアノフェニルエステルのヒドロシ
リル化生成物に、イソソルビット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート2.73重量%を混合すると、92
7nmの反射波長が生ずる。しかし、4−アリルオキシ
安息香酸−4−シアノフェニルエステル及びイソソルビ
ット−ビス(4−アリルオキシ)ベンゾエートを一緒に
ペンタメチルシクロペンタシロキサンでヒドロシリル化
すると、生成物中に2.73重量%のイソソルビット−
誘導体濃度で、698nmの反射波長、即ち、短波光へ
200nmを上回る移動が生じる。
【0070】イソソルビット−ビス(4−アリルオキ
シ)ベンゾエート0.07g(0.15ミリモル)(2
モル%、調製LC中2.73重量%に相当)及び4−ア
リルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステル2g
(7.17ミリモル)を、トルエン中に溶かし、ペンタ
メチルシクロペンタシロキサン0.49g(1.63ミ
リモル)及びジシクロペンタジエニル−白金ジクロリド
200ppmを添加し、かつこの混合物を、還流下に2
時間加熱する。溶剤を、真空中で留去する。生じる液晶
は、コレステリック相を示す。2枚のガラス相の間に調
製すると、室温で698nmのWORが生じる。右偏光
が反射される。
シ)ベンゾエート0.07g(0.15ミリモル)(2
モル%、調製LC中2.73重量%に相当)及び4−ア
リルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステル2g
(7.17ミリモル)を、トルエン中に溶かし、ペンタ
メチルシクロペンタシロキサン0.49g(1.63ミ
リモル)及びジシクロペンタジエニル−白金ジクロリド
200ppmを添加し、かつこの混合物を、還流下に2
時間加熱する。溶剤を、真空中で留去する。生じる液晶
は、コレステリック相を示す。2枚のガラス相の間に調
製すると、室温で698nmのWORが生じる。右偏光
が反射される。
【0071】比較例1−1(イソソルビット−ビス(4
−アリルオキシ)ベンゾエートの混合):4−アリルオ
キシ安息香酸−4−シアノフェニルエステルのペンタメ
チルシクロペンタシロキサンでのヒドロシリル化生成物
9.727gに、イソソルビット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート0.273g(2.73重量%)を
混合し、かつ生ずるコレステリック混合物を、2枚のガ
ラスプレートの間に調製する。室温で927nmのWO
Rが生じる。右偏光が反射される。
−アリルオキシ)ベンゾエートの混合):4−アリルオ
キシ安息香酸−4−シアノフェニルエステルのペンタメ
チルシクロペンタシロキサンでのヒドロシリル化生成物
9.727gに、イソソルビット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート0.273g(2.73重量%)を
混合し、かつ生ずるコレステリック混合物を、2枚のガ
ラスプレートの間に調製する。室温で927nmのWO
Rが生じる。右偏光が反射される。
【0072】比較例1−2(イソソルビット−ビス(4
−メタクリロイルオキシ)ベンゾエートの混合):4−
アリルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステルの
ペンタメチルシクロペンタシロキサンでのヒドロシリル
化生成物204.14mgに、イソソルビット−ビス
(4−メタクリロイルオキシ)ベンゾエート5.75m
g(2.74重量%)を混合し、かつ生ずるコレステリ
ック混合物を、2枚のガラスプレートの間に調製する。
室温で1031nmのWORが生じる。右偏光が、反射
される。
−メタクリロイルオキシ)ベンゾエートの混合):4−
アリルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステルの
ペンタメチルシクロペンタシロキサンでのヒドロシリル
化生成物204.14mgに、イソソルビット−ビス
(4−メタクリロイルオキシ)ベンゾエート5.75m
g(2.74重量%)を混合し、かつ生ずるコレステリ
ック混合物を、2枚のガラスプレートの間に調製する。
室温で1031nmのWORが生じる。右偏光が、反射
される。
【0073】例2(ABDorに対してイソソルビット
の使用):テトラメチルシクロテトラシロキサン0.4
8g(2.0ミリモル)、4−アリルオキシ安息香酸−
4−シアノフェニルエステル2g(7.17ミリモル)
(95モル%)及びイソソルビット−ビス(4−(3−
ブテニルオキシ)ベンゾエート)0.19g(0.38
ミリモル)(5モル%)を、トルエン20ml中に溶か
し、かつジシクロペンタジエニル−白金ジクロリド20
0ppmを添加する。還流下に2時間加熱し、引き続
き、溶剤を真空下に留去する。生ずる液晶は、2枚のガ
ラスプレートの間に調製した後に、427nmのWOR
を有する。右偏光が反射される。
の使用):テトラメチルシクロテトラシロキサン0.4
8g(2.0ミリモル)、4−アリルオキシ安息香酸−
4−シアノフェニルエステル2g(7.17ミリモル)
(95モル%)及びイソソルビット−ビス(4−(3−
ブテニルオキシ)ベンゾエート)0.19g(0.38
ミリモル)(5モル%)を、トルエン20ml中に溶か
し、かつジシクロペンタジエニル−白金ジクロリド20
0ppmを添加する。還流下に2時間加熱し、引き続
き、溶剤を真空下に留去する。生ずる液晶は、2枚のガ
ラスプレートの間に調製した後に、427nmのWOR
を有する。右偏光が反射される。
【0074】比較例2(イソソルビット−ビス(4−
(3−ブテニルオキシ)ベンゾエート)をABDorに
代える):テトラメチルシクロテトラシロキサンで、4
−アリルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステル
95モル%及び4−アリルオキシ安息香酸ドリステリル
エステル5モル%を、例2と同様にヒドロシリル化す
る。生ずるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレー
トの間に調製した後に、1800nmのWORを有す
る。右偏光が反射される。
(3−ブテニルオキシ)ベンゾエート)をABDorに
代える):テトラメチルシクロテトラシロキサンで、4
−アリルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステル
95モル%及び4−アリルオキシ安息香酸ドリステリル
エステル5モル%を、例2と同様にヒドロシリル化す
る。生ずるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレー
トの間に調製した後に、1800nmのWORを有す
る。右偏光が反射される。
【0075】例3(ABCholもしくは酒石酸ベンゾ
エートに対してイソマンニットを使用):ペンタメチル
シクロペンタシロキサンで、4−アリルオキシ安息香酸
ビフェニルエステル67モル%、4−アリルオキシ安息
香酸コレステリンエステル30モル%及びイソマンニッ
ト−ビス(4−アリルオキシ)ベンゾエート3モル%
を、例2と同様にヒドロシリル化する。生じる液晶は、
2枚のガラスプレートの間での調製の後に515nmの
WORを有する。左偏光が反射される。
エートに対してイソマンニットを使用):ペンタメチル
シクロペンタシロキサンで、4−アリルオキシ安息香酸
ビフェニルエステル67モル%、4−アリルオキシ安息
香酸コレステリンエステル30モル%及びイソマンニッ
ト−ビス(4−アリルオキシ)ベンゾエート3モル%
を、例2と同様にヒドロシリル化する。生じる液晶は、
2枚のガラスプレートの間での調製の後に515nmの
WORを有する。左偏光が反射される。
【0076】比較例3−1(イソマンニット−ビス(4
−アリルオキシ)ベンゾエート3モル%を、ABCho
lに代える):ペンタメチルシクロペンタシロキサン
で、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル67
モル%及び4−アリルオキシ安息香酸コレステリンエス
テル33モル%を、例2と同様にヒドロシリル化する。
生じるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレートの
間での調製の後に670nmのWORを有する。左偏光
が反射される。
−アリルオキシ)ベンゾエート3モル%を、ABCho
lに代える):ペンタメチルシクロペンタシロキサン
で、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル67
モル%及び4−アリルオキシ安息香酸コレステリンエス
テル33モル%を、例2と同様にヒドロシリル化する。
生じるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレートの
間での調製の後に670nmのWORを有する。左偏光
が反射される。
【0077】比較例3−2(イソマンニット−ビス(4
−アリルオキシ)ベンゾエート3モル%を、(3R,4
R)−(+)−アリル−3,4−ビス(ベンゾイルオキ
シ)スクシンイミドに代える):ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサンで、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニ
ルエステル67モル%、4−アリルオキシ安息香酸コレ
ステリンエステル30モル%及び(3R,4R)−
(+)−アリル−3,4−ビス(ベンゾイルオキシ)ス
クシンイミド3モル%を、例2と同様にヒドロシリル化
する。生じるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレ
ートの間での調製の後に580nmのWORを有する。
左偏光が反射される。
−アリルオキシ)ベンゾエート3モル%を、(3R,4
R)−(+)−アリル−3,4−ビス(ベンゾイルオキ
シ)スクシンイミドに代える):ペンタメチルシクロペ
ンタシロキサンで、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニ
ルエステル67モル%、4−アリルオキシ安息香酸コレ
ステリンエステル30モル%及び(3R,4R)−
(+)−アリル−3,4−ビス(ベンゾイルオキシ)ス
クシンイミド3モル%を、例2と同様にヒドロシリル化
する。生じるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレ
ートの間での調製の後に580nmのWORを有する。
左偏光が反射される。
【0078】例4(ABDorに対してイソソルビット
を使用) ペンタメチルシクロペンタシロキサンで、4−アリルオ
キシ安息香酸−4−メトキシフェニルエステル40モル
%、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル40
モル%、4−アリルオキシ安息香酸ドリステリルエステ
ル18モル%及びイソソルビット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート2モル%を、例2と同様にヒドロシ
リル化する。生じる液晶は、2枚のガラスプレートの間
での調製の後に、432nmのWORを有する。右偏光
が反射される。
を使用) ペンタメチルシクロペンタシロキサンで、4−アリルオ
キシ安息香酸−4−メトキシフェニルエステル40モル
%、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル40
モル%、4−アリルオキシ安息香酸ドリステリルエステ
ル18モル%及びイソソルビット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート2モル%を、例2と同様にヒドロシ
リル化する。生じる液晶は、2枚のガラスプレートの間
での調製の後に、432nmのWORを有する。右偏光
が反射される。
【0079】比較例4(イソソルビット−ビス(4−ア
リルオキシ)ベンゾエートを、ABDorに代える):
ペンタメチルシクロペンタシロキサンで、4−アリルオ
キシ安息香酸−4−メトキシフェニルエステル40モル
%、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル40
モル%及び4−アリルオキシ安息香酸ドリステリルエス
テル20モル%を、例2と同様にヒドロシリル化する。
生じるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレートの
間での調製の後に562nmのWORを有する。右偏光
が反射される。
リルオキシ)ベンゾエートを、ABDorに代える):
ペンタメチルシクロペンタシロキサンで、4−アリルオ
キシ安息香酸−4−メトキシフェニルエステル40モル
%、4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル40
モル%及び4−アリルオキシ安息香酸ドリステリルエス
テル20モル%を、例2と同様にヒドロシリル化する。
生じるコレステリック液晶は、2枚のガラスプレートの
間での調製の後に562nmのWORを有する。右偏光
が反射される。
【0080】例5(ABCholに対してイソマンニッ
トを使用):ペンタメチルシクロペンタシロキサン1.
0g(3.33ミリモル)、4−アリルオキシ安息香酸
コレステリンエステル3.37g(6.16ミリモル)
(37モル%)及び4−アリルオキシ安息香酸ビフェニ
ルエステル1.1g(3.33ミリモル)(20モル
%)を、トルエン20ml中に溶かし、かつ反応混合物
を、ジシクロペンタジエニル−白金ジクロリド100p
pmと一緒に還流下に1時間加熱する。50℃まで冷却
し、4−アリルオキシ安息香酸−4−(メタクリロイル
オキシ)フェニルエステル2.3g(6.8ミリモル)
(40モル%)、イソマンニット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート0.23g(0.49ミリモル)
(3モル%)及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンのアルミニウム塩10mgを添加し、かつ70℃で
1時間撹拌する。溶剤を、真空下に留去する。生じるコ
レステリック液晶は、2枚のガラスプレートの間での調
製の後に、516nmのWORを有する。左偏光が反射
される。
トを使用):ペンタメチルシクロペンタシロキサン1.
0g(3.33ミリモル)、4−アリルオキシ安息香酸
コレステリンエステル3.37g(6.16ミリモル)
(37モル%)及び4−アリルオキシ安息香酸ビフェニ
ルエステル1.1g(3.33ミリモル)(20モル
%)を、トルエン20ml中に溶かし、かつ反応混合物
を、ジシクロペンタジエニル−白金ジクロリド100p
pmと一緒に還流下に1時間加熱する。50℃まで冷却
し、4−アリルオキシ安息香酸−4−(メタクリロイル
オキシ)フェニルエステル2.3g(6.8ミリモル)
(40モル%)、イソマンニット−ビス(4−アリルオ
キシ)ベンゾエート0.23g(0.49ミリモル)
(3モル%)及びN−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンのアルミニウム塩10mgを添加し、かつ70℃で
1時間撹拌する。溶剤を、真空下に留去する。生じるコ
レステリック液晶は、2枚のガラスプレートの間での調
製の後に、516nmのWORを有する。左偏光が反射
される。
【0081】比較例5(イソマンニット−ビス(4−ア
リルオキシ)ベンゾエートを、ABCholに代え
る):ペンタメチルシクロペンタシロキサンで、4−ア
リルオキシ安息香酸コレステリンエステル40モル%、
4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル20モル
%及び4−アリルオキシ安息香酸−4−(メタクリロイ
ルオキシ)フェニルエステル40モル%を、例6と同様
にヒドロシリル化する。生ずるコレステリック液晶は、
2枚のガラスプレートの間での調製の後に623nmの
WORを有する。左偏光が反射される。
リルオキシ)ベンゾエートを、ABCholに代え
る):ペンタメチルシクロペンタシロキサンで、4−ア
リルオキシ安息香酸コレステリンエステル40モル%、
4−アリルオキシ安息香酸ビフェニルエステル20モル
%及び4−アリルオキシ安息香酸−4−(メタクリロイ
ルオキシ)フェニルエステル40モル%を、例6と同様
にヒドロシリル化する。生ずるコレステリック液晶は、
2枚のガラスプレートの間での調製の後に623nmの
WORを有する。左偏光が反射される。
【0082】例6(ABDorに対してイソソルビット
を使用):テトラメチルシクロテトラシロキサンで、4
−アリルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステル
95モル%及びイソソルビット−ビス(4−プロパルギ
ルオキシ)ベンゾエート5モル%を、例2と同様にヒド
ロシリル化する。生ずる液晶は、2枚のガラスプレート
の間での調製の後に464nmのWORを有する。右偏
光が反射される。
を使用):テトラメチルシクロテトラシロキサンで、4
−アリルオキシ安息香酸−4−シアノフェニルエステル
95モル%及びイソソルビット−ビス(4−プロパルギ
ルオキシ)ベンゾエート5モル%を、例2と同様にヒド
ロシリル化する。生ずる液晶は、2枚のガラスプレート
の間での調製の後に464nmのWORを有する。右偏
光が反射される。
【0083】比較例6(イソソルビット−ビス(4−プ
ロパルギルオキシ)ベンゾエートをABDorに代え
る):比較例2−1と同様に。
ロパルギルオキシ)ベンゾエートをABDorに代え
る):比較例2−1と同様に。
【0084】例7(液晶の架橋):例5からの液晶に、
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モルホリノプロパノン−1(Irgacure 907, Ciba-Geigy
社)1重量%を混合し、液晶を80℃で、2枚のガラス
の間で配向させ、1時間熱処理し、かつこの試料に3分
間UV−光を照射する。520nmのWORを有する架
橋されたコレステリック膜が生じる。左偏光が反射され
る。
2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−
モルホリノプロパノン−1(Irgacure 907, Ciba-Geigy
社)1重量%を混合し、液晶を80℃で、2枚のガラス
の間で配向させ、1時間熱処理し、かつこの試料に3分
間UV−光を照射する。520nmのWORを有する架
橋されたコレステリック膜が生じる。左偏光が反射され
る。
【0085】比較例7 例7と同様に、比較例5からの液晶を架橋する。このコ
レステリック膜は、603nmのWORを有する。左偏
光が反射される。
レステリック膜は、603nmのWORを有する。左偏
光が反射される。
【0086】例8(液晶の架橋及びモノマー助剤の添
加):例5からの液晶に、2−メチル−1−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1
(Irgacure 907, Ciba-Geigy AG, スイス)1重量%及び
4−メタクリロイルオキシ安息香酸−4−エチルフェニ
ルエステル20重量%を混合し、液晶を80℃で2枚の
ガラスプレートの間で配向させ、1時間熱処理し、かつ
この試料にUV−光を3分間照射する。520nmのW
ORを有する架橋されたコレステリック膜が生じる。左
偏光が反射される。
加):例5からの液晶に、2−メチル−1−[4−(メ
チルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパノン−1
(Irgacure 907, Ciba-Geigy AG, スイス)1重量%及び
4−メタクリロイルオキシ安息香酸−4−エチルフェニ
ルエステル20重量%を混合し、液晶を80℃で2枚の
ガラスプレートの間で配向させ、1時間熱処理し、かつ
この試料にUV−光を3分間照射する。520nmのW
ORを有する架橋されたコレステリック膜が生じる。左
偏光が反射される。
【0087】比較例8 例8と同様に、比較例5からの液晶を架橋する。このコ
レステリック膜は、626nmのWORを有する。左偏
光が反射される。
レステリック膜は、626nmのWORを有する。左偏
光が反射される。
【0088】例9(右らせん膜):テトラメチルシクロ
テトラシロキサン0.69g(2.88ミリモル)、4
−アリルオキシ安息香酸−4−(4−メトキシフェノキ
シカルボニル)フェニルエステル2.14g(5.3ミ
リモル)(53モル%)及びイソソルビット−ビス−
(4−アリルオキシ)ベンゾエート0.33g(0.6
9ミリモル)(7モル%)を、トルエン20ml中に溶
かし、かつ反応混合物を、ジシクロペンタジエニル白金
ジクロリド100ppmと一緒に、還流下に1時間加熱
する。50℃に冷却し、4−アリルオキシ安息香酸−4
−(メタクリロイルオキシフェニル)エステル1.35
g(6.95ミリモル)(40モル%)及びN−ニトロ
ソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩10m
gを添加し、かつ70℃で1時間撹拌する。溶剤を真空
下に留去する。引き続き、生じるコレステリック液晶
に、70℃で、4−メタクリロイルオキシ安息香酸−4
−エチルフェニルエステル20重量%及び2−メチル−
1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプ
ロパノン−1 2重量%(Irgacure 907, Ciba-geigy A
G, スイス)を混合し、かつ得られた混合物を90℃で、
2枚のポリイミド被覆されたガラスプレートの間で調製
する。90℃で1時間の熱処理時間の後に、液晶をUV
−ランプで光架橋させる。得られるLC−膜は、631
nmのWORを有する。
テトラシロキサン0.69g(2.88ミリモル)、4
−アリルオキシ安息香酸−4−(4−メトキシフェノキ
シカルボニル)フェニルエステル2.14g(5.3ミ
リモル)(53モル%)及びイソソルビット−ビス−
(4−アリルオキシ)ベンゾエート0.33g(0.6
9ミリモル)(7モル%)を、トルエン20ml中に溶
かし、かつ反応混合物を、ジシクロペンタジエニル白金
ジクロリド100ppmと一緒に、還流下に1時間加熱
する。50℃に冷却し、4−アリルオキシ安息香酸−4
−(メタクリロイルオキシフェニル)エステル1.35
g(6.95ミリモル)(40モル%)及びN−ニトロ
ソフェニルヒドロキシルアミンのアルミニウム塩10m
gを添加し、かつ70℃で1時間撹拌する。溶剤を真空
下に留去する。引き続き、生じるコレステリック液晶
に、70℃で、4−メタクリロイルオキシ安息香酸−4
−エチルフェニルエステル20重量%及び2−メチル−
1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプ
ロパノン−1 2重量%(Irgacure 907, Ciba-geigy A
G, スイス)を混合し、かつ得られた混合物を90℃で、
2枚のポリイミド被覆されたガラスプレートの間で調製
する。90℃で1時間の熱処理時間の後に、液晶をUV
−ランプで光架橋させる。得られるLC−膜は、631
nmのWORを有する。
フロントページの続き (72)発明者 クラウス シュトヴィシェク ドイツ連邦共和国 ヴァルトクライブル ク ブレスラウアー シュトラーセ 5 (56)参考文献 特開 昭49−74681(JP,A) 国際公開95/16007(WO,A) High.Perform.Poly m.,7[4](1995),461−469. (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/08 C07F 7/21 C08G 77/04 C09K 19/40 CA(STN) REGISTRY(STN) WPIDS(STN) (54)【発明の名称】 液晶オルガノシロキサン、その製法、それらの混合物、それらの化合物又はその混合物を有する 光学素子、偏光カラーフィルター及び装飾材料並びに新規のジアンヒドロヘキシット−誘導体及 びオルガノシラン
Claims (5)
- 【請求項1】 液晶オルガノシロキサンにおいて、一般
式(4): [式中、Rは、同じか又は異なり、ハロゲン原子、ニト
ロ基又はシアノ基により置換されていてもよいC 1 〜C
18 −炭化水素基であり、 eは、2〜13の値の整数を表し、 fは、2〜13の値の整数を表し、 但し、e+fは15までの値の数であり、 Bは、キラルで、かつSi−C結合された一般式(1)
のジアンヒドロヘキシット−誘導体基又は一般式(7)
の基を表し: (ここで、Hexitは、ジアンヒドロヘキシット−
基: を表し、 R 1 及びR 4 はそれぞれ式:C n H m の基を表し、 R 2 は、アルケニル基を表し、 A 2 、A 3 、A 6 及びA 7 は、同じか又は異なり、1,
4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1〜
10個の炭素原子を有し、ハロゲン原子、C 1 〜C 4 −
アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基によ
り置換されているアリーレン及びシクロアルキレン又は
1〜10個の炭素原子を有するヘテロアリーレンを表
し、 A 8 は、zが1、2又は3の値の整数を表す場合には、
1〜16個の炭素原子 を有するアルキル基、アルコキシ
基又はシクロアルキル基、ハロゲン原子、水素原子、ニ
トリル基、(メタ)アクリルオキシ基、アルコキシフェ
ノキシカルボニル基又は基:−Z 5 −A 9 −A 10 (こ
こで、Z 5 はZ 1 の意味を有し、A 9 はA 2 の意味を有
し、A 10 は、1〜16個の炭素原子を有するアルキル
基、アルコキシ基又はシクロアルキル基、ハロゲン原
子、水素原子又はニトリル基を表す)を表し、zが0の
値の数の場合にはコレスタン基、コレステリル基又はド
リステロール基を表し、 Z 1 、Z 2 、Z 3 及びZ 4 は、群−COO−、−OCO
−、−CH 2 −O−及び−O−CH 2 −からの同じか、
又は異なる2結合性基を表し、 b、c及び y は、それぞれ1、2又は3の値の同じか、
又は異なる整数を表し、 nは、2〜6の値の整数を表し、 mは、2nの値を有するか、又は(2n−2)の値を有
することもでき、 zは、0、1、2又は3の値の整数を表す)、その際基
Bの少なくとも1個が式(1)の基である]から構成さ
れている、液晶オルガノシロキサン。 - 【請求項2】 請求項1に記載のジアンヒドロヘキシッ
ト−誘導体基含有液晶オルガノシロキサンの製法におい
て、一般式(10): のオルガノシロキサンを触媒の存在下に、一般式(1
4)の化合物と、又は一般式(14)及び一般式(1
5)の化合物と反応させる: [式中、 R 5 及びR 6 はそれぞれ、式:C n H 1 (ここで、1
は、2n−1又は2n− 3の値を有する)の基を表し、
かつ Hexit、R、R 2 、A 2 、A 3 、A 6 、A 7 、
A 8 、Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、b、c、e、f、n、
y及びzは、前記の意味を有することを特徴とする、請
求項1に記載のジアンヒドロヘキシット−誘導体基含有
液晶オルガノシロキサンの製法。 - 【請求項3】 請求項1に記載の液晶オルガノシロキサ
ンと他の液晶材料との及び液晶特性に本質的に負に影響
を与えない材料との液晶混合物。 - 【請求項4】 請求項1に記載の液晶オルガノシロキサ
ン又は請求項3に記載の液晶混合物を有する光学素子、
偏光カラーフィルター及び装飾材料。 - 【請求項5】 一般式(14): [式中、Hexit、R2、R6、A2、A3、Z 1 、
Z 2 、b及びcは、前記の意味を有する]のジアンヒド
ロヘキシット−誘導体。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19541820.4 | 1995-11-09 | ||
DE19541820A DE19541820A1 (de) | 1995-11-09 | 1995-11-09 | Chirale Dianhydrohexit-Derivate enthaltende flüssigkristalline Organosiloxane |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09136891A JPH09136891A (ja) | 1997-05-27 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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EP0971016B1 (en) * | 1998-07-08 | 2003-05-21 | MERCK PATENT GmbH | Mesogenic estradiols |
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KR100675996B1 (ko) * | 1999-07-02 | 2007-01-29 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 다층 콜레스테릭 필름의 제조 방법 |
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DE19940682A1 (de) | 1999-08-27 | 2001-03-01 | Basf Ag | Cholesterisches Schichtmaterial mit verbessertem Farbeindruck und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE19949284A1 (de) | 1999-10-12 | 2001-04-19 | Basf Ag | Chirale Verbindung und deren Verwendung als chirale Dotierstoffe zur Herstellung von cholesterisch-flüssigkristallinen Zusammensetzungen |
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WO2004021531A1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-11 | Basf Aktiengesellschaft | Laser gain medium for solid state dye lasers |
JP2007530470A (ja) | 2004-03-25 | 2007-11-01 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶化合物、液晶媒体および液晶ディスプレイ |
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FR2945536B1 (fr) * | 2009-05-15 | 2012-09-28 | Roquette Freres | Monomeres derives de dianhydrohexitol fonctionalises, intermediaires et polymeres triazoles/tetrazoles issus de leur cycloaddition, procede de preparation des differents composes et applications. |
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DE102011015546A1 (de) | 2010-04-26 | 2012-01-26 | Merck Patent Gmbh | Polymerisierbare Verbindungen und ihre Verwendung in Flüssigkristallmedien und Flüssigkristallanzeigen |
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KR101272840B1 (ko) | 2011-05-19 | 2013-06-10 | 한국생산기술연구원 | 광경화성 디안히드로헥산헥솔 유도체, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 광경화성 조성물 |
WO2012163478A1 (de) | 2011-05-27 | 2012-12-06 | Merck Patent Gmbh | Polymerisierbare verbindungen und ihre verwendung in flüssigkristallmedien und flüssigkristallanzeigen |
JP6058644B2 (ja) | 2011-06-01 | 2017-01-11 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung | 液晶媒体および液晶ディスプレイ |
CN103717707B (zh) | 2011-08-01 | 2016-06-22 | 默克专利股份有限公司 | 液晶介质和液晶显示器 |
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