JP2807301B2 - 強誘電性液晶質Si含有ポリマーの調製方法と、その電気光学的部材における用途 - Google Patents
強誘電性液晶質Si含有ポリマーの調製方法と、その電気光学的部材における用途Info
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- C08F283/12—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers provided for in subclass C08G on to polysiloxanes
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- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/388—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing nitrogen
Description
【発明の詳細な説明】 液晶は、最近、ディスプレー又はスイッチ装置に関す
るある種の要求特性(例えば、扁平構造、低重量)に加
えて、ある種の電気光学的特性(例えば、低アドレス電
圧(addressing voltage))が要求される様々な工業分
野に導入されて来ている。これらの装置は、一般に、ネ
マチック、コレステリック及び/又はスメクチック液晶
相に影響を及ぼす誘電整列作用に基づいており、装置の
光透過率又は反射能は、適用電圧に依存する。
るある種の要求特性(例えば、扁平構造、低重量)に加
えて、ある種の電気光学的特性(例えば、低アドレス電
圧(addressing voltage))が要求される様々な工業分
野に導入されて来ている。これらの装置は、一般に、ネ
マチック、コレステリック及び/又はスメクチック液晶
相に影響を及ぼす誘電整列作用に基づいており、装置の
光透過率又は反射能は、適用電圧に依存する。
液晶ディスプレーは、2つの支持体プレート、好まし
くは、透明な電極を、一般的に1軸又は2軸延伸でコー
トしてある2つのガラスプレートを含み、その間に液晶
層が配置されている。その他の部材としては、偏光子、
着色フィルター、保護コーティング、反射防止コーティ
ング、拡散防止コーティングなどが一般的である。
くは、透明な電極を、一般的に1軸又は2軸延伸でコー
トしてある2つのガラスプレートを含み、その間に液晶
層が配置されている。その他の部材としては、偏光子、
着色フィルター、保護コーティング、反射防止コーティ
ング、拡散防止コーティングなどが一般的である。
今日でも、ネマチック又はスメクチック液晶相は、主
要な液晶として用いられているが、ここ数年の間に、特
にスメクチックC*液晶相の重要性が増して来ている。
強誘電性液晶は、スイッチ時間が短いという長所を有し
ており、ネマチック又はコレステリック液晶相を用いる
場合に必要な、例えば薄層トランジスタのような電気素
子の助けを借りずとも、高分解能ディスプレースクリー
ンの操作を容易にしてくれる。
要な液晶として用いられているが、ここ数年の間に、特
にスメクチックC*液晶相の重要性が増して来ている。
強誘電性液晶は、スイッチ時間が短いという長所を有し
ており、ネマチック又はコレステリック液晶相を用いる
場合に必要な、例えば薄層トランジスタのような電気素
子の助けを借りずとも、高分解能ディスプレースクリー
ンの操作を容易にしてくれる。
上記の全ての用途には、低分子量液晶化合物、即ち20
00g/mol未満、好ましくは800g/ml未満の分子量を有する
化合物、特にポリマー、コポリマー、重縮合物又は共重
縮合物ではない化合物が必要であった。低粘度ゆえに、
一般的に低分子量液晶は、スイッチ時間が短いという長
所を有しており;この事は、特に、スイッチ時間がマイ
クロ秒の範囲で、従来のネマチック液晶相より10〜1000
倍速くスイッチする強誘電性液晶に当てはまる。
00g/mol未満、好ましくは800g/ml未満の分子量を有する
化合物、特にポリマー、コポリマー、重縮合物又は共重
縮合物ではない化合物が必要であった。低粘度ゆえに、
一般的に低分子量液晶は、スイッチ時間が短いという長
所を有しており;この事は、特に、スイッチ時間がマイ
クロ秒の範囲で、従来のネマチック液晶相より10〜1000
倍速くスイッチする強誘電性液晶に当てはまる。
しかしながら、強誘電性液晶を用いる場合、機械荷重
(激しい揺れ、衝撃、圧力、熱変形、屈曲など)に関し
て配向が非常に敏感であるという問題が生じ、それによ
って、ディスプレーの像の質に不可逆的な損傷を与える
ことがある。一般的に、この高い感受性が原因で、軟質
強誘電性LCディスプレーの建設がより困難になり、更
に、従来のディスプレー、即ちガラスとか硬質プラスチ
ックプレートに適合するディスプレーの製造コストがよ
り高くなる。
(激しい揺れ、衝撃、圧力、熱変形、屈曲など)に関し
て配向が非常に敏感であるという問題が生じ、それによ
って、ディスプレーの像の質に不可逆的な損傷を与える
ことがある。一般的に、この高い感受性が原因で、軟質
強誘電性LCディスプレーの建設がより困難になり、更
に、従来のディスプレー、即ちガラスとか硬質プラスチ
ックプレートに適合するディスプレーの製造コストがよ
り高くなる。
低変形能とより良い感受性ゆえに、ポリマー液晶を用
いることは、都合が良く;それらを用いて、軟質強誘電
性ディスプレーを製造することができる。スイッチの速
いポリマー強誘電性液晶を得るためには、連続法でディ
スプレーフィルムを製造すると特に都合が良い。従っ
て、本発明は、新しいポリマー強誘電性液晶の調製に関
するものである。
いることは、都合が良く;それらを用いて、軟質強誘電
性ディスプレーを製造することができる。スイッチの速
いポリマー強誘電性液晶を得るためには、連続法でディ
スプレーフィルムを製造すると特に都合が良い。従っ
て、本発明は、新しいポリマー強誘電性液晶の調製に関
するものである。
新しい化合物(原文のまま)は、下式(I): 〔式中zは、ポリマー中において少なくとも2つの置換
基zが式(II)の基であるという条件の下で、CH3又は
式(II) (CH2)a(−B)b−M1(−A1)c(−M2)d(−A2)e(−M3)f(−
A3)g−R1 (II) で表される基であり、nは5〜500、Bは下記の式 (式中、R6,R7,及びR8は同じか又は異なり、H,CH3,OC
H3,F,Cl,又はBrであり、その場合少なくとも1つの基
R6,R7,又はR8はHでなければならない。次にXはH,F,Cl
又はBrであり、R9はH又はC1〜C10アルキルである)で
表される基であり、R1は、1つ又は2つの非隣接−CH2
基を、−O−,−S−,−CO−,−CO−O−,−O−CO
−又は−O−CO−O−によって置換することができ、そ
してまたHをFによって置換することもできる1〜16個
の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ(不斉炭素原子
を有するか、又は有しない)アルキルか、又は2〜16個
の炭素原紙を有するアルケニルであるか、あるいはまた
下記のラジカル (式中、R2,R3,R4及びR5はH、又は1つの−CH2−基を
−O−,−C−O−O−,又は−O−CO−によって置換
することもできる1〜16個の炭素原子を有する直鎖また
は枝分かれアルキル、又は2〜16個の炭素原子を有する
アルケニルか、あるいはR2とR3又はR3とR4は同じか、又
は(原文のまま)3〜8個の炭素原子を有する環状アル
キルである)の内の1つであり、aは2〜20、好ましく
は6〜12であり、b,c,d,e,f及びgは、e+f+gが2
又は3であるという条件の下で0又は1であり、A1,A2
及びA3は同じか又は異なり、1又は2個のHをF,Cl,及
び/又はCNによって置換することができる1,4−フェニ
レン、1又は2個のHをF,Cl,CN及び/又はCH3によって
置換することができるトランス−1,4−シクロヘキシレ
ン、ピラジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイ
ル、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイ
ル、(1,3,4)−チアジアゾール−2,5−ジイル、1,3−
ジオキサン−2,5−ジイル又は1,3−ジチアン−2,5−ジ
イルであり、M2とM3は同じ又は異なるCO−O,O−CO,CO−
S,S−CO,CH2−O又はO−CH2であり、M1は 又はCH2−CH2であり、そして、Gは1つ又は2つの非隣
接−CH2基を、−O−,−S−,−O−CO,−CO−O−,
−S−CO−又は−CO−S−によって置換することもでき
る1〜16個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれアル
キル、又は2〜16個の炭素原子を有するアルケニルであ
る〕のポリマーである。
基zが式(II)の基であるという条件の下で、CH3又は
式(II) (CH2)a(−B)b−M1(−A1)c(−M2)d(−A2)e(−M3)f(−
A3)g−R1 (II) で表される基であり、nは5〜500、Bは下記の式 (式中、R6,R7,及びR8は同じか又は異なり、H,CH3,OC
H3,F,Cl,又はBrであり、その場合少なくとも1つの基
R6,R7,又はR8はHでなければならない。次にXはH,F,Cl
又はBrであり、R9はH又はC1〜C10アルキルである)で
表される基であり、R1は、1つ又は2つの非隣接−CH2
基を、−O−,−S−,−CO−,−CO−O−,−O−CO
−又は−O−CO−O−によって置換することができ、そ
してまたHをFによって置換することもできる1〜16個
の炭素原子を有する直鎖または枝分かれ(不斉炭素原子
を有するか、又は有しない)アルキルか、又は2〜16個
の炭素原紙を有するアルケニルであるか、あるいはまた
下記のラジカル (式中、R2,R3,R4及びR5はH、又は1つの−CH2−基を
−O−,−C−O−O−,又は−O−CO−によって置換
することもできる1〜16個の炭素原子を有する直鎖また
は枝分かれアルキル、又は2〜16個の炭素原子を有する
アルケニルか、あるいはR2とR3又はR3とR4は同じか、又
は(原文のまま)3〜8個の炭素原子を有する環状アル
キルである)の内の1つであり、aは2〜20、好ましく
は6〜12であり、b,c,d,e,f及びgは、e+f+gが2
又は3であるという条件の下で0又は1であり、A1,A2
及びA3は同じか又は異なり、1又は2個のHをF,Cl,及
び/又はCNによって置換することができる1,4−フェニ
レン、1又は2個のHをF,Cl,CN及び/又はCH3によって
置換することができるトランス−1,4−シクロヘキシレ
ン、ピラジン−2,5−ジイル、ピリダジン−3,6−ジイ
ル、ピリジン−2,5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイ
ル、(1,3,4)−チアジアゾール−2,5−ジイル、1,3−
ジオキサン−2,5−ジイル又は1,3−ジチアン−2,5−ジ
イルであり、M2とM3は同じ又は異なるCO−O,O−CO,CO−
S,S−CO,CH2−O又はO−CH2であり、M1は 又はCH2−CH2であり、そして、Gは1つ又は2つの非隣
接−CH2基を、−O−,−S−,−O−CO,−CO−O−,
−S−CO−又は−CO−S−によって置換することもでき
る1〜16個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれアル
キル、又は2〜16個の炭素原子を有するアルケニルであ
る〕のポリマーである。
好ましい式(I)の強誘電性液晶質ポリマーは、基
(−A1)c(M2)d(−A2)e(−M3)f(−A3)g−
が: である該ポリマーである。
(−A1)c(M2)d(−A2)e(−M3)f(−A3)g−
が: である該ポリマーである。
特に好ましい式(I)の強誘電性液晶質ポリマーは、
Bが請求項1において定義したものであり、YがHまた
はCH3であり、R1が1つ又は2つの非隣接−CH2基を、−
O−,−S−,−CO−,−CO−O−,−O−CO−又は−
O−CO−O−によって置換することができ、そしてまた
HをFまたはラジカル によって置換することもできる2〜16個の炭素原子を有
する直鎖または枝分かれ(不斉炭素原子を有するか又は
有しない)アルキルか又はアルケニルであり、aが6〜
12で、基(−A1)c(−M2)d(−A2)e(−M3)
f(−A3)g−が下記の構造: を有する該ポリマーである。
Bが請求項1において定義したものであり、YがHまた
はCH3であり、R1が1つ又は2つの非隣接−CH2基を、−
O−,−S−,−CO−,−CO−O−,−O−CO−又は−
O−CO−O−によって置換することができ、そしてまた
HをFまたはラジカル によって置換することもできる2〜16個の炭素原子を有
する直鎖または枝分かれ(不斉炭素原子を有するか又は
有しない)アルキルか又はアルケニルであり、aが6〜
12で、基(−A1)c(−M2)d(−A2)e(−M3)
f(−A3)g−が下記の構造: を有する該ポリマーである。
同様に、特に好ましい式(I)の強誘電性液晶質ポリ
マーは、各zが式(II)の基である該ポリマーである。
マーは、各zが式(II)の基である該ポリマーである。
上記のSi含有ポリマーは、一般式(III) CH2=CH(−CH2)a-2(−B)b−M1(−A1)c(−M2)d(−A2)e(−
M3)f(−A3)g−R1 (III) で表される化合物と式(IV) (式中、nは5〜500、yは、少なくとも2つのy基が
Hであるという条件の下で、HまたはCH3である)で表
されるポリ水素メチルシロキサンの付加反応によって得
られる。
M3)f(−A3)g−R1 (III) で表される化合物と式(IV) (式中、nは5〜500、yは、少なくとも2つのy基が
Hであるという条件の下で、HまたはCH3である)で表
されるポリ水素メチルシロキサンの付加反応によって得
られる。
本発明のSi含有ポリマーは、特に、電気光学的部材に
おける用途に向いている。
おける用途に向いている。
実施例 1 A)一般的手順 (I)ジシクロヘキシルカーボジイミドを用いるエステ
ル化のための一般的手順 純粋なCH2Cl210ml中、適当なアルコール1mmolに、4
−ジメチルアミノピリジン(DMAP)15mol%とカルボン
酸1mmolを、かき混ぜて水分を除きながら加えた。その
混合物を0℃まで冷やし、ジシクロヘキシルカーボジイ
ミド(原文のまま)(DCC)を加える。次に、0℃にお
いて30分間、室温において18時間、混合物をかき混ぜ
る。沈殿した物質をろ別し、CH2Cl2相を水で洗い、MgSO
4を用いて乾燥させて溶媒を除く。
ル化のための一般的手順 純粋なCH2Cl210ml中、適当なアルコール1mmolに、4
−ジメチルアミノピリジン(DMAP)15mol%とカルボン
酸1mmolを、かき混ぜて水分を除きながら加えた。その
混合物を0℃まで冷やし、ジシクロヘキシルカーボジイ
ミド(原文のまま)(DCC)を加える。次に、0℃にお
いて30分間、室温において18時間、混合物をかき混ぜ
る。沈殿した物質をろ別し、CH2Cl2相を水で洗い、MgSO
4を用いて乾燥させて溶媒を除く。
(II)テトラヒドロピラニルエーテル(THPエーテル)
を開裂させるための一般的手順 エタノール40ml中、THPエーテル5mmolとPPTS(ピリジ
ニウム−p−トルエンスルホネート)0.5mmol溶液を、5
5℃(油浴温度)において、3時間かき混ぜる。溶媒を
除去し、残留物をH2Oで洗う。
を開裂させるための一般的手順 エタノール40ml中、THPエーテル5mmolとPPTS(ピリジ
ニウム−p−トルエンスルホネート)0.5mmol溶液を、5
5℃(油浴温度)において、3時間かき混ぜる。溶媒を
除去し、残留物をH2Oで洗う。
(III)末端アルケンとポリ水素メチルシロキサン(PHM
S)の付加反応のための一般的手順 100ml三口フラスコの中に、適当なアルケン1.1molを
計り取る。次に、LiAlH4と共に加熱したトルエン40mlを
フラスコの中へ蒸留する。混合物を冷やした後、新鮮な
再結晶させたPHMSのSiH 1mmolを加える。反応混合物をN
2でフラッシュし、水分を除きながら沸とうするまで加
熱する。次に、純粋なイソプロパノール中、H2PtCl2・6
H2O 10-4mmolを注入し、混合物を100℃において、40時
間かき混ぜる。反応混合物を冷やした後、勢い良くかき
混ぜながらMeOH 70mlを滴下して加えることによって、
生成物を沈殿させた。ポリマーをろ別しトルエン30ml中
に溶かして、8回再結晶させ、真空中で乾燥させる。
S)の付加反応のための一般的手順 100ml三口フラスコの中に、適当なアルケン1.1molを
計り取る。次に、LiAlH4と共に加熱したトルエン40mlを
フラスコの中へ蒸留する。混合物を冷やした後、新鮮な
再結晶させたPHMSのSiH 1mmolを加える。反応混合物をN
2でフラッシュし、水分を除きながら沸とうするまで加
熱する。次に、純粋なイソプロパノール中、H2PtCl2・6
H2O 10-4mmolを注入し、混合物を100℃において、40時
間かき混ぜる。反応混合物を冷やした後、勢い良くかき
混ぜながらMeOH 70mlを滴下して加えることによって、
生成物を沈殿させた。ポリマーをろ別しトルエン30ml中
に溶かして、8回再結晶させ、真空中で乾燥させる。
B)下式のモノマーの調製 4−ブトキシフェニル4−テトラヒドロピラン−2−イ
ルオキシベンゾエート(3) 一般的手順(I)に従って、(2)7g(32mmol)に、
4−ブトキシフェノール5.23g(38mmol)、DMAP0.7g、
及びDCC6.5g(38mmol)を加える。粗生成物をカラムク
ロマトグラフィー(溶出液CH2Cl2)によって精製する。
白色オイルが単離される。収量:8.36g(72%)。
ルオキシベンゾエート(3) 一般的手順(I)に従って、(2)7g(32mmol)に、
4−ブトキシフェノール5.23g(38mmol)、DMAP0.7g、
及びDCC6.5g(38mmol)を加える。粗生成物をカラムク
ロマトグラフィー(溶出液CH2Cl2)によって精製する。
白色オイルが単離される。収量:8.36g(72%)。
4−ブトキシフェニル 4−ヒドロキシベンゾエート
(4) 一般的手順(II)に従って、エタノール180ml中、
(3)8.36g(23mmol)に、PPTS573mg(2.3mmol)を加
え、混合物を55℃において(油浴温度)、6時間かき混
ぜる。エタノールを蒸留によって除去し、エーテルを残
留物に加え、その溶液をH2Oで洗ってから、MgSO4で乾燥
させて溶媒を除く。
(4) 一般的手順(II)に従って、エタノール180ml中、
(3)8.36g(23mmol)に、PPTS573mg(2.3mmol)を加
え、混合物を55℃において(油浴温度)、6時間かき混
ぜる。エタノールを蒸留によって除去し、エーテルを残
留物に加え、その溶液をH2Oで洗ってから、MgSO4で乾燥
させて溶媒を除く。
収量:6.08g(93%)、融点:153℃。
メチル(R)−(+)−6−ヒドロキシ−3−メチルヘ
キサエート(10) メタノール26ml中に(R)−(+)−メチルシトロネ
レート(9)9.42g(51mmol)(原文のまま)を溶か
し、−30℃において1時間、O32.45g(51mmol)で、溶
液を飽和させる。次に、かき混ぜながら、NaBH43.12g
(82mmol)を少しずつ加える。2時間続く高発熱反応の
間、温度を−20℃〜+10℃に保つ。その後、冷やすのを
止めて混合物の温度を室温まで上げる。多量のメタノー
ルを蒸留によって除去し、残留物にCHCl380mlを加え
る。氷100gと濃HCl50mlの溶液を勢い良くかき混ぜなが
ら、0℃において、その混合物を加える。クロロホルム
相をNa2CO3で1回洗い、H2Oで3回洗う。次に、MgSO4で
乾燥させて蒸発させる。粗生成物をバルブチューブで蒸
留する。収量:5.12g(68%)、▲[α]20 D▼=+9.3゜
(クロロホルム中でC=1)、沸点:85℃。
キサエート(10) メタノール26ml中に(R)−(+)−メチルシトロネ
レート(9)9.42g(51mmol)(原文のまま)を溶か
し、−30℃において1時間、O32.45g(51mmol)で、溶
液を飽和させる。次に、かき混ぜながら、NaBH43.12g
(82mmol)を少しずつ加える。2時間続く高発熱反応の
間、温度を−20℃〜+10℃に保つ。その後、冷やすのを
止めて混合物の温度を室温まで上げる。多量のメタノー
ルを蒸留によって除去し、残留物にCHCl380mlを加え
る。氷100gと濃HCl50mlの溶液を勢い良くかき混ぜなが
ら、0℃において、その混合物を加える。クロロホルム
相をNa2CO3で1回洗い、H2Oで3回洗う。次に、MgSO4で
乾燥させて蒸発させる。粗生成物をバルブチューブで蒸
留する。収量:5.12g(68%)、▲[α]20 D▼=+9.3゜
(クロロホルム中でC=1)、沸点:85℃。
脱水 下記の様にして調製するトシレート(1mmol)をHMPT1
0ml中に入れ、(Bn4N)2(CO2 -)2を加える。混合物
を160℃において2時間、加熱する。混合物を冷やした
後、水で処理し、生成物をエーテルで抽出して、蒸留す
る。
0ml中に入れ、(Bn4N)2(CO2 -)2を加える。混合物
を160℃において2時間、加熱する。混合物を冷やした
後、水で処理し、生成物をエーテルで抽出して、蒸留す
る。
(3R)−3−メチルヘキセン酸(5) 一般的手順(I)に従って、(11)2.5g(10mmol)
を、エタノール20ml中KOH1.15g(20mmol)と共に、80℃
において3時間かき混ぜる。透明な反応混合物が、真空
中でエタノールから遊離する。氷水を加えて、エーテル
層を加える。0℃において、勢い良くかき混ぜながら、
1NHCl20mlをこの混合物に滴下して加える。有機相を分
離してH2Oで洗い、MgSO4で乾燥させて蒸発させる。更に
精製せずに、粘稠な残留物を反応させる。
を、エタノール20ml中KOH1.15g(20mmol)と共に、80℃
において3時間かき混ぜる。透明な反応混合物が、真空
中でエタノールから遊離する。氷水を加えて、エーテル
層を加える。0℃において、勢い良くかき混ぜながら、
1NHCl20mlをこの混合物に滴下して加える。有機相を分
離してH2Oで洗い、MgSO4で乾燥させて蒸発させる。更に
精製せずに、粘稠な残留物を反応させる。
(3R)−3−メチルヘキセノイルオキシ4−ブトキシフ
ェニルベンゾエート(6) 一般的手順(I)に従って、(4)2.6g(9.1mmol)
を、(5)2.09g(9.1mmol)、DMAP167mg、及びDCC1.87
g(9.1mmol)と反応させる。精製は、カラムクロマトグ
ラフィー(溶出液E/PE 1:1)によって行う。無色のオ
イル状液体が単離する。収量:3.01g(67%)。
ェニルベンゾエート(6) 一般的手順(I)に従って、(4)2.6g(9.1mmol)
を、(5)2.09g(9.1mmol)、DMAP167mg、及びDCC1.87
g(9.1mmol)と反応させる。精製は、カラムクロマトグ
ラフィー(溶出液E/PE 1:1)によって行う。無色のオ
イル状液体が単離する。収量:3.01g(67%)。
シロキサンとの付加反応に関しては、一般的手順を参
照。
照。
実施例2 J.A.C.S.98,p.567(1976)におけるメイヤーらの方法
に従って、(1S,2S)−(+)−1−フェニル−2−ア
ミノ−1,3−プロパンジオールと式CH3CH2C(OC2H5)3
のオルトエステルを反応させて、下式 のオキサゾリン化合物を得る。次に、得られたオキサゾ
リン化合物を下式 の対応するメトキシ化合物に、水素化/メチルヨウ化ナ
トリウムを用いて転化させる。更に、得られた化合物を
LDAを用いて金属化し、−98℃において、式H2C=CH(−
CH2)2−I.の化合物と付加反応させて、下式 の化合物を収率25%で得た。
に従って、(1S,2S)−(+)−1−フェニル−2−ア
ミノ−1,3−プロパンジオールと式CH3CH2C(OC2H5)3
のオルトエステルを反応させて、下式 のオキサゾリン化合物を得る。次に、得られたオキサゾ
リン化合物を下式 の対応するメトキシ化合物に、水素化/メチルヨウ化ナ
トリウムを用いて転化させる。更に、得られた化合物を
LDAを用いて金属化し、−98℃において、式H2C=CH(−
CH2)2−I.の化合物と付加反応させて、下式 の化合物を収率25%で得た。
この化合物2.13gを4NH2SO4と共に3.5時間還流した。
還流後に、下式 の化合物を1.16g得た。
還流後に、下式 の化合物を1.16g得た。
この酸を、ジシクロヘキシルカーボジイミドの存在
下、CH2Cl2中において下式 の化合物を用いてエステル化し、下式 の化合物を、収率83%で得た。
下、CH2Cl2中において下式 の化合物を用いてエステル化し、下式 の化合物を、収率83%で得た。
シロキサンとの付加反応に関しては、一般的手順を参
照。
照。
実施例3 に関する合成実施例。
9−デセニル4−トルエンスルホネート(A) 水分を除いた純粋なCHCl380ml中、9−デセノール10g
(70mmol)と4−トルエンスルホニルクロリド14.7g(7
7mmol)溶液に、ピリジン10ml(140mmol)を滴下して加
える。0℃において、その混合物を30分間かき混ぜ、次
に室温において20時間かき混ぜる。冷やした希釈HCl溶
液を用いて、反応混合物を酸性化し;CHCl3相を分離し
て、中性になるまでH2Oで洗い、MgSO4を用いて乾燥させ
て溶媒を除く;収量16.9g(78%)。
(70mmol)と4−トルエンスルホニルクロリド14.7g(7
7mmol)溶液に、ピリジン10ml(140mmol)を滴下して加
える。0℃において、その混合物を30分間かき混ぜ、次
に室温において20時間かき混ぜる。冷やした希釈HCl溶
液を用いて、反応混合物を酸性化し;CHCl3相を分離し
て、中性になるまでH2Oで洗い、MgSO4を用いて乾燥させ
て溶媒を除く;収量16.9g(78%)。
メチル4−(9−デセニルオキシ)ベンゾエート(B) アセトン100ml中、A15.8g(50mmol)、メチル4−ヒ
ドロキシベンゾエート7.6g(50mmol)、及びK2CO36.9g
溶液を24時間還流する。冷やした混合物にCH2Cl2100ml
を加えて、0.1N NaOH水溶液を用いて2回抽出する。有
機相をMgSO4を用いて乾燥させ、溶媒を除く;収量10.6g
(73%)。
ドロキシベンゾエート7.6g(50mmol)、及びK2CO36.9g
溶液を24時間還流する。冷やした混合物にCH2Cl2100ml
を加えて、0.1N NaOH水溶液を用いて2回抽出する。有
機相をMgSO4を用いて乾燥させ、溶媒を除く;収量10.6g
(73%)。
4−(9−デセニルオキシ)安息香酸(C) B10.0g(34.5mmol)をエタノールに溶かし、KOH3.9g
(70mmol)を加える。反応混合物を3時間還流する。冷
やした反応混合物をHCl濃厚水溶液を用いて酸性化し、
沈殿した物質をろ別する:収量9.0g(95%)。
(70mmol)を加える。反応混合物を3時間還流する。冷
やした反応混合物をHCl濃厚水溶液を用いて酸性化し、
沈殿した物質をろ別する:収量9.0g(95%)。
4′−ヒドロキシビフェニル4−4−(9−デセニルオ
キシ)ベンゾエート(原文のまま)(D) CH2Cl2(純粋)200mlとトリエチルアミン8.3ml(60mm
ol)中、4,4′−ジヒドロキシビフェニル7.4g(40mmo
l)溶液に、20℃において、トリメチルクロロシラン7.5
ml(56mmol)を滴下して加え、混合物を1時間かき混ぜ
る。次に、C8.3g(30mmol)、DCCI6.2g(30mmol)、及
びDMAP600ml(5mmol)を加えて、混合物を24時間かき混
ぜる。生成した沈殿をろ別し、溶媒を除き、HClを用い
て弱酸性にしたエタノールから、残留物を再結晶させ
る; 収量5.8g(44%)。
キシ)ベンゾエート(原文のまま)(D) CH2Cl2(純粋)200mlとトリエチルアミン8.3ml(60mm
ol)中、4,4′−ジヒドロキシビフェニル7.4g(40mmo
l)溶液に、20℃において、トリメチルクロロシラン7.5
ml(56mmol)を滴下して加え、混合物を1時間かき混ぜ
る。次に、C8.3g(30mmol)、DCCI6.2g(30mmol)、及
びDMAP600ml(5mmol)を加えて、混合物を24時間かき混
ぜる。生成した沈殿をろ別し、溶媒を除き、HClを用い
て弱酸性にしたエタノールから、残留物を再結晶させ
る; 収量5.8g(44%)。
4′−(1−メチルヘプチルオキシ)ビフェニルR−
(+)−4−4−(9−デセニルオキシ)ベンゾエート
(原文のまま)(E) 純粋なテトラヒドロフラン80ml中、D2.2g(5mmol)、
S−2−オクタノール800mg(5mmol)、及びトリフェニ
ルホスフィン1.4g(5mmol)溶液に、0℃において、エ
チルアゾジカルボキシレート870mg(5mmol)を、かき混
ぜ水分を除きながら滴下して加えた。混合物を室温にお
いて48時間かき混ぜる。次に、溶媒を除き、残留物をエ
タノールから再結晶させ、カラムクロマトグラフィーに
よって精製する;収量1.45g(52%);▲[α]25 D▼:
+1.2(C=0.012/CHCl3)。
(+)−4−4−(9−デセニルオキシ)ベンゾエート
(原文のまま)(E) 純粋なテトラヒドロフラン80ml中、D2.2g(5mmol)、
S−2−オクタノール800mg(5mmol)、及びトリフェニ
ルホスフィン1.4g(5mmol)溶液に、0℃において、エ
チルアゾジカルボキシレート870mg(5mmol)を、かき混
ぜ水分を除きながら滴下して加えた。混合物を室温にお
いて48時間かき混ぜる。次に、溶媒を除き、残留物をエ
タノールから再結晶させ、カラムクロマトグラフィーに
よって精製する;収量1.45g(52%);▲[α]25 D▼:
+1.2(C=0.012/CHCl3)。
ビフェニル2S,3S−(+)−4−4−(9−デセニル
オキシ)ベンゾイルオキシ−4′−(2−クロロ−3−
メチルペンタノエート(原文のまま)(F) D2.2g(5mmol)、2S,3S−2−クロロ−3−メチルペ
ンタン酸750mg(5mmol)、及びジメチルアミノピリジン
(DMAP)100mg(0.75mmol)の溶液に、0℃において、
ジシクロヘキシルカーボジイミド(DCCI)1.3g(5mmo
l)を加える。混合物を24時間室温において、かき混ぜ
る。沈殿を吸引ろ過し、溶媒を除いて、残留物をカラム
クロマトグラフィーによって精製する; 収量1.35g(47%);▲[α]25 D▼:+2.7(C=0.015
/CHCl3)。
オキシ)ベンゾイルオキシ−4′−(2−クロロ−3−
メチルペンタノエート(原文のまま)(F) D2.2g(5mmol)、2S,3S−2−クロロ−3−メチルペ
ンタン酸750mg(5mmol)、及びジメチルアミノピリジン
(DMAP)100mg(0.75mmol)の溶液に、0℃において、
ジシクロヘキシルカーボジイミド(DCCI)1.3g(5mmo
l)を加える。混合物を24時間室温において、かき混ぜ
る。沈殿を吸引ろ過し、溶媒を除いて、残留物をカラム
クロマトグラフィーによって精製する; 収量1.35g(47%);▲[α]25 D▼:+2.7(C=0.015
/CHCl3)。
EとFと様々な分子量のポリ水素メチルシロキサンの
重付加は、一般的作業手順に従って行う。
重付加は、一般的作業手順に従って行う。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08F 283/12 C09K 19/40
Claims (1)
- 【請求項1】下式(I) 〔式中zは、ポリマー中において少なくとも2つの置換
基zが式(II)の基であるという条件の下で、CH3又は
式(II) (CH2)a(−B)b−M1(−A1)c(−M2)d(−A2)e(−M3)f(−A3)
g−R1 (II) で表される基であり、nは5〜500、Bは下記の式 (式中、R6,R7,及びR8は同じか又は異なり、H,CH3,OC
H3,F,Cl,又はBrであり、その場合少なくとも1つの基
R6,R7,又はR8はHでなければならない。次にXはH,F,Cl
又はBrであり、R9はHまたはC1〜C10アルキルである)
で表されるモノキラル基であり、R1は、1つ又は2つの
非隣接−CH2基を、−O−,−S−,−CO−,−CO−O
−,−O−CO−又は−O−CO−O−によって置換するこ
とができ、そしてまたHをFによって置換することもで
きる1〜16個の炭素原子を有する直鎖または技分かれ
(不斉炭素原子を有するか、又は有しない)アルキル
か、又は2〜16個の炭素原子を有するアルケニルである
か、あるいはまた下記のラジカル (式中、R2,R3,R4,及びR5はH、又は1つの−CH2−基を
−O−,−CO−O−,又は−O−CO−によって置換する
こともできる1〜16個の炭素原子を有する道鏡または技
分かれアルキル、又は2〜16個の炭素原子を有するアル
ケニルか、あるいはR2とR3又はR4とR5は共に3〜8個の
炭素原子を有する環状アルキルである)の内の1つであ
り、aは2〜20、好ましくは6〜12であり、b,c,d,e,f
及びgは、e+f+gが2又は3であるという条件の下
で0又は1であり、A1,A2及びA3は同じか又は異なり、
1又は2個のHをF,Cl,及び/又はCNによって置換する
ことができる1,4−フェニレン、1又は2個のHをF,Cl,
CN及び/又はCH3によって置換することができるトラン
ス−1,4−シクロヘキシレン、ピラジン−2,5−ジイル、
ピリダジン−3,6−ジイル、ピリジン−2,5−ジイル、ピ
リミジン−2,5−ジイル、(1,3,4)−チアジアゾール−
2,5−ジイル、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル又は1,3−
ジチアン−2,5−ジイルであり、M2とM3は同じ又は異な
るCO−O,O−CO,CO−S,S−CO,CH2−O又はO−CH2であ
り、M1は 又はCH2−CH2であり、そして、Gは1つ又は2つの非隣
接−CH2基を、−O−,−S−,−O−CO,−CO−O−,
−S−CO−又は−CO−S−によって置換することもでき
る1〜16個の炭素原子を有する直鎖または枝分かれアル
キル又は2〜16個の炭素原子を有するアルケニルであ
る、しかし式(II)において、b=0で、R1が、メソゲ
ニック基に直接結合していないか、あるいは1つ又は2
つの原子を介して架橋している不斉炭素原子を有するキ
ラルアルキルか、又は1〜16個の炭素原子を有するアキ
ラルアルキルのどちらかである液晶質ポリマーを除く〕
の強誘電性液晶質ポリマー。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3827601A DE3827601A1 (de) | 1988-08-13 | 1988-08-13 | Ferroelektrische fluessigkristalline si-enthaltende polymere |
DE3827601.1 | 1988-08-13 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04501431A JPH04501431A (ja) | 1992-03-12 |
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Family
ID=6360847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1507731A Expired - Lifetime JP2807301B2 (ja) | 1988-08-13 | 1989-06-29 | 強誘電性液晶質Si含有ポリマーの調製方法と、その電気光学的部材における用途 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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KR (1) | KR900701876A (ja) |
AT (1) | ATE111117T1 (ja) |
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WO (1) | WO1990001505A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
DE4023028A1 (de) * | 1990-07-20 | 1992-01-23 | Hoechst Ag | Ferroelektrische fluessigkristalline si-enthaltende copolymere, ein verfahren zu ihrer herstellung, mischungen dieser copolymere mit niedermolekularen fluessigkristallen und die verwendung in elektrooptischen bauteilen |
DE4126996A1 (de) * | 1991-08-16 | 1993-03-25 | Basf Ag | Optisch aktive phenoxi-propionsaeureester |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2944591A1 (de) * | 1979-11-05 | 1981-05-14 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Fluessigkristalline phasen aufweisende zusammensetzungen |
JPS5679193A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-29 | Kobe Steel Ltd | Lubricant for pressing metallic material |
DE3119459A1 (de) * | 1981-05-15 | 1982-12-09 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH, 8000 München | Fluessig-kristalline eigenschaften aufweisende, vernetzte organopolysiloxane |
US4868250A (en) * | 1986-01-24 | 1989-09-19 | Hoechst Celanese Corp. | Polysiloxane polymers exhibiting nonlinear optical response |
GB8615527D0 (en) * | 1986-06-25 | 1986-07-30 | Secr Defence | Liquid crystal polymers |
JP2543700B2 (ja) * | 1987-05-14 | 1996-10-16 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 液晶性オルガノポリシロキサンおよびその製造方法 |
-
1988
- 1988-08-13 DE DE3827601A patent/DE3827601A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-06-29 KR KR1019900700761A patent/KR900701876A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-06-29 JP JP1507731A patent/JP2807301B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-29 EP EP89908158A patent/EP0428542B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-29 DE DE89EP8900748T patent/DE3990852D2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-29 DE DE58908330T patent/DE58908330D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-29 WO PCT/EP1989/000748 patent/WO1990001505A1/de active IP Right Grant
- 1989-06-29 AT AT89908158T patent/ATE111117T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0428542B1 (de) | 1994-09-07 |
DE3990852D2 (en) | 1991-06-06 |
ATE111117T1 (de) | 1994-09-15 |
DE3827601A1 (de) | 1990-02-15 |
JPH04501431A (ja) | 1992-03-12 |
WO1990001505A1 (de) | 1990-02-22 |
KR900701876A (ko) | 1990-12-04 |
DE58908330D1 (de) | 1994-10-13 |
EP0428542A1 (de) | 1991-05-29 |
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