JP2826404B2 - 半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置のバーンイン試験方法 - Google Patents

半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置のバーンイン試験方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はBi−CMOS構造の
半導体集積回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図7は従来のBi−CMOS構造の半導
体集積回路装置の構成を示す説明図である。同図に示す
ように、同一半導体チップ1上にCMOS回路部2とバ
イポーラ回路部3とがそれぞれ独立して形成される。C
MOS回路部2の電源電圧供給部VCは電源ライン5を
介して半導体チップ1上に形成された電源パッド7に接
続され、バイポーラ回路部3の電源電圧供給部VCは電
源ライン4を介して半導体チップ1上に形成された電源
パッド6に接続される。電源パッド6及び7はそれぞれ
ワイヤ8及び9を介して共通に外部電源電圧ピン10に
接続される。
【0003】このような構成において、外部電源電圧ピ
ン10より供給される電源電圧はワイヤ8及び9を介し
て電源パッド6及び7にそれぞれ印加され、さらに、電
源ライン4及び5それぞれを介して、バイポーラ回路部
3及びCMOS回路部2それぞれの電源電圧供給部VC
に供給される。つまり、外部電源電圧ピン10から供給
される電源電圧はCMOS回路部2及びバイポーラ回路
部3の電源電圧として、同一条件で共通に給電される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のBi−CMOS
構造の半導体集積回路装置は以上のように構成されてお
り、CMOS回路部2及びバイポーラ回路部3で共通に
1つの外部電源電圧ピン10を設け、この外部電源電圧
ピン10から同一条件の電源電圧をCMOS回路部2及
びバイポーラ回路部3の電源電圧供給部VCに供給する
のが一般的であった。
【0005】ところで、比較的消費電力の大きいバイポ
ーラ回路部3を低消費電圧駆動にする目的等から、バイ
ポーラ回路部3をCMOS回路部2をよりも低い電源電
圧で駆動することが要求される場合がある。
【0006】また、バーンイン試験において、試験を有
効に行うためには、CMOS回路部2とバイポーラ回路
部3とを異なる電源電圧で動作させて試験を行う必要が
あった。例えば、CMOS回路部2及びバイポーラ回路
部3が共に5Vで通常動作する回路であっても、CMO
S回路部2は7Vで行うのが望ましく、バイポーラ回路
部3は5V程度(7Vで行うと破壊される場合もある)
で行うのが望ましい。
【0007】しかしながら、従来の構成では、CMOS
回路部2とバイポーラ回路部3とで電源電圧を違えて同
時に動作させることはできないため、前者の要望を満足
させることはできず、後者のバーンイン試験を実施する
に際しては、CMOS回路部2及びバイポーラ回路部3
のうち、一方の回路を動作停止状態にして、他方の回路
に対し試験を行うしか方法がなく、試験の手間及び時間
がかかりすぎるという問題点があった。
【0008】また、CMOS回路部2,バイポーラ回路
部3それぞれに専用の外部電源電圧ピンを設ければ、上
記問題は解決するが、複数の外部電源電圧ピンを設ける
のは、外部端子数の増加につながり、集積度等の問題か
ら現実的ではない。
【0009】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、外部電源電圧ピンの数を増やすことな
く、バイポーラ回路部とCMOS回路部とで異なる電源
電圧を供給することができるBi−CMOS構成の半導
体集積回路装置を得ることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる請求項
1記載の半導体集積回路装置は、半導体チップと、前記
半導体チップ上に形成されたCMOS素子を用いて構成
され、外部より得られるデータ信号に基づき制御信号を
出力する制御信号発生部を有するCMOS回路部と、前
記半導体チップ上に形成されたバイポーラ素子を用いて
構成されたバイポーラ回路部と、所定の電源電圧が付与
される外部電源端子と、前記半導体チップ上に形成さ
れ、前記CMOS回路部の電源電圧供給部と前記外部電
源端子との間に電気的に介挿された第1の電源パッド
と、前記半導体チップ上に形成され、前記バイポーラ回
路部の電源電圧供給部と前記外部電源端子との間に電気
的に介挿された第2の電源パッドと、前記第1の電源パ
ッドと前記CMOS回路部の電源電圧供給部との間及び
前記第2の電源パッドと前記バイポーラ回路部の電源電
圧供給部との間のうち、少なくとも一方間に設けられ、
前記制御信号を受け、前記制御信号が減圧を指示すると
き前記電源電圧を減圧して得られる電圧を減圧電源電圧
とし、前記制御信号が減圧を指示しないとき前記電源電
圧をそのまま前記減圧電源電圧として、対応の回路部の
前記電源電圧供給部に出力する減圧回路とを備えて構成
される。また、請求項2記載の半導体集積回路装置のバ
ーンイン試験方法は、前記第2の電源パッドと前記バイ
ポーラ回路部の電源電圧供給部との間に設けられる減圧
回路を含んだ請求項1記載の半導体集積回路装置のバー
ンイン試験方法であって、前記外部電源端子に通常より
も高電圧を与え、かつ減圧を指示する前記制御信号が生
成されるように前記データ信号を与えつつ前記半導体集
積回路装置のバーンイン試験を行っている。
【0011】
【作用】この発明における請求項1記載の半導体集積回
路装置の減圧回路は、第1の電源パッドとCMOS回路
部の電源電圧供給部との間及び第2の電源パッドとバイ
ポーラ回路部の電源電圧供給部との間のうち、少なくと
も一方間に設けられ、制御信号に基づき電源電圧あるい
は電源電圧を減圧して得られる電圧を減圧電源電圧とし
て、対応の回路部の電源電圧供給部に出力するため、同
一の外部電源端子から第1及び第2の電源パッドに共通
の電源電圧を付与しても、制御信号に基づきCMOS回
路部及びバイポーラ回路部のうち、一方に電源電圧を他
方に減圧電源電圧を与えることができる。この発明にお
ける請求項2記載の半導体集積回路装置のバーンイン試
験方法は、外部電源端子に通常よりも高電圧を与え、か
つ減圧を指示する制御信号が生成されるようにデータ信
号を与えつつ半導体集積回路装置のバーンイン試験を行
うため、CMOS回路部とバイポーラ回路部とで同時に
バーンイン試験を実行することができる。
【0012】
【実施例】図1はこの発明の一実施例であるのBi−C
MOS構成の半導体集積回路装置の構成を示す説明図で
ある。同図に示すように、減圧回路11がバイポーラ回
路部3の電源電圧供給部VCと電源パッド6との間に介
挿されており、この減圧回路11は電源ライン4Aを介
してバイポーラ回路部3の電源電圧供給部VCに電気的
に接続され、電源ライン4Bを介して電源パッド6に接
続される。そして、減圧回路11はCMOS回路部2か
ら出力される減圧回路制御信号SCに基づき、外部電源
電圧ピン10及び電源パッド6を介して得た電源電圧を
減圧して減圧電源電圧DVをバイポーラ回路部3の電源
電圧供給部VCに出力する。なお、他の構成は図7で示
した従来例と同様であるため、説明は省略する。
【0013】図2は、減圧回路制御信号SCを発生する
CMOS回路部2内の制御信号発生部の第1の構成を示
すブロック図である。同図に示すように、制御信号発生
部20は、パルスカウンタ21、シフトレジスタ22及
びラッチ23から構成される。
【0014】パルスカウンタ21はクロック信号CLK
及びリセット信号RSTを受け、クロック信号のパルス
数をカウントし、該パルス数が所定パルス数に一致した
ときにのみ、活性状態のカウント出力信号S21をラッ
チ23に出力する。また、活性状態のリセット信号RS
Tを取り込んだ時に、そのパルスカウント値がリセット
される。
【0015】シフトレジスタ22は、クロック信号CL
K及びデータ信号DTを受け、クロック信号CLKに同
期して、内部のデータをシフトさせながらデータ信号D
Tを順次シリアルに取り込み、所定ビットの格納データ
として格納する。
【0016】ラッチ23は、シフトレジスタ22の格納
データ及びカウント出力信号S21を受け、カウント出
力信号S21が活性状態のとき、シフトレジスタ22の
格納データをラッチデータとして内部に取り込み、カウ
ント出力信号S21が非活性状態のとき、シフトレジス
タ22の格納データを内部に取り込まず、既存のラッチ
データを保持する。そして、このラッチ23のラッチデ
ータにおける所定の1ビットが減圧回路制御信号SCと
して外部に出力され、他のラッチデータはCMOS回路
部2内で用いられる通常のデータとして内部の他の回路
に出力される。
【0017】このような構成において、あらかじめ、活
性状態のリセット信号RSTを一度パルスカウンタ21
に与え、パルスカウント値を初期化した後、リセット信
号RSTを再び非活性状態にする。
【0018】そして、クロック信号CLKに同期して、
データ信号DTを順次シリアルにシフトレジスタ22に
付与することにより、減圧回路制御信号SCの情報を含
んだデータをシフトレジスタ22の格納データとして格
納させる。
【0019】そして、クロック信号CLKのパルス数が
パルスカウンタ21でカウントされ、パルスカウンタ2
1が所定のパルス数をカウントする、つまり、シフトレ
ジスタ22内への格納データの取り込みが確認される
と、パルスカウンタ21から活性状態のカウント出力信
号S21がラッチ23に付与されることにより、ラッチ
23にシフトレジスタ22の格納データが転送される。
そして、ラッチ23のラッチデータにおける所定の1ビ
ットが減圧回路制御信号SCとして出力される。
【0020】このように、一度、ラッチ23にデータが
転送されるとラッチデータは固定され、一定値の減圧回
路制御信号SCが出力され続ける。つまり、活性状態の
リセット信号RSTがパルスカウンタ21に付与される
ことにより、パルスカウンタ21のパルスカウント値が
リセットされ、再びパルスカウンタ21がクロック信号
CLKを所定パルス数カウントするまでは、ラッチ23
内のラッチデータが変更されることなく、減圧回路制御
信号SCは一定値を保つ。
【0021】図3は、CMOS回路部2内の制御信号発
生部の第2の構成を示すブロック図である。同図に示す
ように、制御信号発生部20′は、パルスカウンタ2
1、シフトレジスタ22、ラッチ23A及び23B並び
にラッチセレクタ24から構成される。
【0022】パルスカウンタ21はクロック信号CLK
及びリセット信号RSTを受け、クロック信号CLKの
パルス数をカウントし、該パルス数が所定パルス数に一
致したときにのみ、活性状態のカウント出力信号S21
をラッチセレクタ24に出力し、それ以外の場合は非活
性状態のカウント出力信号S21をラッチセレクタ24
に出力する。また、活性状態のリセット信号RSTを取
り込んだ時に、そのパルスカウント値がリセットされ
る。
【0023】シフトレジスタ22は、クロック信号CL
K及びデータ信号DTを受け、クロック信号CLKに同
期して、内部のデータをシフトさせながらデータ信号D
Tを順次シリアルに取り込み、所定ビットの格納データ
として格納する。
【0024】ラッチセレクタ24はカウント出力信号S
21を取り込むとともに、シフトレジスタの格納データ
のうちの所定の2ビットを第1ビット情報b1、第2ビ
ット情報b2として取り込む。
【0025】そして、第1ビット情報b1に基づき、H
あるいはLの減圧回路制御信号SCを出力する。加え
て、第2ビット情報b2に基づき、ラッチ23A及び2
3Bにそれぞれ付与するセレクト信号S24A及びS2
4Bのうち、一方を活性状態、他方を非活性状態にして
出力する。
【0026】ラッチ23Aは、シフトレジスタ22の格
納データ及びセレクト信号S24Aを受け、セレクト信
号S24Aが活性状態のとき、シフトレジスタ22の格
納データを、ラッチデータとして内部に取り込み、セレ
クト信号S24Aが非活性状態のとき、シフトレジスタ
22の格納データを内部に取り込まず、既存のラッチデ
ータを保持する。同様に、ラッチ23Bは、シフトレジ
スタ22の格納データ及びセレクト信号S24Bを受
け、セレクト信号S24Bが活性状態のとき、シフトレ
ジスタ22の格納データを、ラッチデータとして内部に
取り込み、セレクト信号S24Bが非活性状態のとき、
シフトレジスタ22の格納データを内部に取り込まず、
既存のラッチデータを保持する。なお、ラッチ23A及
び23BにおけるラッチデータはすべてCOMS回路部
2内で用いられるデータとして出力される。
【0027】このような構成において、あらかじめ、活
性状態のリセット信号RSTを一度パルスカウンタ21
に与え、パルスカウント値を初期化した後、リセット信
号RSTを再び非活性状態にする。
【0028】そして、クロック信号CLKに同期して、
データ信号DTを順次シリアルにシフトレジスタ22に
付与することにより、ラッチセレクト情報及び減圧回路
制御信号SCの情報を含んだデータをシフトレジスタ2
2内に格納データとして格納させる。
【0029】そして、クロック信号CLKのパルス数が
パルスカウンタ21でカウントされることにより、シフ
トレジスタ22内への格納データの格納が確認される。
すると、パルスカウンタ21から活性状態のカウント出
力信号S21がラッチセレクタ24に付与されることに
より、シフトレジスタ22内の所定の2ビットが、減圧
回路制御信号SCの情報を第1のビット情報b1とし、
ラッチセレクト情報を第2のビット情報b2として、ラ
ッチセレクタ24に出力されるとともに、シフトレジス
タ22の他の格納データがラッチ23A及び23Bに出
力される。
【0030】この時、ラッチセレクタ24は、減圧回路
制御信号SCの情報である第1のビット情報b1に基づ
き、減圧回路制御信号SCを出力するとともに、ラッチ
セレクト情報である第2のビット情報b2に基づき、一
方が活性状態、他方が非活性状態のセレクト信号S24
A及びS24Bをラッチ23A及びS23Bにそれぞれ
出力する。
【0031】そして、ラッチ23A及び23Bのうち、
活性状態のセレクト信号S24AあるいはS24Bを受
けたラッチのみが、シフトレジスタ22におけるビット
情報b1,b2以外の格納データをラッチデータとして
ラッチする。
【0032】このように、一度、ラッチセレクタ24に
減圧回路制御信号SCの情報である第1のビット情報b
1が転送されると、減圧回路制御信号SCは一定値を維
持する。つまり、活性状態のリセット信号RSTがパル
スカウンタ21に付与されることにより、パルスカウン
タ21のカウント値がリセットされ、再びパルスカウン
タ21がクロック信号CLKを所定パルス数カウント
し、活性状態のカウント出力信号S21をラッチセレク
タ24に出力するまでは、ラッチセレクタ24から出力
される減圧回路制御信号SCは変更されることなく維持
される。
【0033】図4は図1で示した実施例のBi−CMO
S構成の半導体集積回路装置の減圧回路11の第1の構
成を示す回路図である。同図に示すように、電源,接地
間に抵抗41、42及びNチャネルトランジスタ43が
直列に介挿される。
【0034】また、電源はトランスファゲート44の入
力部Iに接続され、抵抗41,42間のノードN1はト
ランスファゲート45の入力部Iに接続される。そし
て、トランスファゲート44,45の出力部Oがノード
N2で共通に接続され、このノードN2より得られる電
圧が減圧回路11の減圧電源電圧DVとなり、バイポー
ラ回路部3の電源電圧供給部VCに付与される。
【0035】一方、CMOS回路部2から出力される減
圧回路制御信号SCは、トランジスタ43のゲート、ト
ランスファゲート44の反転制御部バーC及びトランス
ファゲート45の制御部Cに付与され、減圧回路制御信
号SCがインバータ46を介して得られる反転制御信号
バーSCがトランスファゲート44の制御部C及びトラ
ンスファゲート45の反転制御部バーCに付与される。
【0036】トランスファゲート44及び45はそれぞ
れ、制御部C(反転制御部バーC)にH(L)レベルの
信号が与えられるとオンし、その入力部Iに得られる信
号をそのまま出力部Oから出力し、制御部C(反転制御
部バーC)にL(H)レベルの信号が与えられるとオフ
し、その入力部Iに得られる信号を遮断してその出力部
Oをフローティングにする。
【0037】このような構成において、図4で示した減
圧回路11は、CMOS回路部2よりHレベルの減圧回
路制御信号SC受けると、トランジスタ43及びトラン
スファゲート45がオンし、トランスファゲート44が
オフする。その結果、抵抗41と抵抗42とにより電源
電圧Vccが分圧して得られるノードN1の電位V1が減
圧回路11の減圧電源電圧DVとなる。
【0038】一方、CMOS回路部2よりLレベルの減
圧回路制御信号SC受けると、トランジスタ43及びト
ランスファゲート45がオフし、トランスファゲート4
4がオンする。その結果、電源電圧Vccがそのまま減圧
電源電圧DVとなる。つまり、電源電圧Vccはの減圧レ
ベルは0である。また、この時、トランジスタ43がオ
フするため、抵抗41、42及びトランジスタ43を介
して電源,接地間に余分な電流が流れることはない。
【0039】このように、図4で示した第1の構成の減
圧回路11は減圧回路制御信号SCに基づき、その減圧
電源電圧DVとして、電源電圧Vccあるいは電源電圧V
ccより低レベルの電圧V1を、バイポーラ回路部3に出
力する。なお、図4で用いた抵抗41及び42の代わり
にダイオードを用いてもよい。
【0040】図5は図1で示したBi−CMOS構成の
半導体集積回路装置の減圧回路11の第2の構成を示す
回路図である。同図に示すように、電源,接地間に抵抗
51、52及びNチャネルトランジスタ53が直列に介
挿される。また、電源と抵抗52,トランジスタ53間
のノードN3との間に、直列に接続された抵抗57、N
PNバイポーラトランジスタ58及び抵抗59が、抵抗
51及び52に対し並列に接続され、トランジスタ58
のゲートが抵抗51,52間のノードN4に接続され
る。
【0041】また、電源がトランスファゲート54の入
力部Iに接続され、トランジスタ58のエミッタと抵抗
59間のノードN5がトランスファゲート55の入力部
Iに接続される。そして、トランスファゲート54,5
5の出力部OがノードN6で共通に接続され、このノー
ドN6より得られる電圧が減圧回路11の減圧電源電圧
DVとなり、バイポーラ回路部3の電源電圧供給部VC
に付与される。
【0042】一方、CMOS回路部2から出力される減
圧回路制御信号SCは、トランジスタ53のゲート、ト
ランスファゲート54の反転制御部バーC及びトランス
ファゲート55の制御部Cに付与され、減圧回路制御信
号SCがインバータ56を介して得られる反転制御信号
バーSCがトランスファゲート54の制御部C及びトラ
ンスファゲート55の反転制御部バーCに付与される。
【0043】トランスファゲート54及び55はそれぞ
れ、制御部C(反転制御部バーC)にH(L)レベルの
信号が与えられるとオンし、その入力部Iに得られる信
号をそのまま出力部Oから出力し、制御部C(反転制御
部バーC)にL(H)レベルの信号が与えられるとオフ
し、その入力部Iに得られる信号を遮断しその出力部O
をフローティングにする。
【0044】このような構成において、図5で示した減
圧回路11は、CMOS回路部2よりHレベルの減圧回
路制御信号SCを受けると、トランジスタ53及びトラ
ンスファゲート55がオンし、トランスファゲート54
がオフする。その結果、トランジスタ58のエミッタ出
力であるノードN5の電位V5が減圧回路11の減圧電
源電圧DVとなる。
【0045】なお、ノードN5の電位V5はバイポーラ
トランジスタ58のエミッタ−ベース間電圧をVBE
し、抵抗51及び52の抵抗値をそれぞれR1及びR2
とすると、 V5=Vcc*R1/(R1+R2)−VBE となり、電源電圧Vccより低レベルになる。
【0046】一方、CMOS回路部2よりLレベルの減
圧回路制御信号SCを受けると、トランジスタ53及び
トランスファゲート55がオフし、トランスファゲート
54がオンする。その結果、電源電圧Vccがそのまま減
圧電源電圧DVとなる。つまり、電源電圧Vccの減圧レ
ベルは0となる。この時、トランジスタ53がオフする
ため、抵抗51、52及びトランジスタ53を介して電
源,接地間に余分な電流が流れることはない。
【0047】このように、図5で示した第2の構成の減
圧回路11は減圧回路制御信号SCに基づき、その減圧
電源電圧DVとして,電源電圧Vccあるいは電源電圧V
ccより低レベルの電圧V5を、バイポーラ回路部3に出
力する。
【0048】図1〜図5で示した本実施例のBi−CM
OS半導体集積回路装置は、従来から存在するCMOS
回路部2に与えるデータ信号DTで制御可能な減圧回路
11を備えているため、バイポーラ回路部3の電源電圧
供給部VCに付与する減圧電源電圧DVを、選択的に、
通常の電源レベルVccにしたり、通常の電源レベルVcc
より低レベルの電圧にしたりすることができる。
【0049】例えば、バイポーラ回路部3に5V程度の
電源電圧を与え、CMOS回路部2に7V程度の電源電
圧を与えて最適なバーンイン試験を行いたい場合には、
あらかじめ減圧回路11を電源電圧Vccを5/7に減圧
した減圧電源電圧DVを出力できるように構成する。そ
して、外部電源電圧ピン10に7Vの電源電圧を与え、
減圧回路制御信号SCがHになるようにCMOS回路部
2の制御信号発生部にデータ信号DTを付与すれば、C
MOS回路部2の電源電圧供給部VCに7Vの電源電圧
を付与し、バイポーラ回路部3の電源電圧供給部VCに
7Vが減圧された5V程度の減圧電源電圧DVを付与す
ることができる。したがって、バーンイン試験に要する
時間,手間が従来に比べ大幅に軽減される。
【0050】このように、本実施例のBi−CMOS半
導体集積回路装置は、1つの外部電源電圧ピン10を介
してCMOS回路部2及びバイポーラ回路部3それぞれ
の電源パッド7及び6に、共通の電源電圧Vccを与える
従来の構成を変更することなく、CMOS回路部2とバ
イポーラ回路部3とで異なる電源電圧を付与することが
できる。また、減圧回路11の減圧電源電圧DVの値を
制御する減圧回路制御信号SCの信号値を設定を、CM
OS回路部2内で用いられるデータ信号DTを利用して
行うため、減圧回路制御信号SCの信号値設定用に新た
な外部端子を設ける必要はない。
【0051】また、減圧回路11から電源電圧Vccをそ
のまま減圧電源電圧DVとして出力することにより、従
来同様、CMOS回路部2及びバイポーラ回路部3で共
通の電源電圧を与えることもできる。
【0052】なお、この実施例では、バイポーラ回路部
3に減圧回路11を接続した場合を示したが、図6に示
すように、CMOS回路部2に減圧回路11′を設ける
ことも考えられる。この場合、CMOS回路部2をバイ
ポーラ回路部3よりも低い電源電圧で駆動することがで
きる。もちろん、CMOS回路部2及びバイポーラ回路
部3双方に減圧回路を設けてもよい。
【0053】また、減圧回路11として、減圧回路制御
信号SCに基づき、減圧電源電圧として、電源電圧ある
いは電源電圧より低レベルの1種類の電圧のいずれかを
出力する回路を示したが、これに限定されることなく、
電源電圧より低レベルの複数種の電圧のいずれかを減圧
電源電圧として選択的に出力するように構成してもよ
い。
【0054】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、減圧回路は、第1の電源パッドとCMOS回路部の
電源電圧供給部との間及び第2の電源パッドとバイポー
ラ回路部の電源電圧供給部との間のうち、少なくとも一
方間に設けられ、制御信号に基づき電源電圧あるいは電
源電圧を減圧して得られる電圧を減圧電源電圧として、
対応の回路部の電源電圧供給部に出力するため、同一の
外部電源端子から第1及び第2の電源パッドに共通に電
源電圧を付与しても、CMOS回路部及びバイポーラ回
路部のうち、制御信号に基づき一方の回路部の電源電圧
供給部に電源電圧を、他方の回路部の電源電圧供給部に
電源電圧とは異なる減圧電源電圧を与えることができ
る。請求項2記載の半導体集積回路装置のバーンイン試
験方法は、外部電源端子に通常よりも高電圧を与え、か
つ減圧を指示する制御信号が生成されるようにデータ信
号を与えつつ半導体集積回路装置のバーンイン試験を行
うため、CMOS回路部とバイポーラ回路部とで同時に
バーンイン試験を実行することにより、バーンイン試験
に要する時間,手間を従来に比べ大幅に軽減することが
できる。
【0055】その結果、外部電源電圧ピンの数を増やす
ことなく、バイポーラ回路部とCMOS回路部とで異な
る電源電圧を供給することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例であるBi−CMOS半導
体集積回路装置を示す説明図である。
【図2】図1で示したCMOS回路部における減圧回路
制御信号の生成部の第1の構成を示す回路図である。
【図3】図1で示したCMOS回路部における減圧回路
制御信号の生成部の第2の構成を示す回路図である。
【図4】図1で示した減圧回路の第1の構成を示す回路
図である。
【図5】図1で示した減圧回路の第2の構成を示す回路
図である。
【図6】この発明の他の実施例であるBi−CMOS半
導体集積回路装置を示す説明図である。
【図7】従来のBi−CMOS半導体集積回路装置の構
成を示す説明図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ 2 CMOS回路部 3 バイポーラ回路部 6,7 電源パッド 10 外部電源電圧ピン 11 減圧回路

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップと、 前記半導体チップ上に形成されたCMOS素子を用いて
    構成され、外部より得られるデータ信号に基づき制御信
    号を出力する制御信号発生部を有するCMOS回路部
    と、 前記半導体チップ上に形成されたバイポーラ素子を用い
    て構成されたバイポーラ回路部と、 所定の電源電圧が付与される外部電源端子と、 前記半導体チップ上に形成され、前記CMOS回路部の
    電源電圧供給部と前記外部電源端子との間に電気的に介
    挿された第1の電源パッドと、 前記半導体チップ上に形成され、前記バイポーラ回路部
    の電源電圧供給部と前記外部電源端子との間に電気的に
    介挿された第2の電源パッドと、 前記第1の電源パッドと前記CMOS回路部の電源電圧
    供給部との間及び前記第2の電源パッドと前記バイポー
    ラ回路部の電源電圧供給部との間のうち、少なくとも一
    方間に設けられ、前記制御信号を受け、前記制御信号が
    減圧を指示するとき前記電源電圧を減圧して得られる電
    圧を減圧電源電圧とし、前記制御信号が減圧を指示しな
    いとき前記電源電圧をそのまま前記減圧電源電圧とし
    て、対応の回路部の前記電源電圧供給部に出力する減圧
    回路とを備えた半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置のバ
    ーンイン試験方法であって、前記減圧回路は、前記第2
    の電源パッドと前記バイポーラ回路部の電源電圧供給部
    との間に設けられる回路を含み、前記外部電源端子に通
    常よりも高電圧を与え、かつ減圧を指示する前記制御信
    号が生成されるように前記データ信号を与えつつ前記半
    導体集積回路装置のバーンイン試験を行うことを特徴と
    するバーンイン試験方法。
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