JP2826045B2 - 真空リフト装置 - Google Patents

真空リフト装置

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JP2826045B2
JP2826045B2 JP5209484A JP20948493A JP2826045B2 JP 2826045 B2 JP2826045 B2 JP 2826045B2 JP 5209484 A JP5209484 A JP 5209484A JP 20948493 A JP20948493 A JP 20948493A JP 2826045 B2 JP2826045 B2 JP 2826045B2
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lift
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隆義 中村
浩 山田
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シュマルツ ボルフガンク
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    • B66F3/00Devices, e.g. jacks, adapted for uninterrupted lifting of loads
    • B66F3/24Devices, e.g. jacks, adapted for uninterrupted lifting of loads fluid-pressure operated
    • B66F3/25Constructional features
    • B66F3/35Inflatable flexible elements, e.g. bellows
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B66HOISTING; LIFTING; HAULING
    • B66CCRANES; LOAD-ENGAGING ELEMENTS OR DEVICES FOR CRANES, CAPSTANS, WINCHES, OR TACKLES
    • B66C1/00Load-engaging elements or devices attached to lifting or lowering gear of cranes or adapted for connection therewith for transmitting lifting forces to articles or groups of articles
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    • B66C1/02Load-engaging elements or devices attached to lifting or lowering gear of cranes or adapted for connection therewith for transmitting lifting forces to articles or groups of articles by suction means
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空リフト装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】上下方向に伸縮自在な負圧作動型リフト
チューブと、リフトチューブの大気開放口の開口面積を
制御することによりリフトチューブ内の負圧を制御して
リフトチューブを上下方向に伸縮せしめるリフトチュー
ブ伸縮制御弁とを具備した真空リフト装置が公知である
(実昭62−25344号公報参照)。この真空リフ
ト装置は例えばまず初めにリフトチューブの下端部でも
って持ち上げるべき対象物を吸引保持し、次いでリフト
チューブ伸縮制御弁を操作することによりリフトチュー
ブを収縮させて対象物を持ち上げ、次いでリフトチュー
ブ伸縮制御弁を操作することにより持ち上げられた対象
物を所望の高さ位置において停留させ、次いで対象物を
所望の高さ位置において停留させた状態でリフトチュー
ブを他の場所に移動させ、次いで対象物をその場所に降
ろすために使用される。このようにリフトチューブに対
して対象物を持ち上げるための収縮制御、対象物を所望
の高さ位置において停留させるための伸縮停止制御およ
び対象物を降ろすためための伸長制御が必要となり、従
来よりこれら3つの制御がリフトチューブ伸縮制御弁の
みを用いて行われている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところでこのような真
空リフト装置ではリフトチューブ内の負圧を最も大きく
すべきときにはリフトチューブ伸縮制御弁は全閉とさ
れ、リフトチューブ内の負圧を最も小さくすべきときに
はリフトチューブ伸縮制御弁は全開せしめられる。この
場合、リフトチューブ伸縮制御弁が全開したときの大気
開放口の開口面積が大きいほどリフトチューブ内の負圧
をすみやかに小さくすることができ、従ってリフトチュ
ーブ伸縮制御弁が全開したときの大気開放口の開口面積
は通常比較的大きな面積とされる。即ち、通常リフトチ
ューブをすみやかに伸縮させるためにリフトチューブ伸
縮制御弁による開口面積の制御範囲はかなり大きくされ
ており、従ってリフトチューブ伸縮制御弁をわずかでも
変位させると大気開放口の開口面積がかなり変化するこ
とになる。
【0004】ところが対象物を所望の高さ位置において
停留させるにはリフトチューブ内の負圧を対象物の重量
に応じた一定の負圧に維持しなければならず、この場合
リフトチューブ内の負圧がこの一定負圧よりわずかでも
大きくなればリフトチューブは収縮し、リフトチューブ
内の負圧がこの一定負圧よりわずかでも小さくなればリ
フトチューブは伸長することになる。即ち、対象物を所
望の高さ位置において停留させるためには大気開放口の
開口面積の微少な制御が必要となる。しかしながら上述
したようにリフトチューブ伸縮制御弁をわずかでも変位
させると大気開放口の開口面積がかなり変化するのでリ
フトチューブ伸縮制御弁により大気開放口の面積の微少
な制御を行うのは困難であり、従って上述の真空リフト
装置のようにリフトチューブ伸縮制御弁によって対象物
を所望の高さ位置に停留すべく大気開放口の開口面積を
制御しても対象物を所望の高さ位置において確実に停留
させるのは困難であるという問題がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明によれば、上下方向に伸縮自在な負圧作動型
リフトチューブと、リフトチューブの下端に取付けられ
た吸引制御装置とを具備し、吸引制御装置がリフトチュ
ーブ内と外気とを連通する大気開放口を具備すると共に
大気開放口の開口面積を制御してリフトチューブ内の負
圧を制御するリフトチューブ伸縮制御弁を具備する真空
リフト装置において、大気開放口を吸引制御装置の平坦
な側壁面上において帯状側壁部分を隔てて隣接配置され
た第1大気開放口と第2大気開放口とにより構成し、リ
フトチューブ伸縮制御弁を吸引制御装置の平坦な側壁面
上に沿って移動可能な平板状の弁体から構成して平板状
の弁体により第1大気開放口および第2大気開放口の開
口面積を制御し、平板状の弁体は自由状態のときに第1
大気開放口を覆いかつ平板状の弁体の縁部が帯状側壁部
分上に位置するようにばね力が加えられており、第2大
気開放口とリフトチューブ内の負圧発生領域間に対象物
を所望の高さ位置において停留させるためのホバーリン
グ制御弁を配置している。
【0006】
【作用】リフトチューブの伸縮制御は第1大気開放口
よび第2大気開放口の開口面積を大きく変化させうるリ
フトチューブ伸縮制御弁によって行われ、対象物を所望
の高さ位置において停留させるリフトチューブの伸縮停
止制御はリフトチューブ内と大気間の流通面積の微少な
制御が可能なホバーリング制御弁によって行われる。
【0007】
【実施例】図1を参照すると真空リフト装置は軸線方向
に、即ち上下方向に伸縮自在な可撓性材料から形成され
たリフトチューブ1と、リフトチューブ1の上端部に取
付けられた円筒状ケーシング2と、リフトチューブ1の
下端部に取付けられた吸引制御装置3とにより構成され
る。円筒状ケーシング2は支持ビームに固定された又は
支持ビームにより水平方向に移動可能に支承された支持
部材4に吊り下げられる。一方、吸引制御装置3はその
下端部に持ち上げるべき対象物5を吸引保持するための
吸引パッド6を具えている。リフトチューブ1の内部は
導管7を介して図示しない吸引ポンプに連結され、リフ
トチューブ1内の空気はこの吸引ポンプによって常時吸
引されている。従ってリフトチューブ1内は通常負圧と
なっている。
【0008】図2から図5に示されるように吸引制御装
置3は4つの側壁8a,8b,8c,8dと、底壁9
と、側壁8a,8b,8c,8dの上端部から内方へ延
びるフランジ部10と、フランジ部10上に固定された
円筒部11とを具備し、円筒部11の外周面上にリフト
チューブ1の下端部が密封的に固定される。従って各側
壁8a,8b,8c,8d、円筒部11および底壁9に
より包囲された吸引制御装置3の内部室13はリフトチ
ューブ1内に連通しており、従ってこの内部室13内は
通常負圧となっている。
【0009】側壁8b,8dの外側面上には夫々U字型
をなす把持部14,15が固定される。また、図2に示
されるように底壁9上には円形をなす開口16が形成さ
れており、この開口16は開口16よりも大径の一対の
円板17,18により覆われている。これら円板17,
18は内部室13内を上方に延びるロッド19の下端部
に回動可能に取付けられている。ロッド19の上方部は
フランジ部10に固定されたロッド案内部材20により
軸線方向に摺動可能に支持されている。ロッド19はロ
ッド19周りに挿入された圧縮ばね21によって下方に
向けて付勢されており、従って一対の円板17,18は
圧縮ばね21のばね力によって底壁9上に着座せしめら
れる。従って通常開口16は一対の円板17,18によ
って閉鎖されている。
【0010】一対の円板17,18はロッド19回りに
おいて相対的に回動可能に取付けられており、これら円
板17,18は円板18に固定されかつ円板17に形成
されたスリット22を通って下方に突出するピン23に
より相対回転せしめられる。各円板17,18には夫々
円板17,18が相対回転せしめられたときに互いに整
列する複数個の連通孔24,25が形成され、これら連
通孔24,25の重合面積は円板17,18を相対回転
させることによって変えることができる。
【0011】図4および図5からわかるように側壁8a
の外周縁からは矩形状をなすフレーム26が側方に向け
て突出しており、従って側壁8aの外側面はこのフレー
ム26により包囲されている形となる。側壁8a上には
帯状をなす側壁部分27を隔てて大面積の第1大気開放
口28と小面積の第2大気開放口29が形成されてお
り、これら大気開放口28,29の開口面積を制御する
ためのリフトチューブ伸縮制御弁30がフレーム26内
に配置される。このリフトチューブ伸縮制御弁30は側
壁8aの外側面に沿って移動する平板状の弁板31と、
この弁板31を支持しているレバー32とを具備し、レ
バー32はラジアル軸受33を介して支持軸34回りに
回転可能に取付けられる。更にこのレバー32はスラス
ト軸受35を介してナット36により支承される。レバ
ー32はフレーム26を貫通して外方に突出し、レバー
32の突出部にはU字形をなす操作腕37が固定され
る。この操作腕37の端部は支持軸34と共軸をなすピ
ボットピン38を介して側壁8c上において支持され
る。また、この操作腕37は操作腕37から上方に延び
るもう一つの操作腕39を有する。これら操作腕37,
39のいずれか一方を操作することによってレバー32
および弁板31が支持軸34の回りに回動せしめられ
る。
【0012】レバー32の内端部には外方に向けて突出
するスプリングリテーナ40が固定され、更にスプリン
グリテーナ40に関して支持軸34と反対側に位置する
フレーム26上にもスプリングリテーナ41が固定され
る。これらスプリングリテーナ40,41間には引張り
ばね42が張設される。従ってレバー32は通常引張り
ばね42のばね力によって図4に示されるように各スプ
リングリテーナ40,41と支持軸34とが一直線をな
す位置において保持される。このとき、弁板31の下縁
が帯状側壁部分27の中間高さ位置に位置するようにス
プリングリテーナ41の位置が定められている。また、
このとき第1大気開放口28は弁板31によって完全に
覆われる位置に形成されている。操作腕37,39を操
作することにより引張りばね42のばね力に抗して弁板
31が時計回りに回動せしめられると第1大気開放口2
8が大気に開放される。これに対して操作腕37,39
を操作することにより引張りばね42のばね力に抗して
弁板31が反時計回りに回動せしめられると第1大気開
放口28に加えて更に第2大気開放口29が弁板31に
よって覆われる。このとき第2大気開放口29は弁板3
1によって完全に覆われる位置に形成されている。
【0013】図6はスプリングリテーナ41と引張りば
ね42とを取りはずしたところを示している。図4から
図6を参照すると弁板31上には側壁8aの外面上を転
動する一対のローラ43を回転可能に支承しているロー
ラ支持板44がスペーサ45を介して固定される。これ
らのローラ43によって弁板31は側壁8aの外面から
わずかに浮かされる。このように弁板31が側壁8aの
外面からわずかに浮かされ、しかも弁板31の先端部は
ローラ43を介して側壁8aの外面により支承され、更
にレバー32はラジアル軸受33およびスラスト軸受3
5を介して支持軸34により支持されているのでリフト
チューブ伸縮制御弁30を極めて小さな操作力でもって
回動せしめることができることになる。
【0014】図7および図8を参照すると、側壁8aの
内面上には第2大気開放口29を覆うようにブロック4
6が配置され、このブロック46内に第2大気開放口2
9と内部室13とを連通する連通孔47が形成される。
この連通孔47内にはこの連通孔47内に出没可能なホ
バーリング制御弁48が配置される。図7および図8に
示される実施例ではこのホバーリング制御弁48はボル
トのような形状をなしている。即ち、ブロック46内に
はホバーリング制御弁48の外ねじ山と螺合する内ねじ
山が形成されており、ホバーリング制御弁48を回動せ
しめるとホバーリング制御弁48が軸線方向に移動せし
められる。連通孔47の高さはブロック46内に形成さ
れた内ねじ山の小径とほぼ等しい寸法に形成されてお
り、従ってホバーリング制御弁48の先端部が連通孔4
7に突出するとその突出部分だけ連通孔47の流路面積
が狭められる。従ってホバーリング制御弁48を回動す
ることによって連通孔47の流路面積を制御できること
になる。ホバーリング制御弁48は側壁8dから外方に
突出しており、ホバーリング制御弁48の突出先端部に
は操作部49が形成されている。この操作部49と側壁
8d間にはホバーリング制御弁48が正規の位置からず
れるのを防止するための圧縮ばね50が挿入されてい
る。
【0015】対象物を吸着するためにリフトチューブ1
を伸長させる場合にはリフトチューブ伸縮制御弁30が
時計回りに回動せしめられて第1大気開放口28が大気
に開放される。第1大気開放口28が大気に開放される
と第1大気開放口28から多量の大気が内部室13内に
流入するためにリフトチューブ1内の負圧が急速に小さ
くなり、斯くして吸引制御装置3の重量によってリフト
チューブ1が伸長せしめられる。次いで吸引パッド6が
対象物5の上に着座するとリフトチューブ伸縮制御弁3
0は自由状態とされ、即ち図4に示す位置に戻され、斯
くして第1大気開放口28がリフトチューブ伸縮制御弁
30によって覆われる。その結果、リフトチューブ1内
の負圧が再び大きくなる。
【0016】一方、吸引パッド6が対象物5の上に着座
すると吸引パッド6内の空気は円板17,18に形成さ
れた連通孔24,25を通って内部室13内に吸引され
る。その結果、吸引パッド6内も負圧となるために対象
物5が吸引パッド6によって吸着保持される。この場
合、対象物5が空気を通しやすい材料から形成されてい
るとすると対象物5を通って空気が吸引パッド6内に供
給されるために吸引パッド6内の負圧が大きくならず、
斯くして対象物5を吸引パッド6によって吸着できなく
なる。そこでこのような場合には図2において破線で示
すようなアダプタ51がロッド19の下端部に螺着され
る。このようなアダプタ51を取付けると吸引パッド6
が対象物5の上に着座したときに対象物5によってアダ
プタ51およびロッド19が圧縮ばね21のばね力に抗
して押し上げられる。その結果、円板17,18が上昇
するために吸引パッド6と内部室13とは円板17,1
8の周辺部と底壁9間に形成される大きな間隙を介して
連通せしめられる。従って吸引パッド6内に対象物5を
介して空気が流入していても吸引パッド6内の負圧は大
きくなり、斯くして吸引パッド6によって対象物5を吸
着保持できることになる。なお、吸引パッド6が対象物
5の上に着座したときにリフトチューブ伸縮制御弁30
を操作して第2大気開放口29を一時的に覆い、それに
よって内部室13内の負圧を一時的に大きくしてやれば
対象物5をただちに吸引パッド6によって吸着保持する
ことができる。
【0017】次いでリフトチューブ伸縮制御弁30を反
時計回りに回動せしめて第1大気開放口28および第2
大気開放口29の双方をリフトチューブ伸縮制御弁30
により覆うとリフトチューブ1内の負圧は急速に大きく
なる。その結果、リフトチューブ1が収縮し、斯くして
対象物5がリフトチューブ1によって持ち上げられるこ
とになる。持ち上げられた対象物5を降ろすときにはリ
フトチューブ伸縮制御弁30を時計回りに回動せしめて
第1大気開放口28を大気に開放せしめ、それによって
リフトチューブ1内の負圧を小さくする。吸引パッド6
から対象物5を引き離すときには第1大気開放口28の
開口面積を更に増大し、吸引パッド6内の負圧を更に小
さくする。
【0018】次に吸引制御装置3を所望の高さ位置にお
いて停留させておく停留制御、即ちホバーリング制御に
ついて説明する。このホバーリング制御は対象物5を持
ち上げた状態で吸引制御装置3を所望の高さ位置におい
て停留させておく制御と、対象物5を吸着していない無
負荷の状態で吸引制御装置3を所望の高さ位置において
停留させておく制御との2種類があり、まず初めに前者
のホバーリング制御について説明する。
【0019】ホバーリング制御が行われるときには操作
腕37,39は自由状態とされ、従ってこのときにはリ
フトチューブ伸縮制御弁30は図4に示す位置となる。
従ってこのとき大気は第2大気開放口29を通って内部
室13内に送り込まれている。一方、吸引制御装置3お
よび対象物5を所望の高さ位置において停留させるため
にはリフトチューブ1の負圧による上向きの力と吸引制
御装置3および対象物5の重量による下向きの力とをバ
ランスさせなければならず、従ってこのときリフトチュ
ーブ1内に発生させるべき負圧の大きさは対象物5の重
量に応じて変化する。また、このときリフトチューブ1
内に発生させるべき負圧の大きさは対象物5が空気を流
通しうるかしえないかによっても変化する。即ち、リフ
トチューブ1内に発生させるべき負圧の大きさは対象物
5によって変化することになる。
【0020】吸引制御装置3および対象物5を所望の高
さ位置において停留させるためにはまず初めに吸引パッ
ド6により対象物5を吸着保持した状態でリフトチュー
ブ1を少し収縮させ、次いで操作腕37,39から手を
放して操作腕37,39を自由状態とする。次いでリフ
トチューブ1が伸縮動作をしなくなるようにホバーリン
グ制御弁48を調整する。ホバーリング制御弁48は連
通孔47の開口面積の微少な制御が可能であり、従って
リフトチューブ1が全く伸縮動作をしなくなるように連
通孔47の開口面積を制御することができる。ホバーリ
ング制御弁48の調整が一旦完了すると同一の対象物5
を扱っている限り操作腕37,39から手を放せばリフ
トチューブ1の伸縮動作が完全に停止し、斯くして吸引
制御装置3および対象物5は所望の高さ位置において停
留せしめられることになる。
【0021】なお、図4に示されるようにリフトチュー
ブ伸縮制御弁30を引張りばね42のばね力により図4
に示すような安定位置に保持するようにした場合には操
作腕37,39から手が放されてリフトチューブ伸縮制
御弁30が安定位置に戻されたときにリフトチューブ伸
縮制御弁30は常に全く同じ位置に戻らず、その都度わ
ずかばかりずれる。しかしながらリフトチューブ伸縮制
御弁30は安定位置にあるときにその下縁が帯状側壁部
分27のほぼ中央に位置するように配置されているので
リフトチューブ伸縮制御弁30が安定位置に戻ったとき
に位置が多少ずれたとしても第1大気開放口28はリフ
トチューブ伸縮制御弁30によって完全に覆われ、第2
大気開放口29はその全体が大気に開放される。従って
リフトチューブ1内の負圧はリフトチューブ伸縮制御弁
30が安定位置に戻ったときのリフトチューブ伸縮制御
弁30の位置の影響を全く受けないので操作腕37,3
9から手を放せば吸引制御装置3および対象物5は所望
の高さ位置において確実に停留せしめられることにな
る。
【0022】一方、吸引パッド6により対象物5を吸着
保持しておらず、吸引制御装置3のみを所望の高さ位置
において停留させるためには吸引制御装置3および対象
物5を共に所望の高さ位置において停留させる場合に比
べてリフトチューブ1内の負圧を小さな負圧にしなけれ
ばならない。この場合のリフトチューブ1内の負圧は円
板17,18を相対回転させて連通孔24,25の重合
部の面積を変化させることによって調整される。
【0023】図9および図10に真空リフト装置の第2
実施例を示す。この第2実施例では支持ピン52を具え
た支持板53が側壁8a上に固定されており、まっすぐ
に延びるばね棒54の一端が支持ピン52により支持さ
れている。リフトチューブ伸縮制御弁30上には間隔を
隔てて一対の支持ピン55,56が取付けられており、
ばね棒54の先端部はこれら支持ピン55,56間に挿
入されている。操作腕37,39が操作されるとリフト
チューブ伸縮制御弁30はばね棒54のばね力に抗して
支持軸34の回りに回動せしめられ、操作腕37,39
に何ら外力が作用しないときには図9に示されるように
リフトチューブ伸縮制御弁30はその下縁が帯状側壁部
分27の中間高さ位置に位置する。
【0024】図11および図12に真空リフト装置の第
3実施例を示す。この第3実施例ではばね棒54がコイ
ル状に巻設された巻設部分57を有し、この巻設部分5
7が支持軸34周りに挿入される。このばね棒54の一
端は支持ピン52に固定され、ばね棒54の他端はリフ
トチューブ伸縮制御弁30上に固定された支持ピン58
のスリット59内に挿入される。この第3実施例におい
ても操作腕37,39が操作されるとリフトチューブ伸
縮制御弁30はばね棒54のばね力に抗して支持軸34
の回りに回動せしめられ、操作腕37,39に何ら外力
が作用しないときには図11に示されるようにリフトチ
ューブ伸縮制御弁30はその下縁が帯状側壁部分27の
中間高さ位置に位置する。
【0025】図13および図14に真空リフト装置の第
4実施例を示す。この第4実施例ではホバーリング制御
弁60が第2大気開放口29を部分的に閉鎖しうるよう
に側壁8aの内壁面上に摺動可能に配置されている。ホ
バーリング制御弁60の側方には支持部材61,62に
より回動可能に支承されかつ操作部63を具えたねじ付
きロッド64が配置されており、ねじ付きロッド64の
ねじ部がホバーリング制御弁60のねじ孔65内に螺合
せしめられる。操作部63を回転させるとホバーリング
制御弁60がねじ付きロッド64の軸線方向に移動し、
それによって第2大気開放口29の開口面積が制御され
る。
【0026】図15および図16に真空リフト装置の第
5実施例を示す。この第5実施例では支持ピン66によ
り回動可能に支持されたホバーリング制御弁67が第2
大気開放口29の内方に配置され、更に操作部68を具
えたねじ付きロッド69がねじ孔70内に螺着される。
ねじ付きロッド69の先端部には端部部材71がねじ付
きロッド69の軸線回りに回転可能に取付けられ、この
端部部材71はリンク部材72を介してホバーリング制
御弁67の先端部に連結される。操作部68を回転させ
るとホバーリング制御弁67が支持ピン66の回りに回
動し、それによって第2大気開放口29から流入する空
気の流路面積が制御される。
【0027】図17および図18に真空リフト装置の第
6実施例を示す。この第6実施例では支持ピン73によ
り回動可能に支持されたホバーリング制御弁74が第2
大気開放口29の内方に配置され、ホバーリング制御弁
74の先端部にリンク部材75が回動可能に連結され
る。操作部76を具えたねじ付きロッド77の先端ねじ
部がリンク部材75のねじ孔78内に螺着される。操作
部76を回転させるとホバーリング制御弁74が支持ピ
ン73の回りに回動し、それによって第2大気開放口2
9から流入する空気の流路面積が制御される。
【0028】
【発明の効果】リフトチューブ伸縮制御弁によって大気
開放口の開口面積を大きく変化させることができるので
リフトチューブをすみやかに伸縮させることができる。
また、リフトチューブ内の負圧をホバーリング制御弁に
よって微少に制御しうるので対象物を所望の高さ位置に
おいて確実に停留させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】真空リフト装置の全体図である。
【図2】吸引制御装置の側面断面図である。
【図3】吸引制御装置の平面図である。
【図4】吸引制御装置の側面図である。
【図5】図4のV−V線に沿ってみた平面断面図であ
る。
【図6】スプリングリテーナおよび引張りばねを取りは
ずしたところを示す吸引制御装置の側面図である。
【図7】図4の VII−VII 線に沿ってみた平面断面図で
ある。
【図8】図7のVIII−VIII線に沿ってみた側面断面図で
ある。
【図9】第2実施例の吸引制御装置の側面図である。
【図10】図9に示す吸引制御装置の平面断面図であ
る。
【図11】第3実施例の吸引制御装置の側面図である。
【図12】図11に示す吸引制御装置の平面断面図であ
る。
【図13】第4実施例の吸引制御装置の平面断面図であ
る。
【図14】図13に示す吸引制御装置の側面図である。
【図15】第5実施例の吸引制御装置の平面断面図であ
る。
【図16】図15に示す吸引制御装置の側面図である。
【図17】第6実施例の吸引制御装置の平面断面図であ
る。
【図18】図17に示す吸引制御装置の側面図である。
【符号の説明】
1…リフトチューブ 3…吸引制御装置 5…対象物 28,29…大気開放口 30…リフトチューブ伸縮制御弁 47…連通孔 48,60,67,74…ホバーリング制御弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 浩 山梨県中巨摩郡昭和町築地新居2000 株 式会社キトー内 (72)発明者 クルト シュマルツ ドイツ連邦共和国,デー−7296 グラッ テン,ウンテレ エッシュ 13 (72)発明者 ボルフガンク シュマルツ ドイツ連邦共和国,デー−7295 ドルン シュテッテン,ケニックスバーガー シ ュトラーセ 12 (56)参考文献 実公 昭62−25344(JP,Y2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B66C 1/02 B25J 15/06 B66F 19/00

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下方向に伸縮自在な負圧作動型リフト
    チューブと、リフトチューブの下端に取付けられた吸引
    制御装置とを具備し、該吸引制御装置がリフトチューブ
    内と外気とを連通する大気開放口を具備すると共に該大
    気開放口の開口面積を制御してリフトチューブ内の負圧
    を制御するリフトチューブ伸縮制御弁を具備する真空リ
    フト装置において、上記大気開放口を上記吸引制御装置
    の平坦な側壁面上において帯状側壁部分を隔てて隣接配
    置された第1大気開放口と第2大気開放口とにより構成
    し、上記リフトチューブ伸縮制御弁を該吸引制御装置の
    平坦な側壁面上に沿って移動可能な平板状の弁体から構
    成して該平板状の弁体により第1大気開放口および第2
    大気開放口の開口面積を制御し、該平板状の弁体は自由
    状態のときに第1大気開放口を覆いかつ該平板状の弁体
    の縁部が上記帯状側壁部分上に位置するようにばね力が
    加えられており、第2大気開放口とリフトチューブ内の
    負圧発生領域間に対象物を所望の高さ位置において停留
    させるためのホバーリング制御弁を配置した真空リフト
    装置。
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