JP2808405B2 - ディスク用被膜形成装置および方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はディスク用被膜形成装置
および方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】今日，コンパクトディスクは音楽用，電
子情報用の記録媒体として重要な地位にある。このコン
パクトディスクの製造工程としては，情報を光反射率に
対応させた合成樹脂基板円盤をまず作り，ついでアルミ
ニウムを蒸着して反射膜を形成する。この後に反射膜の
上に保護用として塗料により被膜を形成する。この光デ
ィスク用被膜形成装置としては，例えば１９９２年５月
１日に発行された雑誌「オリジン・テクニカル・ジャー
ナル」（発行所：東京都豊島区高田１丁目１８番１号オ
リジン電気株式会社）５５号の５７ページ以降の記事に
記載されている。

【０００３】図１３にその一例を示す。この図において
ｄ１，ｄ２．．．は光ディスクの位置を示す符号であっ
て，この光ディスク用被膜形成装置１の工程にしたがっ
て順次移動して行く。光ディスクはスタックポール５に
積み重ねられ，コンベヤ４にて搬送される。ｄ３の位置
で光ディスクは移載アーム８によって一旦上方に持ち上
げられて，ｄ４の位置まで移動して，ターンテーブル１
１に置かれる。光ディスクがｄ５の位置に来るとクリー
ナー９にて表面が清浄され，ｄ６の位置で塗料吐出器１
３により塗料が滴下されて液膜を形成する。そしてｄ７
の位置で移載アーム１５によりスピン振り切り器１７内
のｄ８の位置に移る。スピン振り切り器１７ではおよそ
３０００〜４０００ｒｐｍの回転数による遠心力で均一
の膜厚とする。次に移載アーム１５により，被膜硬化器
２７に光ディスクを搬送するターンテーブル３３の位置
ｄ９に移動する。この被膜硬化器２７には紫外線照射器
２９が備えられており，この化学的作用により塗料は硬
化して被膜が完成する。完成したディスクはｄ１２の位
置から移載アーム３６により取り出されて，コンベヤ４
上のｄ１３の位置に移動する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の光ディスク用被膜形成装置にあっては、塗料
滴下処理は単に塗料をディスク面にドーナッツ状の液膜
を作る処理であるのに対して、スピン振り切り処理にお
いては均一な液膜を作る必要がある。したがって、塗料
滴下処理はスピン振り切り処理よりも早く終了するの
で、スピン振り切りの終了を待っために、ロス時間が生
じてしまうばかりでなく、均一な被膜を得難くなる。特
に、溶剤を使用した塗料を使用してより均一性の高い被
膜の形成を目指す場合には、この待ち時間によって、デ
ィスク面のドーナッツ状の液膜の形が崩れたり、あるい
はその表面が硬化を始めることが大きな障害になってい
た。

【０００５】本発明はディスク用被膜形成装置におい
て，塗料滴下処理速度とこの後の工程のスピン振り切り
器の処理速度とをほぼ同一にしてロス時間を除き装置の
処理効率を高め，高い生産能力を得ると同時に、ディス
ク面に品質の高い均一の被膜を形成することを主目的と
している。また、本発明はこの装置に対するディスクの
搬入から搬出までの種々の工程を選択的に実施できる構
成を与えることも目的としている。

【０００６】

【問題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、前記課題を解決するために，ディスクの表面に被膜
を形成する装置であって、塗料をディスク上に滴下する
塗料吐出手段と、この塗料吐出手段の２倍の台数でディ
スク上の前記塗料を遠心力により拡げて均一の被膜を形
成するスピン振り切り処理手段と、これらスピン振り切
り処理手段から前記ディスクを交互に受け取って該ディ
スク上に形成された被膜を硬化させる被膜硬化装置と、
時計方向及び反時計方向に駆動される軸部材とこの軸部
材に対して放射外方向に延びる複数の移載アーム部材と
からなって前記塗料の滴下されたディスクを前記スピン
振り切り処理手段に交互に振り分けて移載する移載手段
とを備えたものである。

【０００７】請求項２に記載の発明は、前記課題を解決
するために，請求項１において、前記移載手段がその時
計方向又は反時計方向の力を制限するトルクリミッタを
備えたものである。

【０００８】請求項３に記載の発明は、前記課題を解決
するために，請求項１において、前記被膜の硬化された
ディスクを検査するディスク検査装置を備え、該ディス
ク検査装置からの信号により良品のディスクと不良品の
ディスクをそれぞれの位置に振り分けて移載する移載装
置を備えたものである。

【０００９】請求項４に記載の発明は、前記課題を解決
するために，ディスクの表面に被膜を形成する方法にお
いて、ディスクに単一の所定位置で順次塗料を滴下し、
塗料の滴下処理が施された前記ディスクを塗料滴下側の
単一の所定位置から二つのスピン振り切り処理位置に交
互に振り分けて移載し、前記二つのスピン振り切り処理
位置に前記ディスクが交互に載置される毎に順次それら
ディスクを高速回転させて前記塗料の振り切り処理を順
次行って前記ディスクに被膜を形成し、前記二つのスピ
ン振り切り処理位置における前記ディスクを硬化処理側
の所定位置に交互に移載した後に被膜の硬化処理を行う
ことを特徴とするディスク用被膜形成方法を提供するも
のである。

【００１０】請求項５に記載の発明は、前記課題を解決
するために，ディスクの表面に被膜を形成する方法にお
いて、単一の所定位置でディスクに順次塗料を滴下し、
塗料の滴下処理が施されたディスクを第１の所定位置か
ら時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させ
て第１、第２のスピン振り切り処理位置に交互に振り分
けて移載し、前記第１、第２のスピン振り切り処理位置
に前記ディスクが載置される毎に順次高速回転させて前
記塗料の振り切り処理を行って前記ディスクにそれぞれ
被膜を形成し、前記被膜の形成される毎に順次前記ディ
スクを前記第１、又は第２のスピン振り切り処理位置か
ら時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させ
て第２の所定位置に移載し、その後前記被膜の硬化処理
を行うことを特徴とするディスク用被膜形成方法提供す
るものである。

【００１１】〔作用〕請求項１に記載の発明では、塗料
滴下処理時間に対してスピン振り切り処理時間は２倍又
はそれ以上必要なところ，スピン振り切り処理手段とそ
れに伴う移載手段を複数備えているので，ディスク１枚
当たりの処理時間についての装置全体の流れ速度につい
ては，スピン振り切り処理時間の制限を受けず、従来の
ほぼ２倍の速度で被膜を形成できると同時に、ディスク
面のドーナッツ状の液膜の形が崩れたり、あるいはその
表面が硬化を始めたり（特に溶剤を用いた熱硬化型塗料
の場合）することがないので、被膜の品質の向上が期待
できる。また、個々の移載アームを用いているので、タ
ーンテーブルとの至近距離にスピン振り切り処理手段を
配置でき、このことが一層被膜の品質の向上に役立つと
共に、装置の小型化を可能にする。

【００１２】請求項２に記載の発明では、被膜形成の速
度と被膜の均一性の向上ばかりでなく、保守が容易にな
り、また移載手段の移載アーム部材の損傷保護又は軽減
が行われる。

【００１３】請求項３に記載の発明では、被膜形成の速
度と被膜の均一性の向上ばかりでなく、良品、不良品の
ディスクを自動的に分けて得ることができる。

【００１４】請求項４に記載の発明では、被膜形成の速
度および被膜の均一性の向上を達成できる。

【００１５】請求項５に記載の発明では、被膜形成の速
度および被膜の品質の向上を達成できるばかりでなく、
ディスクのタンテーブルからの受取と受け渡しの位置が
それぞれ所定の一箇所にできるので、全てのディスクの
待ち時間がさらに小さくなり、このことが更に一層被膜
の均一性と向上を達成させる。

【００１６】

【実施例】図１は，本発明にかかる光ディスク用被膜形
成装置を説明するための基本的な形態を示す図である。

【００１７】第１のターンテーブル３は光ディスクｄを
連続的に供給するためのものであって，このターンテー
ブル３の上にスタックポール５が互いに回転角度９０度
の間隔で積載されている。スタックポール５は図２に示
す構造であって，約１００枚のコーティングすべき光デ
ィスクｄが一本のポール５ａ上に積載される。

【００１８】移載アーム７は，先端にある吸着パッド７
ｂにより光ディスクｄを垂直上方向に一旦持ち上げ，そ
の支点７ａを中心に旋回して，所定の位置に移動した後
に垂直下方に下降するものである。

【００１９】第２のターンテーブル１１は順次矢印方向
に回転するものであって，このターンテーブル１１の上
の回転角度で６等分した各箇所に光ディスクｄの載置位
置ｄ１〜ｄ６があり、それら載置位置に光ディスクｄが
載置される。クリーナー９、１０は光ディスク上の塵埃
を除去するもので，エアブロー（図示せず）により帯電
させた清浄気体をディスク表面に吹き付けて、光ディス
ク表面に付着している塵埃を，その静電気力を中和させ
ながら清掃する。

【００２０】塗料吐出器１３は，塗料吐出ノズル１３ａ
などと、場合によっては回転伝動部（図示せず）とから
なり，光ディスクｄ、または吐出ノズル１３ａを回転さ
せながら塗料を滴下して光ディスク面上にドーナッツ状
の液膜を作る。

【００２１】移載アーム１５は，その先端にある吸着パ
ッド１５ｂにより光ディスクｄを垂直上方向に一旦持ち
上げ，その支点１５ａを中心に旋回して，所定の位置に
移動した後に垂直下方に下降するものである。移載アー
ム１９，２１，２５についても同様の構成である。

【００２２】この光ディスク用被膜形成装置１における
特徴の一つとして，二式のスピン振り切り器１７と２３
とターンテーブルと移載アームとを組み合わせたもので
ある。これらのスピン振り切り器１７と２３はそれぞれ
ディスクを高速回転させるスピンドルユニット１７ａと
飛散する液滴を捕集するコーターハウス１８とで構成さ
れる。

【００２３】被膜硬化器２７は，ディスク上の塗料を紫
外線照射により硬化させるもので，紫外線照射部２９と
紫外線の漏洩防止のための遮光カバー３１と，その内部
でディスクを搬送するターンテーブル３３とで構成され
る。

【００２４】移載アーム３５については，移載アーム７
と同様の構造である。またターンテーブル３７はターン
テーブル３と同様であり，スタックポール３９はスタッ
クポール５と同様の構成である。

【００２５】〔動作〕次にこの光ディスク用被膜形成装
置１の動作について詳細に説明する。動作説明のため
に，光ディスクｄの移動に伴う位置を符号ｄ１，ｄ
２．．．で表す。

【００２６】 供給側のターンテーブル３は矢印方向
に間歇的に回転して，その上のスタックポール５に積載
されたディスクｄは，位置ｄ１⇒ｄ２⇒ｄ３⇒ｄ４と移
動する。ｄ４の位置のディスクは移載アーム７により，
ターンテーブル１１上のｄ５の位置に載せられる。そし
てターンテーブル１１が矢印方向に１／６回転すると，
これに同期して移載アーム７が作動して新たなディスク
ｄがｄ５の位置に載せられる。この動作を繰り返して次
々とディスクｄがターンテーブル１１上に載せられる。

【００２７】 ターンテーブル１１に載せられたディ
スクはｄ６とｄ７の位置で，クリーナー９と１０とによ
り二回にわたって表面の塵埃を吹き飛ばされ，クリーニ
ングされる。

【００２８】 ターンテーブル１１に載せられたディ
スクはｄ８の位置で，塗料吐出器１３により塗料が滴下
されて液膜を形成する。（およそ４０ｒｐｍ〜１２０ｒ
ｐｍの回転数でドーナッツ状の液膜となる。）

【００２９】 位置ｄ８で液膜を載せられたディスク
が，ターンテーブル１１の２サイクルの角回転（ほぼ１
２０°）により位置ｄ９，ｄ１０に到達すると，位置ｄ
１０のディスクはアーム１５によりスピン振り切り器１
７内のｄ１１の位置に移載される。またほぼ同時に、位
置ｄ９のディスクはアーム２１によりスピン振り切り器
２３内の位置ｄ１２に移載される。スピン振り切り器１
７及び２３内ではおよそ３０００〜４０００ｒｐｍの回
転数による遠心力で塗料の余剰分は振り切られて，適正
で均一の膜厚になる。この間若干の時間を要する。

【００３０】 次に位置ｄ１１のディスクは移載アー
ム１９によりｄ１３の位置まで移動される。また同様に
ディスクｄ１２は移載アーム２５によりｄ１４の位置ま
で移動される。なお，この移動アーム１９と２５の動作
と同期して，移載アーム１５と２１とは次のサイクルと
して前述の動作を繰り返して，スピン振り切り器１７と
２３とに新たなディスクを供給する。したがってここで
大切なことは、位置ｄ１０とｄ１１、位置ｄ９とｄ１２
それぞれの中心が移載アーム１５の吸着パッド１５ｂ，
移載アーム２１の吸着パッド（図示せず）の旋回軌道上
にそれぞれ存在することである。同様に、位置ｄ１１と
ｄ１３、位置ｄ１２とｄ１４それぞれの中心が移載アー
ム１９、２５の吸着パッド（図示せず）それぞれの旋回
軌道上に存在することである。

【００３１】 被膜硬化器２７内のターンテーブル３
３が矢印方向に回転して光ディスクがｄ１５からｄ１６
までの位置に来ると，紫外線照射部２９からの紫外線の
化学的効果により液状の塗膜は硬化する。

【００３２】 硬化後のディスクはターンテーブルが
位置ｄ１６、ｄ１７を通って更に回転してｄ１８の位置
に来るとき，移載アーム３５はディスクを吸着して運
び，ターンテーブル３７上のスタックポール３９上に積
載する。スタックポール３９上のディスクｄ１９の枚数
が重なり収容限界に達するとき，ターンテーブル３７は
矢印方向に回転してｄ１９の位置には空のスタックポー
ルが配され，ｄ２０の位置には満載のスタックポールが
配されて完成品のディスクの供出に備える。

【００３３】以上述べたように，スピン振り切り器１７
あるいは２３の処理時間は，塗料吐出器１３の処理時間
の約２倍を必要とするが，スピン振り切り器は１７と２
３の２式備えており，かつディスクの移載手段について
も，移動アーム１５，１９の組と移載アーム２１，２３
の組の２組を備えているので，各工程の速度はほぼ同一
となる。したがって装置全体としての速度を向上させる
ことができる。

【００３４】図３は図１に示した形態の一部分を変更し
たものであって，ディスク受入れ側及び送出側のターン
テーブル３と３７の代わりに，直線状のコンベヤ４７を
使用したものを示す。ｄ４の位置にて，最後のディスク
が運ばれて空になったスタックポール５はコンベヤ４７
によって順次送られて，ディスク受取位置ｄ１９へ達
し，被膜形成されたディスクをそこに集積する。コンベ
ヤ４７で前・後工程と結合することにより、前・後工程
間のディスク搬送が効率的になる。ここでも、位置ｄ１
８、位置ｄ１９それぞれの中心が移載アーム３５の吸着
パッド（図示せず）の旋回軌道上にそれぞれ存在する。

【００３５】図４は図１に示した形態の一部分を変更し
たものであって，クリーナー９を１カ所とし，その位置
ｄ６の後の位置ｄ７にスパッタ成膜装置５１を結合して
ある。ディスクの動きを説明すると，ｄ７の位置のディ
スクは回転移載アーム４９により吸着され，その支点４
９ｃを中心に回転してスパッタ成膜装置５１内の位置ｄ
８に移動する。つまり、この実施例の移載アーム４９は
支点４９ｃから等しい距離の両端部に吸着パッド（図示
せず）を有し、１８０°回転して位置ｄ７のディスクを
位置ｄ８に運ぶと同時に、位置ｄ８のディスクを位置ｄ
７に移載する。位置ｄ８に送られたディスクはスパッタ
成膜装置５１により反射膜が形成される。この実施例
は，スパッタ成膜装置５１でディスク基板上に反射膜や
記録膜としての金属膜を形成した直後に，塗料吐出器１
３ですぐにその金属膜に保護膜を塗布するので，効率的
にディスクの製造工程が進行するという利点がある。

【００３６】図５は図３に示した形態の一部分を変更し
たものであって，図３の構成にスパッタ成膜装置５１を
結合したものを示す。この形態では上述した利点に加え
て，効率的なディスク搬送の効果が加味される。

【００３７】図６は図４に示した形態の一部分を変更し
たものであって，ディスク検査装置５３を結合したもの
を示す。この実施例においてはスパッタ成膜装置５１に
おいて金属膜を形成し，塗料吐出器１３，スピン振り切
り器１７，２３被膜硬化器２７等によって保護膜の形成
されたディスクは、ｄ１９の位置において回転移載アー
ム５５によりｄ２１の位置へと移動される。図におい
て，回転移載アーム５５は、支点５５ｐから延びる３本
の移載アーム部材のそれぞれの先端部に設けられた吸着
パッド５５ａ，５５ｂ，５５ｃによって吸着され、支点
５５ｐを中心に９０度往復回転してディスクを移動す
る。ターンテーブル２７の位置ｄ１９のディスクは回転
移載アーム５５の吸着パッド５５ａに吸着されて、ディ
スク検査装置５３の位置ｄ２１に運ばれ、所定検査項目
について検査される。検査を終了したディスクはｄ２１
の位置から吸着パッド５５ｂによって吸着されて不良デ
ィスク廃棄口５７の入り口であるｄ２２の位置に移動さ
れる。このときｄ２２の位置にはアクチュエータ５７ｓ
があり，ディスク検査装置５３の判定信号がディスク搬
送に先立ってアクチュエータ５７ｓに送られ、不良のと
きのみアクチュエータ５７ｓが引っ込んだ状態でディス
クが搬送されてくるのを待ち、ｄ２２の位置に送られて
来た不良のディスクを下へ落下させる。良品のときには
ｄ２２の位置のディスクはアクチュエータ５７ｓの上に
一旦載置され，回転移載アーム５５の次のストロークで
吸着パッド５５ｃに吸着されて、ターンテーブル３７の
位置ｄ２３に移動送出される。

【００３８】図７は図５に示した形態の一部分を変更し
たものであって，ディスク検査装置５３を結合したもの
である。なお，この実施例においてはコンベヤ４７の他
にコンベヤ４８を備えており，被膜形成が完了したディ
スクをｄ２３の位置で送出できるように，空のスタック
ポール３９を配している。このスタックポール３９はコ
ンベヤ４７上を矢印方向に移動してきて，その左端で切
り換え器５０でわずかに平行移動してｄ２３の位置に来
る。このｄ２３の位置で光ディスクがスタックポール３
９に満載されると，コンベヤ４８上を通って完成したス
タックポール３９の光ディスク群は送出される。

【００３９】図８は図６に示した形態の一部分を変更し
たものであって，受入れ側スタックポール５用のターン
テーブル３を除き，そこに射出成形装置５９を結合した
ものである。射出成形装置５９で形成されたディスクを
ディスク取り出しロボット５９ａから取り出し，ディス
ク搬送ユニット５９ｂによってｄ２⇒ｄ３⇒ｄ４と移動
させる。ｄ４の位置からは図６に示したものと同様であ
る。これによればディスク基板の成形から，金属膜形
成，保護用被膜形成，ディスク検査まで行う一貫生産設
備が得られる。

【００４０】図９は図８に示した形態の一部分を変更し
たものであって，処理の完了したディスクの送出手段と
してのターンテーブル３７を，コンベヤ６３に代えたも
のである。検査の完了したディスクはｄ２３の位置に送
られて，スタックポール３９に積載される。そして満載
になったときに，コンベヤ６１上を矢印方向に移動す
る。そして次の工程で空になったスタックポール４０は
コンベヤ６３上を戻ってくる。コンベア６３の右端で切
り換え器６５によりコンベヤ６１の側に切り換えられ
る。

【００４１】これでは処理完了したディスクを搬送する
スタックポールの動きが次工程へ有効利用できるほか，
空になったスタックポールも有効に戻される。なお，以
上述べた形態において、回転移載アーム５５の３本の移
載アーム部材は、支点からほぼ９０度間隔で放射外方向
に延びているが，各ディスク受渡し位置の配置関係によ
って９０度以外の間隔，例えば６０度でも勿論良い。

【００４２】図１０は本発明の実施例であって，図１に
示した形態において，移載アーム１５，１９，２１，２
５を，支点７１ａからほぼ９０°の間隔で放射外方向に
延びる４本の移載アーム部材７１ｂ〜７１ｅを一体駆動
する十字式の移載アーム７１にすると共に，それに伴っ
て塗料吐出部の６ポジションのターンテーブル１１を４
ポジションのターンテーブル７０にし，また同様に紫外
線照射部の８ポジションのターンテーブル３３を６ポジ
ションのターンテーブル７４にした点が主に異なるとこ
ろである。

【００４３】この実施例において，十字式の移載アーム
７１は上下及び旋回動作を行うが，旋回動作は真上から
見て，９０度時計まわりと９０度反時計まわりの繰り返
しであり，９０度時計回りのときに位置ｄ８→ｄ９，ｄ
９→ｄ１１のディスク搬送を行い，９０度反時計回りの
ときに位置ｄ８→ｄ１０，ｄ１０→ｄ１１のディスクの
搬送を行う。この点についてもう少し詳しく述べると、
９０度時計回りのとき、移載アーム部材７１ｂは位置ｄ
８のディスクを位置ｄ９へ、同時に移載アーム部材７１
ｃは位置ｄ９のディスクを位置ｄ１１へ移載する。この
とき移載アーム部材７１ｄ，７１ｅの先端部は位置ｄ
８、位置ｄ１０にある。次に十字式の移載アーム７１は
９０度反時計回りを行い、移載アーム部材７１ｄは位置
ｄ８のディスクを位置ｄ１０へ、同時に移載アーム部材
７１ｅは位置ｄ１０のディスクを位置ｄ１１へ移載す
る。この実施例ではクリーナ９，１０の設置数が１個に
なると共に、移載アームの駆動機構を簡単なものにで
き，また全体を小型簡素化できる利点がある。また，こ
の実施例ではターンテーブル７０における位置ｄ８に運
ばれたディスクがほとんど待つことなく順次，スピン振
り切り器１７，２３に送られるので，より均一で品質の
高い被膜を形成することが可能である。

【００４４】この実施例では，移載アーム７１がスピン
振り切り器１７，２３の真上に停止するため，スピン振
り切り器１７，２３の保守・点検や，位置ｄ９，ｄ１０
のディスクを着脱する必要のある場合は不便である。そ
こで図１１に示すように，移載アーム７１の支点軸７１
Ｘと移載アーム７１との間に，設定値以上のトルクが作
用すると締結状態が解除され回転自在になるトルクリミ
ッタ７１Ｙが設置される。移載アーム７１は，人手にて
回せばトルクリミッタ７１Ｙが外れて回転自在になるの
で，作業に支障の無い位置へ移載アーム７１を動かすこ
とができる。またトルクリミッタ７１Ｙは，移載アーム
７１が異物に衝突した場合にも、設定値以上のトルクを
遮断し、移載アーム７１には過大な力がかからないの
で、破損防止安全装置としても機能する。

【００４５】図１２は本発明の別の実施例であって，図
１０に示した実施例における移載アームが，支点からほ
ぼ９０°の間隔で放射外方向に延びる４本の移載アーム
部材を備えていたのに対し，この実施例では支点７１ａ
からほぼ９０°の間隔で放射外方向に延びる３本の移載
アーム部材７１ｂ〜７１ｄを備えた移載アーム７１を用
いているところに特徴がある。

【００４６】動作においては，前記実施例における４本
の移載アーム部材は時計方向，反時計方向に９０度交互
に回転すれば良かったが，この実施例における３本の移
載アーム部材７１ｂ〜７１ｄは元の位置（図示の位置）
から時計方向に９０°回転した後、元の位置に戻り、次
に反時計方向に９０°回転して元の位置に戻るという動
作を繰り返すことになる。したがって、移載アームの回
転角度の範囲は１８０°になる。もう少し動作を詳しく
説明すると，先ず移載アーム７１が時計方向にほぼ９０
度回転するものとすると，移載アーム部材７１ｂと７１
ｃがそれぞれ位置ｄ８，ｄ９のディスクを吸着保持して
位置ｄ９，ｄ１１へ移載する。そして直ぐに反時計方向
にほぼ９０度回転して元の位置（図示の位置）に戻る。
次に移載アーム７１が反時計方向にほぼ９０度回転し，
移載アーム部材７１ｂと７１ｄがそれぞれ位置ｄ８，ｄ
１０のディスクを吸着保持して位置ｄ１０，ｄ１１へ移
載する。しかる後，直ぐに時計方向にほぼ９０度回転し
て元の位置（図示の位置）に戻る。この実施例でも図１
０に示した実施例と同様な効果が得られる。

【００４７】なお，ここではディスク排出用の移載アー
ムとして，ターンテーブル７４における位置ｄ１４のデ
ィスクをコンベア４７のディスク受取位置ｄ１５へ直線
的に搬送する直線運動する移載アーム７５を用いてい
る。

【００４８】ここで、図１０及び図１２で示した移載ア
ームの移載アーム部材がそれぞれ４本，３本であった
が，支点からほぼ９０°の間隔で放射外方向に延びる２
本であっても勿論よい。例えば，２本の移載アーム部材
が図１２における位置ｄ８，ｄ９にある場合，先ず移載
アームは時計回りに回転してｄ８→ｄ９，ｄ９→ｄ１１
にディスク搬送を行った後，反時計回りにほぼ９０°回
転して位置ｄ８，ｄ１０まで戻る。次に反時計回りにほ
ぼ９０°回転してｄ８→ｄ１０，ｄ１０→ｄ１１へディ
スク搬送を行った後，時計回りにほぼ９０°回転して位
置ｄ８，ｄ９まで戻るという動作を繰り返す。したがっ
て，移載アームの回転角度の範囲はほぼ２７０度にな
り，比較的処理速度の遅い装置には有効である。また，
支点から９０°よりも小さい角度間隔で延びる２本の移
載アーム部材を有する移載アームを一対備えても勿論よ
い。

【００４９】なお，前記各実施例で述べた種々のコンベ
ア，ターンテーブル，移載アームは実施例の組み合わせ
だけでなく，実施例間で種々の組み合わせができること
は容易に理解できるであろう。また，上記実施例では塗
料として紫外線硬化型の塗料を用いた関係で，塗膜の硬
化装置として紫外線照射型のものを示したが，塗料とし
て溶剤を使用した熱硬化型の塗料を用いた場合には通常
の加熱硬化装置を用いることができる。

【００５０】

【発明の効果】本発明は以上述べたような特徴を有して
おり，塗料滴下処理時間に対してスピン振り切り処理時
間は２倍又はそれ以上必要なところ，スピン振り切り処
理手段とそれに伴う移載手段を複数備えているので，デ
ィスク１枚当たりの処理時間についての装置全体の流れ
速度については，スピン振り切り処理時間の制限を受け
ない。したがって，光ディスクや磁気ディスク等の表面
の被膜形成の際に，その製造工程の処理速度を高めるこ
とができる。また、特に高粘度の塗布液を使用して被膜
の厚さを大きくする場合や，溶剤を使用した熱硬化性塗
料を使用して被膜の均一性を高める場合にはその効果が
顕著である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる光ディスク用被膜形成装置の基
本的形態を示す図である。

【図２】スタックポールの構造を示す図である。

【図３】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図４】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図５】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図６】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図７】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図８】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図９】本発明別の基本的形態を示す図である。

【図１０】本発明にかかる光ディスク用被膜形成装置の
実施例を示す図である。

【図１１】図１０に示した実施例に用いた移載アームを
説明するための図である。

【図１２】本発明にかかる光ディスク用被膜形成装置の
別の実施例を示す図である。

【図１３】従来の光ディスク用被膜形成装置の一例を示
す図である。

【符号の説明】

１…光ディスク用被膜形成装置
３…ターンテーブル ５…スタックポール ７…移動アーム
９，１０…クリーナー １１…ターンテーブル １３…塗料吐出器
１５…移載アーム １７…スピン振り切り器 １９…移載アーム
２１…移載アーム ２３…スピン振り切り器 ２５…移動アーム
２７…被膜硬化器 ２９…紫外線照射部 ３１…遮光カバー
３３…ターンテーブル ３５，３６…移載アーム ３７…ターンテーブル
３９，４０…スタックポール ４７，４８…コンベヤ ４９…回転移載アーム
５０…切り換え器 ５１…スパッタ成膜装置 ５３…ディスク検査装置
５５…回転移載アーム ５７…不良ディスク廃棄口 ５９…射出成形装置
６１，６３…コンベヤ ６５…切り換え器 ７０…ターンテーブル
７１…移載アーム ７２…被膜硬化器 ７４…ターンテーブル
７５…移載アーム ｄ…光ディスク ｄ１，ｄ２，．．．光ディ
スクの位置を示す符号

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−101867（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−153930（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−271033（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−39212（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−82515（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−86828（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 7/26 531 B05C 11/08 B05C 13/02 G03F 7/16 501

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ディスクの表面に被膜を形成する装置であ
   って、塗料をディスク上に滴下する塗料吐出手段と、こ
   の塗料吐出手段の２倍の台数でディスク上の前記塗料を
   遠心力により拡げて均一の被膜を形成するスピン振り切
   り処理手段と、これらスピン振り切り処理手段から前記
   ディスクを交互に受け取って該ディスク上に形成された
   被膜を硬化させる被膜硬化装置と、時計方向及び反時計
   方向に駆動される軸部材とこの軸部材に対して放射外方
   向に延びる複数の移載アーム部材とからなって前記塗料
   の滴下されたディスクを前記スピン振り切り処理手段に
   交互に振り分けて移載する移載手段を備えたことを特徴
   とするディスク用被膜形成装置。
2. 【請求項２】請求項１において、前記移載手段がその時
   計方向又は反時計方向の力を制限するトルクリミッタを
   備えたことを特徴とするディスク用被膜形成装置。
3. 【請求項３】請求項１において、前記被膜の硬化された
   ディスクを検査するディスク検査装置を備え、該ディス
   ク検査装置からの信号により良品のディスクと不良品の
   ディスクをそれぞれの位置に振り分けて移載する移載装
   置を備えたことを特徴とするディスク用被膜形成装置。
4. 【請求項４】ディスクの表面に被膜を形成する方法にお
   いて、ディスクに単一の所定位置で順次塗料を滴下し、
   塗料の滴下処理が施された前記ディスクを塗料滴下側の
   単一の所定位置から二つのスピン振り切り処理位置に交
   互に振り分けて移載し、前記二つのスピン振り切り処理
   位置に前記ディスクが交互に載置される毎に順次それら
   ディスクを高速回転させて前記塗料の振り切り処理を順
   次行って前記ディスクに被膜を形成し、前記二つのスピ
   ン振り切り処理位置における前記ディスクを硬化処理側
   の所定位置に交互に移載した後に被膜の硬化処理を行う
   ことを特徴とするディスク用被膜形成方法。
5. 【請求項５】ディスクの表面に被膜を形成する方法にお
   いて、単一の所定位置でディスクに順次塗料を滴下し、
   塗料の滴下処理が施されたディスクを第１の所定位置か
   ら時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させ
   て第１、第２のスピン振り切り処理位置に交互に振り分
   けて移載し、前記第１、第２のスピン振り切り処理位置
   に前記ディスクが載置される毎に順次高速回転させて前
   記塗料の振り切り処理を行って前記ディスクにそれぞれ
   被膜を形成し、前記被膜の形成される毎に順次前記ディ
   スクを前記第１、又は第２のスピン振り切り処理位置か
   ら時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させ
   て第２の所定位置に移載し、その後前記被膜の硬化処理
   を行うことを特徴とするディスク用被膜形成方法。