JP2779570B2 - ディスク検査方法およびディスク製造装置 - Google Patents
ディスク検査方法およびディスク製造装置Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，コンパクトディスク，
光ディスクのようなディスクの検査方法および装置に関
する。
光ディスクのようなディスクの検査方法および装置に関
する。
【０００２】
【従来技術】先ず，コンパクトディスクの主な製造工程
について説明する。最初にポリカーボネイト製のディス
ク基板が射出成形される。このとき，録音データはディ
スク基板表面のピットの配列として，既にその基板中に
収められている。
について説明する。最初にポリカーボネイト製のディス
ク基板が射出成形される。このとき，録音データはディ
スク基板表面のピットの配列として，既にその基板中に
収められている。
【０００３】 次に，ディスク基板のピットを有する表
面に，反射膜としてアルミニウム膜をスパッタリング，
または蒸着により形成する。このアルミニウム膜は，デ
ータ読み取り用のレーザ光をディスクプレーヤのピック
アッブに反射させる反射膜の役割を行う。
面に，反射膜としてアルミニウム膜をスパッタリング，
または蒸着により形成する。このアルミニウム膜は，デ
ータ読み取り用のレーザ光をディスクプレーヤのピック
アッブに反射させる反射膜の役割を行う。
【０００４】 この後で，アルミニウム膜の損傷，腐
食，劣化を防ぐために，アルミニウム膜の上に合成樹脂
の保護膜をスピンコーティングにより形成する。このよ
うにして合成樹脂の保護膜で覆われたディスクは，予め
決められた検査項目について順次検査が行われる。
食，劣化を防ぐために，アルミニウム膜の上に合成樹脂
の保護膜をスピンコーティングにより形成する。このよ
うにして合成樹脂の保護膜で覆われたディスクは，予め
決められた検査項目について順次検査が行われる。
【０００５】 このような製造工程が行われる生産ライ
ンについて，本発明を説明するための図４を利用して簡
単に説明すると，射出成形機１で射出成形されたディス
ク基板はスパッタ成膜装置２において前述のアルミニウ
ム膜が形成され，次にスピンコータ３に移送される。ス
ピンコータ３は，主にディスク基板表面に保護膜形成用
の合成樹脂塗料を供給する吐出部３Ａと，ディスク基板
表面に供給された合成樹脂塗料を高速回転による遠心分
離力で広げ，所望膜厚の均一な保護膜を形成するスピン
部３Ｂと，紫外線照射などによりその保護膜を硬化させ
る塗膜硬化促進部３Ｃとからなる。このようにして保護
膜の形成されたディスクはディスク検査装置４に送られ
る。
ンについて，本発明を説明するための図４を利用して簡
単に説明すると，射出成形機１で射出成形されたディス
ク基板はスパッタ成膜装置２において前述のアルミニウ
ム膜が形成され，次にスピンコータ３に移送される。ス
ピンコータ３は，主にディスク基板表面に保護膜形成用
の合成樹脂塗料を供給する吐出部３Ａと，ディスク基板
表面に供給された合成樹脂塗料を高速回転による遠心分
離力で広げ，所望膜厚の均一な保護膜を形成するスピン
部３Ｂと，紫外線照射などによりその保護膜を硬化させ
る塗膜硬化促進部３Ｃとからなる。このようにして保護
膜の形成されたディスクはディスク検査装置４に送られ
る。
【０００６】 さてここで，射出成形されたばかりのデ
ィスク基板はかなり温度が高いが，多くの従来の一貫生
産ラインにおいては，各工程での検査速度が遅いという
理由から射出成形されたディスク基板が所定の検査が施
されて検査装置４に至るまでにはかなりの時間がかか
り，したがって，検査装置４に供給される各ディスクの
温度は低くなっており，温度の高い状態で検査するのは
好ましくない検査項目があっても，検査装置４で自動的
に各ディスクを予め決められた検査項目に従って検査を
行うことができる。
ィスク基板はかなり温度が高いが，多くの従来の一貫生
産ラインにおいては，各工程での検査速度が遅いという
理由から射出成形されたディスク基板が所定の検査が施
されて検査装置４に至るまでにはかなりの時間がかか
り，したがって，検査装置４に供給される各ディスクの
温度は低くなっており，温度の高い状態で検査するのは
好ましくない検査項目があっても，検査装置４で自動的
に各ディスクを予め決められた検査項目に従って検査を
行うことができる。
【０００７】 しかし、新しい一部の検査時間の短い高
速度の自動生産ラインにおいては，ディスク検査装置４
に供給される各ディスクの温度が未だ高い状態にあるの
で，一旦スタッカーなどに集めて冷し，しかる後にその
スタッカーを検査ラインに運んで各ディスクを順次自動
的に予め決められた検査項目すべてを検査している。し
たがって，この場合には一貫生産ラインを構成するのは
難しく，また射出成形工程から最終的なディスクが得ら
れるまでには前述と同じくらいの時間がかかってしま
う。
速度の自動生産ラインにおいては，ディスク検査装置４
に供給される各ディスクの温度が未だ高い状態にあるの
で，一旦スタッカーなどに集めて冷し，しかる後にその
スタッカーを検査ラインに運んで各ディスクを順次自動
的に予め決められた検査項目すべてを検査している。し
たがって，この場合には一貫生産ラインを構成するのは
難しく，また射出成形工程から最終的なディスクが得ら
れるまでには前述と同じくらいの時間がかかってしま
う。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述のような
問題点を解決し，ディスクの一貫自動生産ラインの高速
化を可能にする検査などの検査方法および製造装置を提
案することを課題としている。
問題点を解決し，ディスクの一貫自動生産ラインの高速
化を可能にする検査などの検査方法および製造装置を提
案することを課題としている。
【０００９】
【問題を解決するための手段】この課題を解決するた
め，本発明は保護被膜の形成されたディスクを所定の検
査を行う検査方法および製造装置において，予め決めら
れた設定枚数のディスクについては予め決められた検査
項目の一部分を検査し，その設定枚数毎にディスク１枚
については別の位置に保持して冷し，次の設定枚数のデ
ィスクの検査の終了後に，あるいは設定時間後に前記冷
えたディスクについて予め決められ検査項目に従って検
査するものである。
め，本発明は保護被膜の形成されたディスクを所定の検
査を行う検査方法および製造装置において，予め決めら
れた設定枚数のディスクについては予め決められた検査
項目の一部分を検査し，その設定枚数毎にディスク１枚
については別の位置に保持して冷し，次の設定枚数のデ
ィスクの検査の終了後に，あるいは設定時間後に前記冷
えたディスクについて予め決められ検査項目に従って検
査するものである。
【００１０】
【実施例】図１乃至図４によって本発明の一実施例を説
明すると，射出成形機１で射出成形されたディスクＤは
スパッタ成膜装置２において前述のアルミニウム膜が形
成され，次にスピンコータ３に移送される。スピンコー
タ３で保護膜の形成されたディスクＤはディスク検査装
置４に送られる。このような製造工程の順序については
従来とあまり変わらないが，大きく異なる点はディスク
検査装置４をディスク製造ラインに組み入れることので
きる機構および検査方法にしたところにある。
明すると，射出成形機１で射出成形されたディスクＤは
スパッタ成膜装置２において前述のアルミニウム膜が形
成され，次にスピンコータ３に移送される。スピンコー
タ３で保護膜の形成されたディスクＤはディスク検査装
置４に送られる。このような製造工程の順序については
従来とあまり変わらないが，大きく異なる点はディスク
検査装置４をディスク製造ラインに組み入れることので
きる機構および検査方法にしたところにある。
【００１１】 図４に示すように，射出成形機１で射出
成形されたディスクＤは高速型スピンコータ３の所定位
置に置かれる。そのディスクＤは，先端に吸着機構を有
する旋回アームなどからなる第１の移送手段３Ａ１によ
り，塗料吐出部３Ａにおけるターンテーブル３Ａ２の４
か所に一定間隔で設置されたディスク受部に載置され
る。ターンテーブル３Ａ２が矢印方向に１／４回転した
位置で，ディスクＤは第２の移送手段２Ａにより，スパ
ッタ成膜装置２へ移送される。第２の移送手段２Ａは１
８０゜開いた一対の旋回アームを備え，それら各旋回ア
ームは第１の移送手段３Ａ１のものとほぼ同じである。
スパッタ成膜装置２で反射膜の形成されたディスクＤ
は，再び第２の移送手段２Ａによりターンテーブル３Ａ
２に戻され，次の吐出位置で塗料吐出ノズル３Ａ３によ
り保護膜形成用の塗料が供給される。
成形されたディスクＤは高速型スピンコータ３の所定位
置に置かれる。そのディスクＤは，先端に吸着機構を有
する旋回アームなどからなる第１の移送手段３Ａ１によ
り，塗料吐出部３Ａにおけるターンテーブル３Ａ２の４
か所に一定間隔で設置されたディスク受部に載置され
る。ターンテーブル３Ａ２が矢印方向に１／４回転した
位置で，ディスクＤは第２の移送手段２Ａにより，スパ
ッタ成膜装置２へ移送される。第２の移送手段２Ａは１
８０゜開いた一対の旋回アームを備え，それら各旋回ア
ームは第１の移送手段３Ａ１のものとほぼ同じである。
スパッタ成膜装置２で反射膜の形成されたディスクＤ
は，再び第２の移送手段２Ａによりターンテーブル３Ａ
２に戻され，次の吐出位置で塗料吐出ノズル３Ａ３によ
り保護膜形成用の塗料が供給される。
【００１２】 吐出ノズル３Ａ３は，吐出位置で停止し
たディスクＤの中心点を中心にしてある小円を描くよう
にほぼ１回転しながら，一定量の塗料をディスクＤに供
給する。しかし，吐出ノズル３Ａ３が一点に停止してい
て，吐出位置でディスクＤがほぼ１回転しても良い。塗
料の与えられたディスクＤは次の位置において，スピン
部３Ｂの第３の移送手段３Ｂ１により高速スピン部３Ｂ
２に移送される。
たディスクＤの中心点を中心にしてある小円を描くよう
にほぼ１回転しながら，一定量の塗料をディスクＤに供
給する。しかし，吐出ノズル３Ａ３が一点に停止してい
て，吐出位置でディスクＤがほぼ１回転しても良い。塗
料の与えられたディスクＤは次の位置において，スピン
部３Ｂの第３の移送手段３Ｂ１により高速スピン部３Ｂ
２に移送される。
【００１３】 第３の移送手段３Ｂ１は先端に吸着機構
を持つ一対の旋回アームなどからなり，一方の旋回アー
ムがターンテーブル３Ａ２土のディスクＤを吸着すると
き，他方の旋回アームが高速スピン部３Ｂ２のディスク
Ｄを吸着するようになっており，それそれのディスクＤ
を別々の一方の場所から他方の場所へ同時に移送する。
高速スピン部３Ｂ２はディスクＤを高速回転させて，吐
出ノズル３Ａ３で供給された塗料を遠心力により均一に
拡散させ，薄い均一の保護膜をディスク面に形成する。
を持つ一対の旋回アームなどからなり，一方の旋回アー
ムがターンテーブル３Ａ２土のディスクＤを吸着すると
き，他方の旋回アームが高速スピン部３Ｂ２のディスク
Ｄを吸着するようになっており，それそれのディスクＤ
を別々の一方の場所から他方の場所へ同時に移送する。
高速スピン部３Ｂ２はディスクＤを高速回転させて，吐
出ノズル３Ａ３で供給された塗料を遠心力により均一に
拡散させ，薄い均一の保護膜をディスク面に形成する。
【００１４】 このように保護膜の形成されたディスク
Ｄは，第３の移送手段３Ｂ１により塗膜硬化促進部３Ｃ
のターンテーブル３Ｃ１上に載置され，ターンテーブル
３Ｃ１の回転により紫外線照射装置３Ｃ２の下を通過す
るとき，保護膜が硬化される。保護膜の硬化されたディ
スクＤは，第４の移送手段５により検査装置としてのデ
ィスク検査装置４のディスク受け台４Ａ上に載置され
る。第４の移送手段５は第３の移送手段３Ｂ１と同様な
構成である。
Ｄは，第３の移送手段３Ｂ１により塗膜硬化促進部３Ｃ
のターンテーブル３Ｃ１上に載置され，ターンテーブル
３Ｃ１の回転により紫外線照射装置３Ｃ２の下を通過す
るとき，保護膜が硬化される。保護膜の硬化されたディ
スクＤは，第４の移送手段５により検査装置としてのデ
ィスク検査装置４のディスク受け台４Ａ上に載置され
る。第４の移送手段５は第３の移送手段３Ｂ１と同様な
構成である。
【００１５】 ディスク検査装置４のディスク受け台４
Ａは一定の速度で回転し，このときディスク検査装置４
はその筐体に設けられたレンズを通して光線をディスク
に照射し，その反射光を読みとって所定の検査を行うよ
うになっている。このディスク検査装置４はディスク受
け台４Ａの真上にディスク吸着ヘッド４Ｂを備えてお
り，そのディスク吸着ヘッドはこれを支持している可動
アーム４Ｃにより矢印で示すように上下動できるように
なっている。そして可動アーム４Ｃは固定アーム４Ｄに
より支持されている。
Ａは一定の速度で回転し，このときディスク検査装置４
はその筐体に設けられたレンズを通して光線をディスク
に照射し，その反射光を読みとって所定の検査を行うよ
うになっている。このディスク検査装置４はディスク受
け台４Ａの真上にディスク吸着ヘッド４Ｂを備えてお
り，そのディスク吸着ヘッドはこれを支持している可動
アーム４Ｃにより矢印で示すように上下動できるように
なっている。そして可動アーム４Ｃは固定アーム４Ｄに
より支持されている。
【００１６】 この動作について図３をも用いて説明す
ると，第４の移送手段５によりディスク検査装置４はデ
ィスク受け台４Ａに供給されるディスクＤはカウンタ
（図示せず）によりカウントされ，予め設定された設定
枚数以下の場合には，第１の検査開始指令が発せられ，
所定検査項目の一部分について検査が行われる。このよ
うに順次ディスク受け台４Ａに供給されるディスクＤは
未だ温度が高いので，このような状態で検査すると検査
結果に影響の生じる検査項目については検査が行われな
い。この検査が終了すると，第４の移送手段５が動作し
てディスク受け台４ＡのディスクＤを排出部６へ移送す
る。
ると，第４の移送手段５によりディスク検査装置４はデ
ィスク受け台４Ａに供給されるディスクＤはカウンタ
（図示せず）によりカウントされ，予め設定された設定
枚数以下の場合には，第１の検査開始指令が発せられ，
所定検査項目の一部分について検査が行われる。このよ
うに順次ディスク受け台４Ａに供給されるディスクＤは
未だ温度が高いので，このような状態で検査すると検査
結果に影響の生じる検査項目については検査が行われな
い。この検査が終了すると，第４の移送手段５が動作し
てディスク受け台４ＡのディスクＤを排出部６へ移送す
る。
【００１７】 このような検査動作を繰り返し，ディス
ク受け台４Ａに供給されたディスクＤが設定枚数（例え
ば，５０枚）に達すると，可動アーム４Ｃが作動してデ
ィスク吸着ヘッド４Ｂを下降させ，ディスク吸着ヘッド
４Ｂがディスク受け台４ＡのディスクＤを吸着し，可動
アーム４Ｃが作動してディスク吸着ヘッド４Ｂを上昇さ
せる。ディスク吸着ヘッド４Ｂは吸着したディスクＤを
上方の一定位置に保持する。この保持時間はタイマ（図
示せず）により予め設定された時間（例えば，３分間）
であり，その時間の経過と同時に第４の移送手段５にデ
ィスク供給停止信号が１枚分与えられると共に，ディス
ク吸着ヘッド４Ｂが降下して，空の状態のディスク受け
台４Ａに冷えたディスクＤを載置し，第２の検査開始指
令を発する。ここで，ディスタ吸着ヘッド４Ｂにより上
部位置に保持されたディスクＤは装置全体が冷却装置に
より冷却されているか，又はそうでない場合にはファン
（図示せず）などによる強制冷却器で冷却されるのが好
ましい。
ク受け台４Ａに供給されたディスクＤが設定枚数（例え
ば，５０枚）に達すると，可動アーム４Ｃが作動してデ
ィスク吸着ヘッド４Ｂを下降させ，ディスク吸着ヘッド
４Ｂがディスク受け台４ＡのディスクＤを吸着し，可動
アーム４Ｃが作動してディスク吸着ヘッド４Ｂを上昇さ
せる。ディスク吸着ヘッド４Ｂは吸着したディスクＤを
上方の一定位置に保持する。この保持時間はタイマ（図
示せず）により予め設定された時間（例えば，３分間）
であり，その時間の経過と同時に第４の移送手段５にデ
ィスク供給停止信号が１枚分与えられると共に，ディス
ク吸着ヘッド４Ｂが降下して，空の状態のディスク受け
台４Ａに冷えたディスクＤを載置し，第２の検査開始指
令を発する。ここで，ディスタ吸着ヘッド４Ｂにより上
部位置に保持されたディスクＤは装置全体が冷却装置に
より冷却されているか，又はそうでない場合にはファン
（図示せず）などによる強制冷却器で冷却されるのが好
ましい。
【００１８】 ディスクＤの冷却時間を予め決めた時間
にしたのは，ディスクＤの冷却時間を一定にすることに
よりその温度を一定にし，温度の違いによる検査データ
のバラツキを無くすためである。したがって，事故など
によりこの製造装置が停止した場合にも，設定時間の経
過に伴い前記第２の検査開始指令が発せられて，ディス
ク受け台４Ａに載置された冷えたディスクＤについて所
定の検査項目全部を検査するようになっている。そし
て、その１枚のディスクＤの検査が終了すると，再び第
１の検査開始指令が発せられ，前述と同様の動作が繰り
返される。
にしたのは，ディスクＤの冷却時間を一定にすることに
よりその温度を一定にし，温度の違いによる検査データ
のバラツキを無くすためである。したがって，事故など
によりこの製造装置が停止した場合にも，設定時間の経
過に伴い前記第２の検査開始指令が発せられて，ディス
ク受け台４Ａに載置された冷えたディスクＤについて所
定の検査項目全部を検査するようになっている。そし
て、その１枚のディスクＤの検査が終了すると，再び第
１の検査開始指令が発せられ，前述と同様の動作が繰り
返される。
【００１９】 また，前述のように第４の移送手段５に
ディスク供給停止信号が１枚分与えられて，ディスクの
移送動作が停止している期間では，射出成形機１を除き
他の機構は，ディスクＤの１枚分を検査する時間に相当
する時間だけ一時的に休止する。
ディスク供給停止信号が１枚分与えられて，ディスクの
移送動作が停止している期間では，射出成形機１を除き
他の機構は，ディスクＤの１枚分を検査する時間に相当
する時間だけ一時的に休止する。
【００２０】 そして，検査項目の全てが行われた１枚
のディスクＤの検査結果が合格の場合には，その前に部
分検査された設定枚数のディスクＤについても検査が合
格とされる。しかし，検査項目の全てが行われた１枚の
ディスクＤの検査結果が不合格の場合には，その前に部
分検査された設定枚数のディスクＤについての検査結果
は全て不合格とされる。
のディスクＤの検査結果が合格の場合には，その前に部
分検査された設定枚数のディスクＤについても検査が合
格とされる。しかし，検査項目の全てが行われた１枚の
ディスクＤの検査結果が不合格の場合には，その前に部
分検査された設定枚数のディスクＤについての検査結果
は全て不合格とされる。
【００２１】 検査の終了したディスクＤは，移送手段
５により排出部６のディスク置き台６Ａに置かれ，合格
品は排出アーム６Ｂによって排出用コンベア６Ｃ上のス
タックポール６Ｄに集積される。また，不合格品は排出
アーム６Ｂによってスタックポール６Ｅに集積される。
スタックポール６Ｄに集積された良品のディスクＤは排
出用コンベア６Ｃにより搬送され，排出ポジションでス
タックポール６Ｄと一緒に排出される。
５により排出部６のディスク置き台６Ａに置かれ，合格
品は排出アーム６Ｂによって排出用コンベア６Ｃ上のス
タックポール６Ｄに集積される。また，不合格品は排出
アーム６Ｂによってスタックポール６Ｅに集積される。
スタックポール６Ｄに集積された良品のディスクＤは排
出用コンベア６Ｃにより搬送され，排出ポジションでス
タックポール６Ｄと一緒に排出される。
【００２２】 なお，以上の実施例においては，ディス
ク受け台４Ａに供給されたディスクＤが設定枚数（例え
ば，５０枚）に達する毎に，部分検査前の１枚のディス
クＤを可動アーム４Ｃとディスク吸着ヘッド４Ｂにより
上昇させ，そのディスクＤを冷却させた後，検査項目全
部について検査を行ったが，そのディスクＤは温度の高
い状態でも検査可能な検査項目で不合格のものであるか
も知れない。この場合には前記動作が全く無駄になるの
で，部分検査済みのディスクＤが設定枚数になる度に，
その部分検査後の１枚のディスクＤを可動アーム４Ｃと
ディスク吸着ヘッド４Ｂにより土昇させ，そのディスク
Ｄを冷却させた後，検査項目全部について検査を行うと
前述の問題点を解決できる。
ク受け台４Ａに供給されたディスクＤが設定枚数（例え
ば，５０枚）に達する毎に，部分検査前の１枚のディス
クＤを可動アーム４Ｃとディスク吸着ヘッド４Ｂにより
上昇させ，そのディスクＤを冷却させた後，検査項目全
部について検査を行ったが，そのディスクＤは温度の高
い状態でも検査可能な検査項目で不合格のものであるか
も知れない。この場合には前記動作が全く無駄になるの
で，部分検査済みのディスクＤが設定枚数になる度に，
その部分検査後の１枚のディスクＤを可動アーム４Ｃと
ディスク吸着ヘッド４Ｂにより土昇させ，そのディスク
Ｄを冷却させた後，検査項目全部について検査を行うと
前述の問題点を解決できる。
【００２３】 以上の実施例では，ディスク検査装置４
のディスク受け台４Ａに一旦載置されたディスクＤを上
方に移動させ，土方に保持しており，この方式では他の
機構とのタイミングおよび制御は簡単であるが，可動ア
ーム４Ｃおよびディスク吸着ヘッド４Ｂなどか別途必要
になる。
のディスク受け台４Ａに一旦載置されたディスクＤを上
方に移動させ，土方に保持しており，この方式では他の
機構とのタイミングおよび制御は簡単であるが，可動ア
ーム４Ｃおよびディスク吸着ヘッド４Ｂなどか別途必要
になる。
【００２４】 この点，別の実施例では図４に鎖線で示
すように，塗膜硬化部３Ｃのターンテーブル３Ｃ１の受
渡し位置３Ｃ３とディスク検査装置４のディスク受け台
４Ａとの中間の冷却位置７にディスク受け台を配置して
いる。塗膜硬化部３Ｃのターンテーブル３Ｃ１の受渡し
位置３Ｃ３におけるディスクが設定枚数に達する毎に，
移送手段５の一方の吸着アームはその設定枚数目のディ
スクＤを冷却位置７にディスク受け台に載置する。この
とき移送手段５の他方の吸着アームは，ディスク検査装
置４のディスク受け台４ＡからのディスクＤを保持した
状態にあり，移送手段５が更に旋回してその他方の吸着
アームが排出部６のディスク置き台６Ａに達したとき、
ディスクＤをディスク置き台６Ａに置かれる。
すように，塗膜硬化部３Ｃのターンテーブル３Ｃ１の受
渡し位置３Ｃ３とディスク検査装置４のディスク受け台
４Ａとの中間の冷却位置７にディスク受け台を配置して
いる。塗膜硬化部３Ｃのターンテーブル３Ｃ１の受渡し
位置３Ｃ３におけるディスクが設定枚数に達する毎に，
移送手段５の一方の吸着アームはその設定枚数目のディ
スクＤを冷却位置７にディスク受け台に載置する。この
とき移送手段５の他方の吸着アームは，ディスク検査装
置４のディスク受け台４ＡからのディスクＤを保持した
状態にあり，移送手段５が更に旋回してその他方の吸着
アームが排出部６のディスク置き台６Ａに達したとき、
ディスクＤをディスク置き台６Ａに置かれる。
【００２５】 この実施例では移送手段５の一対の吸着
アームの吸着を別々に制御する必要があり，また中間の
移送手段５の図示右側の吸着アームが冷却位置７に停止
させるための制御も必要であるが，シーケンス制御だけ
で行えるので，コスト上有利であり，また移送手段５の
一方の吸着アームはその設定枚数目のディスクＤを冷却
位置７にディスク受け台に載置する動作の場合には，移
送手段５が速度を速めることにより，前述の実施例のよ
うにそれ以前の製造工程を一旦止める必要がないので，
生産ライン上非常に有利である。
アームの吸着を別々に制御する必要があり，また中間の
移送手段５の図示右側の吸着アームが冷却位置７に停止
させるための制御も必要であるが，シーケンス制御だけ
で行えるので，コスト上有利であり，また移送手段５の
一方の吸着アームはその設定枚数目のディスクＤを冷却
位置７にディスク受け台に載置する動作の場合には，移
送手段５が速度を速めることにより，前述の実施例のよ
うにそれ以前の製造工程を一旦止める必要がないので，
生産ライン上非常に有利である。
【００２６】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば，保護
膜の形成されたディスクを所定の検査を行う検査方法お
よび製造装置において，予め決められた設定枚数のディ
スクについては予め決められた検査項目の一部分を検査
し，その設定枚数毎にディスク１枚については別の位置
に保持して冷し，次の設定枚数のディスクの検査の終了
後に，あるいは設定時間後に前記冷えたディスクについ
て予め決められ検査項目に従って検査するので，ディス
クの一貫自動生産ラインを高速化することができる。
膜の形成されたディスクを所定の検査を行う検査方法お
よび製造装置において，予め決められた設定枚数のディ
スクについては予め決められた検査項目の一部分を検査
し，その設定枚数毎にディスク１枚については別の位置
に保持して冷し，次の設定枚数のディスクの検査の終了
後に，あるいは設定時間後に前記冷えたディスクについ
て予め決められ検査項目に従って検査するので，ディス
クの一貫自動生産ラインを高速化することができる。
【図１】 本発明の一実施例を説明するための図面であ
る。
る。
【図２】 本発明の一実施例に用いられるディスク検査
装置の一例を説明するための図面である。
装置の一例を説明するための図面である。
【図３】 本発明の一実施例を説明するための図面であ
る。
る。
【図４】 本発明の一実施例を説明するための図面であ
る。
る。
１・・・・射出成形機 ２・・・・スパッタ成膜装置 ２Ａ，３Ａ１，３Ｂ１，５・・・・移送手段 ３・・・・スピンコータ ３Ａ・・・・塗料吐出部 ３Ａ２，３Ｃ１・・・・ターンテーブル ３Ａ３・・・・吐出ノズル ３Ｂ・・・・スピン部 ３Ｂ２・・・・高速スピン部 ３Ｃ・・・・塗膜硬化促進部 ３Ｃ２・・・・紫外線照射装置 ４・・・・ディスク検査装置 ４Ａ・・・・ディスク受け台 ４Ｂ・・・・ディスク吸着ヘッド ４Ｃ・・・・可動アーム ６・・・・排出部 ６Ａ・・・ディスク置き台 ６Ｄ，６Ｅ・・・・スタックポール ６Ｂ・・・・排出アーム ６Ｃ・・・・排出用コンベア ７・・・・冷却位置 Ｄ・・・・ディスク
Claims (5)
- 【請求項１】 保護膜の形成されたディスクを順次検査
装置の所定位置に移送して所定の検査を行うディスク検
査方法において，予め決められた設定枚数の前記ディス
クについては予め決められた検査項目の一部分を行い，
その設定枚数目のディスク１枚を予め決めた時間だけ前
記検査装置の所定位置とは別の位置に保持して冷した後
に，前記検査装置の前記所定位置に戻して前記冷えたデ
ィスクについて予め決められた検査項目に従って検査す
ることを特徴とするディスク検査方法。 - 【請求項２】 保護膜の形成されたディスクを順次検査
装置に移送して所定の検査を行うディスク検査方法にお
いて，予め決められた設定枚数の前記ディスクについて
は予め決められた検査項目の一部分を行い，その設定枚
数のディスクの次のディスク１枚を次の設定枚数のディ
スクの検査が終了するまで別の位置に保持して冷し，前
記次の設定枚数のディスクの検査の終了後に前記冷えた
ディスクについて予め決められた検査項目に従って検査
することを特徴とするディスク検査方法。 - 【請求項３】 保護膜の形成されたディスクを順次検査
装置に移送して検査するディスク検査方法において，予
め決められた設定枚数の前記ディスクについて予め決め
られた検査項目の一部分を行って，各ディスクの良否の
判定を行い，その設定枚数のディスクの内の良と判定さ
れたディスク１枚を次の設定枚数のディスクの検査が終
了するまで別の位置に保持して冷し，前記次の設定枚数
のディスクの検査の終了後，または所定時間の経過後に
前記冷えたディスクを予め決められた検査項目に従って
検査することを特徴とするディスク検査方法。 - 【請求項４】 ディスク基板に保護膜を形成する保護膜
形成装置と，保護膜の形成されたディスクを検査する検
査装置と，前記保護膜の形成されたディスクを前記保護
膜形成装置から前記検査装置へ移送する移送手段とを少
なくとも備えたディスク製造装置において，前記移送手
段が前記ディスクを前記保護膜形成装置から前記検査装
置へ設定枚数移送する度に，移送保持手段がその検査装
置の所定位置に載置された前記ディスクの内の１枚を別
の位置に移動させて保持し，前記検査装置が前記設定枚
数のディスクについては前記１枚のディスクを除き，予
め決められた検査項目の内の一部分を行い，また前記移
送手段は前記設定枚数毎に前記検査装置へディスクを移
送するのを中断してその検査装置にディスクが載置され
ていない状態を一時的に作ると共に，前記移送保持手段
が別の位置に保持された前記１枚のディスクを前記検査
装置の所定位置に戻して前記予め決められ検査項目につ
いて検査を行うことを特徴とするディスク製造装置。 - 【請求項５】 ディスク基板に保護膜を形成する保護膜
形成装置と，保護膜の形成されたディスクを検査する検
査装置と，前記保護膜の形成されたディスクを前記保護
膜形成装置から前記検査装置へ移送する移送手段とを少
なくとも備えたディスク製造装置において，前記移送手
段が前記ディスクを前記保護膜形成装置から前記検査装
置へ設定枚数移送する度に，その移送手段は前記ディス
ク１枚を前記検査装置の所定位置とは別の位置に置き，
前記検査装置が前記設定枚数のディスクについて予め決
められた検査項目の内の一部分を行った後，前記移送手
段は前記別の位置の１枚のディスクを前記検査装置の所
定位置へ移送し，その検査装置が前記予め決められた検
査項目について検査行うことを特徴とするディスク製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4311029A JP2779570B2 (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | ディスク検査方法およびディスク製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4311029A JP2779570B2 (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | ディスク検査方法およびディスク製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06139624A JPH06139624A (ja) | 1994-05-20 |
| JP2779570B2 true JP2779570B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=18012258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4311029A Expired - Fee Related JP2779570B2 (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | ディスク検査方法およびディスク製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2779570B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3354761B2 (ja) * | 1995-08-30 | 2002-12-09 | オリジン電気株式会社 | ディスク用被膜形成装置 |
-
1992
- 1992-10-26 JP JP4311029A patent/JP2779570B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06139624A (ja) | 1994-05-20 |
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