JPH03101867A - スピンナ装置 - Google Patents
スピンナ装置Info
- Publication number
- JPH03101867A JPH03101867A JP1241068A JP24106889A JPH03101867A JP H03101867 A JPH03101867 A JP H03101867A JP 1241068 A JP1241068 A JP 1241068A JP 24106889 A JP24106889 A JP 24106889A JP H03101867 A JPH03101867 A JP H03101867A
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- JP
- Japan
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- disk
- low speed
- rotating position
- conveyor
- speed rotating
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- Pending
Links
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- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業Ｌの利川分ｆｆＦ］
本発明は，合成樹脂村料を用いてディスクにや膜を形戚
ずるスピンナ袈置に関する． 〔従来の技術〕 第３図は従来のスピンナ袈刀を説明するための図である
．先ず，：１−ティングｉｉｉ７の未処理のディスク１
がディスク供給＋＋ｙ． ；ｉ ２に載置される。次に
アーム先端に吸若バッドを持ったディスク移栽アーム３
が下降して．ディスク１を吸着し上界後１ピソチ移動し
てディスクｌをｌｌｉ１電ブロー位ｒ４に戎置し．元の
位ｎに戻る．静電ブロー位置４のディスクｌは静電ブロ
ーが行われ．ディスク１に付着している不要物が取り除
かれる．次に２ディスク移５！アーム３が同じ１サイク
ルの動作を行うと，静電ブロー位ｎ４のディスク１はス
ビンコタハウス５内のスピンナ｛１γ；＋７６に載訳さ
れる。スピンナ位７１．６のディスク１は低速ハ１ノ転
し，この低速回転しているディスクｌに．吐出ノズル７
から紫外線硬化塗料が供給される。ｑ才ｌの供給が完了
すると，ディスクｌは高速回転し５ ディスク１１の塗
料は遠心力によりディスク表面に分故される。次に．デ
ィスク移載アーム３が同じ１サイクルの動作を行うと，
ディスクｌはコンベヤ８の受け皿に戎訳され．移動して
．ディスク１が紫外線４射位数９に達すると，ディスク
ｌは紫外線発生ランプから発生ずる紫外線を照射され，
ディスク表面の塗料が硬化する。次に．コンベヤ８が移
動して ディスク１がディスク排出＋Ｉｔ７ｔ １０に
達するとディスク１は一連の工程を終え，払い出される
〔発明が解決しようとする課題〕 しかし このような従来のスピンナ装置にあっては，デ
ィスクを似速回転させながらディスクに生宰｝を供給す
る位置（低速回転位置）とディスクを高辻回転させて空
＄ｌをディスク表面に分散させる位置（高速１ｉｉ１転
位訛）とが同一位置であったため，保＝舊膜を塗布する
時間が（低速１ｉｉ１転時問」−高辻四転特間）となり
，スピンノ゛装ｒの−｝速化ができｔＫいという欠点が
あった。また，ディスクをスピンナ｛１γ訳に載置した
り．スピンナ｛，７ ７Ｆから移動したりする際に．吐
出ノズルをディスク移動の彷げとならないように，その
都度移動させなければならず，時問短縮のためにＩＩＩ
： ＩＩ＋ノズルを速く動かすと５先端から塗料が飛び
散るという欠点があった。
ずるスピンナ袈置に関する． 〔従来の技術〕 第３図は従来のスピンナ袈刀を説明するための図である
．先ず，：１−ティングｉｉｉ７の未処理のディスク１
がディスク供給＋＋ｙ． ；ｉ ２に載置される。次に
アーム先端に吸若バッドを持ったディスク移栽アーム３
が下降して．ディスク１を吸着し上界後１ピソチ移動し
てディスクｌをｌｌｉ１電ブロー位ｒ４に戎置し．元の
位ｎに戻る．静電ブロー位置４のディスクｌは静電ブロ
ーが行われ．ディスク１に付着している不要物が取り除
かれる．次に２ディスク移５！アーム３が同じ１サイク
ルの動作を行うと，静電ブロー位ｎ４のディスク１はス
ビンコタハウス５内のスピンナ｛１γ；＋７６に載訳さ
れる。スピンナ位７１．６のディスク１は低速ハ１ノ転
し，この低速回転しているディスクｌに．吐出ノズル７
から紫外線硬化塗料が供給される。ｑ才ｌの供給が完了
すると，ディスクｌは高速回転し５ ディスク１１の塗
料は遠心力によりディスク表面に分故される。次に．デ
ィスク移載アーム３が同じ１サイクルの動作を行うと，
ディスクｌはコンベヤ８の受け皿に戎訳され．移動して
．ディスク１が紫外線４射位数９に達すると，ディスク
ｌは紫外線発生ランプから発生ずる紫外線を照射され，
ディスク表面の塗料が硬化する。次に．コンベヤ８が移
動して ディスク１がディスク排出＋Ｉｔ７ｔ １０に
達するとディスク１は一連の工程を終え，払い出される
〔発明が解決しようとする課題〕 しかし このような従来のスピンナ装置にあっては，デ
ィスクを似速回転させながらディスクに生宰｝を供給す
る位置（低速回転位置）とディスクを高辻回転させて空
＄ｌをディスク表面に分散させる位置（高速１ｉｉ１転
位訛）とが同一位置であったため，保＝舊膜を塗布する
時間が（低速１ｉｉ１転時問」−高辻四転特間）となり
，スピンノ゛装ｒの−｝速化ができｔＫいという欠点が
あった。また，ディスクをスピンナ｛１γ訳に載置した
り．スピンナ｛，７ ７Ｆから移動したりする際に．吐
出ノズルをディスク移動の彷げとならないように，その
都度移動させなければならず，時問短縮のためにＩＩＩ
： ＩＩ＋ノズルを速く動かすと５先端から塗料が飛び
散るという欠点があった。
本発明は以上の欠点を除去するために，合成樹脂材亨ト
を川いてディスクに？ＩＦ＋を形威するスピンナ装置に
おいて，上記ディスクの低速回転位訛と高速回転位置と
を別にすると共に，上記但速回転位訳をコンベヤ上或い
はターンテーブル」二に設けたことを特徴とするスピン
ナ装訳を提供するものである。
を川いてディスクに？ＩＦ＋を形威するスピンナ装置に
おいて，上記ディスクの低速回転位訛と高速回転位置と
を別にすると共に，上記但速回転位訳をコンベヤ上或い
はターンテーブル」二に設けたことを特徴とするスピン
ナ装訳を提供するものである。
このようなスピンナ装置によれば．低速回転位置におり
る，ディスクを低速回転させながらディスクに合成出脂
材料を供給する作業と，高速回転位訝における，ディス
クを高速回転させて合成樹脂材料をディスク表面に分散
させる作業とを同時に並行して行うことができる。また
，合成樹脂材料の吐出はコンベヤ上或いはターンテーブ
ル上の低速回転位訛において行われるので，ディスク移
動の都度吐出ノズルを移動させる必要がｆＫい．〔実施
例〕 第ｌ図により本発明の一実ｋ例を説明する．先ず，コー
ティング曲の未処理のディスクｌがベノレトまたはチェ
ーンのようなコンベヤＩｌｌ二のディスク供給（Ｌ？？
Ｉ２に載置される。次に，コンベヤ１ｌが一定距離移動
してディスク１が慨速回転位訛ｌ３に達すると，ディス
クＩが低速回転（６０〜ＩＯＯｒｐｍ）シ，同時にその
ディスクｌに吐出ノズルＩ４から紫外線硬化塗料が供給
される。生料の供給が完了すると．コンベヤ１１が一定
距離移動する．次に，アーム先端に吸若バフドを持った
ディスク移戎アームｌ５が下降して，ディスクＩを吸着
し上界Ｉｌｌピッチ移動してディスクｌをスピンコータ
ノ＼ウスＬＧ内の高速回転位７１１７に戎置し，元の｛
１７切に戻るｅ高ｉ！！回転位７ｃｌ７上のディスク１
は高速回転（２０００〜４００Ｏｒｐｍ ） シ， デ
ィスク１−ヒの塗ｆ＋は遠心力によりディスク表面に分
散される。次に，ディスク移戎アームｌ５が同じＩサイ
クルの動作を行うと高速回転位置ｌ７のディスク１はコ
ンベヤ１８の受り皿に戎置される．コンベヤ１８の移動
と共に．ディスクｌは紫外線発生ランプｌ９から発生す
る紫外線を照射され，ディスク表面の塗料が硬化する。
る，ディスクを低速回転させながらディスクに合成出脂
材料を供給する作業と，高速回転位訝における，ディス
クを高速回転させて合成樹脂材料をディスク表面に分散
させる作業とを同時に並行して行うことができる。また
，合成樹脂材料の吐出はコンベヤ上或いはターンテーブ
ル上の低速回転位訛において行われるので，ディスク移
動の都度吐出ノズルを移動させる必要がｆＫい．〔実施
例〕 第ｌ図により本発明の一実ｋ例を説明する．先ず，コー
ティング曲の未処理のディスクｌがベノレトまたはチェ
ーンのようなコンベヤＩｌｌ二のディスク供給（Ｌ？？
Ｉ２に載置される。次に，コンベヤ１ｌが一定距離移動
してディスク１が慨速回転位訛ｌ３に達すると，ディス
クＩが低速回転（６０〜ＩＯＯｒｐｍ）シ，同時にその
ディスクｌに吐出ノズルＩ４から紫外線硬化塗料が供給
される。生料の供給が完了すると．コンベヤ１１が一定
距離移動する．次に，アーム先端に吸若バフドを持った
ディスク移戎アームｌ５が下降して，ディスクＩを吸着
し上界Ｉｌｌピッチ移動してディスクｌをスピンコータ
ノ＼ウスＬＧ内の高速回転位７１１７に戎置し，元の｛
１７切に戻るｅ高ｉ！！回転位７ｃｌ７上のディスク１
は高速回転（２０００〜４００Ｏｒｐｍ ） シ， デ
ィスク１−ヒの塗ｆ＋は遠心力によりディスク表面に分
散される。次に，ディスク移戎アームｌ５が同じＩサイ
クルの動作を行うと高速回転位置ｌ７のディスク１はコ
ンベヤ１８の受り皿に戎置される．コンベヤ１８の移動
と共に．ディスクｌは紫外線発生ランプｌ９から発生す
る紫外線を照射され，ディスク表面の塗料が硬化する。
ディスクＩがディスク排出位置２０に達すると．ディス
ク１は一連の工程を終え．払い出される．第２図により
本発明の他の一実施例を説明する．この実施例は第Ｉ図
で説明した犬施例の二１ンベヤＩＩの代わりにターンテ
ーブル２１を用いるようにしたものである。先ず．コー
ティング前の未処理のディスク１がターンテーブル２ｌ
上のディスク供給位置２２に載乙される．次に．ターン
テーブル２Ｉが１ピッチ回転してディスクｌが低速回転
位Ｚ２３に達すると．ディスクｌが抵速回転（６０〜ｌ
ｏＯｒｐ哨）シ．同時にそのディスクｌに叶出ノズル２
４から紫外線硬化堂料が供給される．塗料の供給が完了
すると，ターンテーブル２ｌが１ピッチ回転する．次に
．アーム先端に吸着パッドを持ったディスク移載アーム
１５が下降して．ディスクｌを吸着し上昇後１ピッチ移
動してディスク１をスビンコータハウスＩ６内の高速回
転位訳ｌ７に載７１． Ｌ ．元の｛ｑ訳に戻る．以下
第１図の実施例で説明したのと同様の動作を行って．デ
ィスクＩがディスク排出位置に達すると，ディスクｌは
一連の工程を終え．払い出される． 尚，以上の実施例では，紫外線硬化塗料を用いてディス
クに保譜模を形威する場合について述べたが．他の合成
樹脂を用いてディスクに塗膜を形成する場合にも同様に
実施することができる。
ク１は一連の工程を終え．払い出される．第２図により
本発明の他の一実施例を説明する．この実施例は第Ｉ図
で説明した犬施例の二１ンベヤＩＩの代わりにターンテ
ーブル２１を用いるようにしたものである。先ず．コー
ティング前の未処理のディスク１がターンテーブル２ｌ
上のディスク供給位置２２に載乙される．次に．ターン
テーブル２Ｉが１ピッチ回転してディスクｌが低速回転
位Ｚ２３に達すると．ディスクｌが抵速回転（６０〜ｌ
ｏＯｒｐ哨）シ．同時にそのディスクｌに叶出ノズル２
４から紫外線硬化堂料が供給される．塗料の供給が完了
すると，ターンテーブル２ｌが１ピッチ回転する．次に
．アーム先端に吸着パッドを持ったディスク移載アーム
１５が下降して．ディスクｌを吸着し上昇後１ピッチ移
動してディスク１をスビンコータハウスＩ６内の高速回
転位訳ｌ７に載７１． Ｌ ．元の｛ｑ訳に戻る．以下
第１図の実施例で説明したのと同様の動作を行って．デ
ィスクＩがディスク排出位置に達すると，ディスクｌは
一連の工程を終え．払い出される． 尚，以上の実施例では，紫外線硬化塗料を用いてディス
クに保譜模を形威する場合について述べたが．他の合成
樹脂を用いてディスクに塗膜を形成する場合にも同様に
実施することができる。
以上述べたように本発明は，合成樹脂材料を用いてディ
スクに？！！股を形成するスピンナ装置において．ｌ記
ディスクの低速回転位置と高辻回転位訛とを別にすると
共に，上記｛Ｉｔ速回転位ｒをコンベヤ上或いはターン
テーブル上に設けたことを特徴とするスピンナ装訛であ
る．本発明はこのような特徴を有するので，ａｔ速回転
付置における．ディスクを低速回転させながらディスク
に合成樹脂材料を供給する作業と，高速回転位訳におけ
る．ディスクを高速回転させて合成樹脂材亨ｌをディス
ク表面に分散させる作業とを同時に並行して行うことが
できるので，スピンナ装己の音速化を図ることができる
．また，合成樹脂材卑ｌの吐出はコンベヤ上或いはター
ンテーブル上の低速回転位置において行われるので，デ
ィスク移動の都度吐出ノズルを移動させるＪ９がなくな
り，サイクルタイムを短縮することができる．
スクに？！！股を形成するスピンナ装置において．ｌ記
ディスクの低速回転位置と高辻回転位訛とを別にすると
共に，上記｛Ｉｔ速回転位ｒをコンベヤ上或いはターン
テーブル上に設けたことを特徴とするスピンナ装訛であ
る．本発明はこのような特徴を有するので，ａｔ速回転
付置における．ディスクを低速回転させながらディスク
に合成樹脂材料を供給する作業と，高速回転位訳におけ
る．ディスクを高速回転させて合成樹脂材亨ｌをディス
ク表面に分散させる作業とを同時に並行して行うことが
できるので，スピンナ装己の音速化を図ることができる
．また，合成樹脂材卑ｌの吐出はコンベヤ上或いはター
ンテーブル上の低速回転位置において行われるので，デ
ィスク移動の都度吐出ノズルを移動させるＪ９がなくな
り，サイクルタイムを短縮することができる．
第１図は本発明の一実施例を説明するための図第２図は
本発明の他の一実施例を説明するための図，第３図は従
来のスピンナ装訳を説明するための図である． ｌ・・・ディスク ２・・・ディスク供給位置
３・・・ディスク移載アーム ４・・・静電ブロー位置 ５・・・スビンコータハウ
ス６・・・スピンナ位置 ７・・・吐出ノズル８・
・・コンベヤ ９・・・紫外線照射位訳ｌＯ・
・・ディスク排出位置 ｌ２・・・ディスク供給位置 １４・・一吐出ノズル １６・・・スビンコータハウス ｌ７・・・高速回転位置１日・・・コンベヤＩ９・・・
紫外線発生ランプ ２ｏ・・・ディスク排出位置２ｌ・
・・ターンテーブル ２２・・・ディスク供給位置２
３・・・低速１１リ転位置 ２４・・・ＩＩＩ：
Ｉｌ＋ノズルＩ３・・・低速回転位訂 ｌ１・・・コンベヤ １５・・・ディスク移載アーム
本発明の他の一実施例を説明するための図，第３図は従
来のスピンナ装訳を説明するための図である． ｌ・・・ディスク ２・・・ディスク供給位置
３・・・ディスク移載アーム ４・・・静電ブロー位置 ５・・・スビンコータハウ
ス６・・・スピンナ位置 ７・・・吐出ノズル８・
・・コンベヤ ９・・・紫外線照射位訳ｌＯ・
・・ディスク排出位置 ｌ２・・・ディスク供給位置 １４・・一吐出ノズル １６・・・スビンコータハウス ｌ７・・・高速回転位置１日・・・コンベヤＩ９・・・
紫外線発生ランプ ２ｏ・・・ディスク排出位置２ｌ・
・・ターンテーブル ２２・・・ディスク供給位置２
３・・・低速１１リ転位置 ２４・・・ＩＩＩ：
Ｉｌ＋ノズルＩ３・・・低速回転位訂 ｌ１・・・コンベヤ １５・・・ディスク移載アーム
Claims (2)
- （１）合成樹脂材料を用いてディスクに塗膜を形成する
スピンナ装置において、上記ディスクの低速回転位置と
高速回転位置とを別にすると共に、上記低速回転位置を
コンベヤ上に設けたことを特徴とするスピンナ装置。 - （２）合成樹脂材料を用いてディスクに塗膜を形成する
スピンナ装置において、上記ディスクの低速回転位置と
高速回転位置とを別にすると共に、上記低速回転位置を
ターンテーブル上に設けたことを特徴とするスピンナ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1241068A JPH03101867A (ja) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | スピンナ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1241068A JPH03101867A (ja) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | スピンナ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03101867A true JPH03101867A (ja) | 1991-04-26 |
Family
ID=17068823
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1241068A Pending JPH03101867A (ja) | 1989-09-18 | 1989-09-18 | スピンナ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03101867A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06282885A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-10-07 | Origin Electric Co Ltd | ディスク用被膜形成装置および方法 |
| WO1999024336A1 (en) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | First Light Technology, Inc. | System and method for maintaining concentricity of a combination of a top and bottom substrate during the assembly of a bonded storage disk |
| US6098272A (en) * | 1998-05-19 | 2000-08-08 | First Light Technology, Inc. | System for maintaining concentricity of a combination of a top and bottom substrate during the assembly of a bonded storage disk |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61171566A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コ−テイング装置 |
-
1989
- 1989-09-18 JP JP1241068A patent/JPH03101867A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61171566A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コ−テイング装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06282885A (ja) * | 1993-01-26 | 1994-10-07 | Origin Electric Co Ltd | ディスク用被膜形成装置および方法 |
| WO1999024336A1 (en) * | 1997-11-12 | 1999-05-20 | First Light Technology, Inc. | System and method for maintaining concentricity of a combination of a top and bottom substrate during the assembly of a bonded storage disk |
| US6098272A (en) * | 1998-05-19 | 2000-08-08 | First Light Technology, Inc. | System for maintaining concentricity of a combination of a top and bottom substrate during the assembly of a bonded storage disk |
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