JPH0759312B2 - スピンナ装置 - Google Patents
スピンナ装置Info
- Publication number
- JPH0759312B2 JPH0759312B2 JP1319615A JP31961589A JPH0759312B2 JP H0759312 B2 JPH0759312 B2 JP H0759312B2 JP 1319615 A JP1319615 A JP 1319615A JP 31961589 A JP31961589 A JP 31961589A JP H0759312 B2 JPH0759312 B2 JP H0759312B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- disc
- speed rotation
- liquid film
- rotating
- Prior art date
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、合成樹脂材料を用いてディスクに塗膜を形成
するスピンナ装置に関する。
するスピンナ装置に関する。
第２図は従来のスピンナ装置を説明するための図であ
る。
る。
先ず、コーティング前の未処理のディスク１がディスク
供給位置２に載置される。
供給位置２に載置される。
次に、アーム先端に吸着パッドを持ったディスク移載ア
ーム３が下降して、ディスク１を吸着し上昇後１ピッチ
移動して、ディスク１を静電ブロー位置４に載置し、元
の位置に戻る。静電ブロー位置４のディスク１は静電ブ
ローが行われ、ディスク１に付着している不要物が取り
除かれる。
ーム３が下降して、ディスク１を吸着し上昇後１ピッチ
移動して、ディスク１を静電ブロー位置４に載置し、元
の位置に戻る。静電ブロー位置４のディスク１は静電ブ
ローが行われ、ディスク１に付着している不要物が取り
除かれる。
次に、ディスク移載アーム３が同じ１サイクルの動作を
行うと、静電ブロー位置４のディスク１はスピンコータ
ハウス５内のスピンナ位置６に載置される。スピンナ位
置６のディスク１は低速回転し、この低速回転している
ディスク１に、塗料吐出ノズル７から紫外線硬化塗料が
供給される。塗料の供給が完了すると、ディスク１は高
速回転し、ディスク１上の塗料は遠心力によりディスク
表面に分散される。
行うと、静電ブロー位置４のディスク１はスピンコータ
ハウス５内のスピンナ位置６に載置される。スピンナ位
置６のディスク１は低速回転し、この低速回転している
ディスク１に、塗料吐出ノズル７から紫外線硬化塗料が
供給される。塗料の供給が完了すると、ディスク１は高
速回転し、ディスク１上の塗料は遠心力によりディスク
表面に分散される。
次に、ディスク移載アーム３が同じ１サイクルの動作を
行うと、ディスク１はコンベヤ８の受け皿に載置され、
移動して、ディスク１が紫外線照射位置９に達すると、
ディスク１は紫外線発生ランプから発生する紫外線を照
射され、ディスク表面の塗料が硬化する。
行うと、ディスク１はコンベヤ８の受け皿に載置され、
移動して、ディスク１が紫外線照射位置９に達すると、
ディスク１は紫外線発生ランプから発生する紫外線を照
射され、ディスク表面の塗料が硬化する。
次に、コンベヤ８が移動して、ディスク１がディスク排
出位置10に達すると、ディスク１は一連の工程を終え、
払い出される。
出位置10に達すると、ディスク１は一連の工程を終え、
払い出される。
一般的に、塗料がディスク面上に落ちる時の衝撃や、塗
料の吐出開始時及び完了時に瞬間的に吐出量が変動する
ことに起因して、吐出直後のディスク面上の塗料液膜の
形状には凹凸が避け難いが、従来のスピンナ装置にあっ
ては、この状態で高速回転していたので、その凹部から
気泡を巻き込んですじができやすく、高品位の塗膜が得
られないという欠点があった。
料の吐出開始時及び完了時に瞬間的に吐出量が変動する
ことに起因して、吐出直後のディスク面上の塗料液膜の
形状には凹凸が避け難いが、従来のスピンナ装置にあっ
ては、この状態で高速回転していたので、その凹部から
気泡を巻き込んですじができやすく、高品位の塗膜が得
られないという欠点があった。
また、高品位の塗膜を得るために、吐出完了後に所定の
時間（数秒程度）回転を停止すると、結局保護膜を塗布
するのに必要な時間が、（低速回転時間＋回転停止時間
＋高速回転時間）となり、スピンナ装置の高速化ができ
ないという欠点があった。
時間（数秒程度）回転を停止すると、結局保護膜を塗布
するのに必要な時間が、（低速回転時間＋回転停止時間
＋高速回転時間）となり、スピンナ装置の高速化ができ
ないという欠点があった。
本発明は以上の欠点を除去するために、合成樹脂材料を
用いてディスクに塗膜を形成するスピンナ装置におい
て、中心部から等距離、等角度で放射状に伸びており、
上方よりディスクを吸着し、一定角度回転した後、次の
位置にディスクを載置するという動作を同時に行う複数
のディスク移載アームを備えると共に、低速回転させな
がらディスクに合成樹脂材料を吐出する作業を行う低速
回転位置と、該低速回転位置で合成樹脂材料の吐出され
たディスクを所定時間停留させることにより液膜を整形
する作業を行う液膜整形位置と、該液膜整形位置で液膜
の整形されたディスクを高速回転させる作業を行う高速
回転位置とが、上記ディスク移載アームが上記中心部を
中心として１ピッチ回転することによって描かれる円弧
上に設けられており、これらの作業が同時に行われると
共に、これらの作業と上記ディスク移載アームによる各
位置間のディスクの同時移動とが交互に行われることを
特徴とするスピンナ装置を提供するものである。
用いてディスクに塗膜を形成するスピンナ装置におい
て、中心部から等距離、等角度で放射状に伸びており、
上方よりディスクを吸着し、一定角度回転した後、次の
位置にディスクを載置するという動作を同時に行う複数
のディスク移載アームを備えると共に、低速回転させな
がらディスクに合成樹脂材料を吐出する作業を行う低速
回転位置と、該低速回転位置で合成樹脂材料の吐出され
たディスクを所定時間停留させることにより液膜を整形
する作業を行う液膜整形位置と、該液膜整形位置で液膜
の整形されたディスクを高速回転させる作業を行う高速
回転位置とが、上記ディスク移載アームが上記中心部を
中心として１ピッチ回転することによって描かれる円弧
上に設けられており、これらの作業が同時に行われると
共に、これらの作業と上記ディスク移載アームによる各
位置間のディスクの同時移動とが交互に行われることを
特徴とするスピンナ装置を提供するものである。
低速回転位置、液膜整形位置、及び高速回転位置でのそ
れぞれの作業が同時に行われ、且つこれらの作業とディ
スク移載アームによる各位置間のディスクの同時移動と
が交互に行われるのでスピンナ装置の高速化が図れると
共に、低速回転位置と高速回転位置との間に設けた液膜
整形位置に低速回転位置及び高速回転位置でのそれぞれ
の作業中ディスクを停留させているので、ディスク面上
に吐出させた合成樹脂材料の液膜の形状を表面張力によ
ってきれいなドーナッツ状に整えることができ、高速回
転時に液膜の凹部から気泡を巻き込んですじが生じるな
どの塗膜の乱れを防止でき、高品位の塗布を行うことが
できる。
れぞれの作業が同時に行われ、且つこれらの作業とディ
スク移載アームによる各位置間のディスクの同時移動と
が交互に行われるのでスピンナ装置の高速化が図れると
共に、低速回転位置と高速回転位置との間に設けた液膜
整形位置に低速回転位置及び高速回転位置でのそれぞれ
の作業中ディスクを停留させているので、ディスク面上
に吐出させた合成樹脂材料の液膜の形状を表面張力によ
ってきれいなドーナッツ状に整えることができ、高速回
転時に液膜の凹部から気泡を巻き込んですじが生じるな
どの塗膜の乱れを防止でき、高品位の塗布を行うことが
できる。
第１図により本発明の一実施例を説明する。
先ず構成を説明すると、11は、中心部11aから等距離、
等角度で複数本放射状に伸びているディスク移載アーム
であり、上方よりディスク１を吸着し、一定角度回転し
た後、次の位置にディスク１を載置するという動作を各
ディスク移載アームが同時に行うことにより、各位置間
のディスク１の移動を一回の動作で同時に行う。
等角度で複数本放射状に伸びているディスク移載アーム
であり、上方よりディスク１を吸着し、一定角度回転し
た後、次の位置にディスク１を載置するという動作を各
ディスク移載アームが同時に行うことにより、各位置間
のディスク１の移動を一回の動作で同時に行う。
12は、保護膜を塗布すべきディスク１が別の装置或いは
人手により供給される場合、そのディスク１を載せるデ
ィスク供給位置、 13は、ディスク１上に適量の塗料を吐出する塗料吐出ノ
ズル14とディスク１上の塗料吐出位置を連続的に変える
ためにディスク１を載せて低速（60〜100rpm）で回転す
る回転テーブル15とを備えた低速回転位置、 22は、塗料の吐出されたディスク１を所定時間（数秒程
度）停留させる液膜整形位置、 16は、ディスク１上に吐出された塗料を遠心力によりデ
ィスク面上に均一に拡げるための高速回転位置であり、
ディスク１を吸着し高速回転する回転テーブル17と、遠
心力で飛ばされる塗料を捕集するスピンコータハウス18
を備えている。
人手により供給される場合、そのディスク１を載せるデ
ィスク供給位置、 13は、ディスク１上に適量の塗料を吐出する塗料吐出ノ
ズル14とディスク１上の塗料吐出位置を連続的に変える
ためにディスク１を載せて低速（60〜100rpm）で回転す
る回転テーブル15とを備えた低速回転位置、 22は、塗料の吐出されたディスク１を所定時間（数秒程
度）停留させる液膜整形位置、 16は、ディスク１上に吐出された塗料を遠心力によりデ
ィスク面上に均一に拡げるための高速回転位置であり、
ディスク１を吸着し高速回転する回転テーブル17と、遠
心力で飛ばされる塗料を捕集するスピンコータハウス18
を備えている。
19は、塗料を塗布されたディスク１に紫外線を照射し、
塗料を硬化させるための紫外線照射位置であり、ディス
ク１を載せて紫外線発生ランプ20の下方を通って移動
し、ディスク面に紫外線を当てるための移動装置及び紫
外線の漏洩を防ぐ遮光カバーを備えている。
塗料を硬化させるための紫外線照射位置であり、ディス
ク１を載せて紫外線発生ランプ20の下方を通って移動
し、ディスク面に紫外線を当てるための移動装置及び紫
外線の漏洩を防ぐ遮光カバーを備えている。
21は、保護膜の塗布を終了したディスク１を載せ、別の
装置或いは人手により取り出されるまで待機させるディ
スク排出位置である。
装置或いは人手により取り出されるまで待機させるディ
スク排出位置である。
次に動作を説明する。
先ず、コーティング前の未処理のディスク１がディスク
供給位置12に載置される。
供給位置12に載置される。
次に、アーム先端に吸着パッドを持ったディスク移載ア
ーム11が下降し、ディスク供給位置12にあるディスク１
を吸着した後、再び上昇する。上限に達したディスク載
置アーム11は、低速回転位置13の上方まで中心部11aを
中心にして一定角度回転し、そこで下降し、ディスク１
を低速回転位置13の回転テーブル15上に載置する。その
後、ディスク移載アーム11がディスク１を持たずに上昇
し、上限に達すると、今度は中心部11aを中心にして上
記と同一の一定角度逆回転し、ディスク供給位置12上で
停止する。
ーム11が下降し、ディスク供給位置12にあるディスク１
を吸着した後、再び上昇する。上限に達したディスク載
置アーム11は、低速回転位置13の上方まで中心部11aを
中心にして一定角度回転し、そこで下降し、ディスク１
を低速回転位置13の回転テーブル15上に載置する。その
後、ディスク移載アーム11がディスク１を持たずに上昇
し、上限に達すると、今度は中心部11aを中心にして上
記と同一の一定角度逆回転し、ディスク供給位置12上で
停止する。
一方、低速回転位置13の回転テーブル15上に載置された
ディスク１は、ディスク吸着機能付の回転テーブル15が
低速回転（60〜100rpm）することにより低速回転し、同
時に、ディスク１の上方へ移動した塗料吐出ノズル14か
らディスク１に紫外線硬化塗料が供給される。一定量の
塗料の供給が完了すると、ディスク１を載せた回転テー
ブル15は回転を停止し、同時に塗料吐出ノズル14は元の
位置に戻る。
ディスク１は、ディスク吸着機能付の回転テーブル15が
低速回転（60〜100rpm）することにより低速回転し、同
時に、ディスク１の上方へ移動した塗料吐出ノズル14か
らディスク１に紫外線硬化塗料が供給される。一定量の
塗料の供給が完了すると、ディスク１を載せた回転テー
ブル15は回転を停止し、同時に塗料吐出ノズル14は元の
位置に戻る。
尚、この時、塗料がディスク面上に落ちる時の衝撃や、
塗料の吐出開始時及び完了時に瞬間的に吐出量が変動す
ることは避け難いので、この時ディスク面上に吐出され
た塗料の液膜の形状には凹凸が生じ易い。
塗料の吐出開始時及び完了時に瞬間的に吐出量が変動す
ることは避け難いので、この時ディスク面上に吐出され
た塗料の液膜の形状には凹凸が生じ易い。
次に、アーム先端に吸着パッドを持ったディスク移載ア
ーム11が下降して、低速回転位置13にあるディスク１を
吸着し、上昇後１ピッチ移動して、ディスク１を液膜整
形位置22のステージ上に載置し、元の位置に戻る。
ーム11が下降して、低速回転位置13にあるディスク１を
吸着し、上昇後１ピッチ移動して、ディスク１を液膜整
形位置22のステージ上に載置し、元の位置に戻る。
ここでは、低速回転位置における作業や、後述する高速
回転位置における作業が完了するまでディスク１を停留
させる。この時、塗料の表面張力による作用、即ち液膜
の境界線が最短の長さのなろうとする、つまり円形にな
ろうとする作用によって、ディスク面上に吐出された塗
料の液膜に生じた凹凸がならされて、きれいなドーナッ
ツ状になる。ところで、ディスク１に塗膜を形成する際
に、塗布する合成樹脂材料がディスクの裏面に付着する
と、新たに裏面の洗浄工程が必要となり、都合が悪い。
従って、合成樹脂材料がディスクの裏面に付着しないよ
うに塗布しなければならないが、それにはディスクの中
心の近傍に前述のようなドーナッツ状の液膜を形成後、
一気に高速回転をして塗膜を形成することが必要であ
る。前記液膜を比較的低い回転数にて、ディスクの全面
にならして広げようとすれば、液がディスクの裏面まで
回り込んでしまう。
回転位置における作業が完了するまでディスク１を停留
させる。この時、塗料の表面張力による作用、即ち液膜
の境界線が最短の長さのなろうとする、つまり円形にな
ろうとする作用によって、ディスク面上に吐出された塗
料の液膜に生じた凹凸がならされて、きれいなドーナッ
ツ状になる。ところで、ディスク１に塗膜を形成する際
に、塗布する合成樹脂材料がディスクの裏面に付着する
と、新たに裏面の洗浄工程が必要となり、都合が悪い。
従って、合成樹脂材料がディスクの裏面に付着しないよ
うに塗布しなければならないが、それにはディスクの中
心の近傍に前述のようなドーナッツ状の液膜を形成後、
一気に高速回転をして塗膜を形成することが必要であ
る。前記液膜を比較的低い回転数にて、ディスクの全面
にならして広げようとすれば、液がディスクの裏面まで
回り込んでしまう。
次に、ディスク移載アーム11が同様の１サイクルの動作
を行うと、液膜整形位置22上のディスク１は、スピンコ
ータハウス18内の高速回転位置16にあるディスク吸着機
能付の回転テーブル17上に載置される。
を行うと、液膜整形位置22上のディスク１は、スピンコ
ータハウス18内の高速回転位置16にあるディスク吸着機
能付の回転テーブル17上に載置される。
回転テーブル17上のディスク１は回転テーブル17が高速
回転（2000〜4000rpm）することにより高速回転し、デ
ィスク１上の塗料は遠心力によりディスク表面に分散さ
れる。尚、高速回転開始前に、ディスク面上の塗料液膜
がきれいなドーナッツ状に整えられているので、塗膜形
状の凹凸に起因する気泡の巻き込みが発生せず、高品位
な塗膜が得られる。
回転（2000〜4000rpm）することにより高速回転し、デ
ィスク１上の塗料は遠心力によりディスク表面に分散さ
れる。尚、高速回転開始前に、ディスク面上の塗料液膜
がきれいなドーナッツ状に整えられているので、塗膜形
状の凹凸に起因する気泡の巻き込みが発生せず、高品位
な塗膜が得られる。
この高速回転作業の間、次に処理すべきディスク１は液
膜整形位置22上に停留しており、更にその次に処理すべ
きディスク１は低速回転位置13にて処理中である。即
ち、ディスク面上に塗料を供給する作業と、ディスク面
上に供給された塗料の液膜の形状を整える作業と、高速
回転によりディスク面上に塗料を分散させる作業とを同
時に並行して行っていることがわかる。このようにする
ことにより、ディスク１の生産サイクルタイムを短いも
のにすることができる。
膜整形位置22上に停留しており、更にその次に処理すべ
きディスク１は低速回転位置13にて処理中である。即
ち、ディスク面上に塗料を供給する作業と、ディスク面
上に供給された塗料の液膜の形状を整える作業と、高速
回転によりディスク面上に塗料を分散させる作業とを同
時に並行して行っていることがわかる。このようにする
ことにより、ディスク１の生産サイクルタイムを短いも
のにすることができる。
次に、高速回転作業の完了後、ディスク移載アーム11が
同じ１サイクルの動作を行うと、高速回転位置16のディ
スク１は紫外線照射位置19の受け皿に載置される。
同じ１サイクルの動作を行うと、高速回転位置16のディ
スク１は紫外線照射位置19の受け皿に載置される。
その受け皿が水平方向に移動しながら、紫外線発生ラン
プ20の下を通って再び紫外線照射位置19に戻る動作を行
うことにより、ディスク１は紫外線発生ランプ20から発
生する紫外線を照射され、ディスク表面の塗料が硬化す
る。
プ20の下を通って再び紫外線照射位置19に戻る動作を行
うことにより、ディスク１は紫外線発生ランプ20から発
生する紫外線を照射され、ディスク表面の塗料が硬化す
る。
次に、ディスク移載アーム11が同じ１サイクルの動作を
行うと、紫外線照射位置19のディスク１はディスク排出
位置21に載置され、ディスク排出位置21に載置されたデ
ィスク１は、一連の工程を終え払い出される。
行うと、紫外線照射位置19のディスク１はディスク排出
位置21に載置され、ディスク排出位置21に載置されたデ
ィスク１は、一連の工程を終え払い出される。
このように、複数のディスク移載アーム11が、同時に同
一の回転を伴う動作を行うことにより、ディスク供給位
置12に供給されたディスク１は、一連の工程を効率よく
行い搬送されて、ディスク排出位置21から排出される。
一の回転を伴う動作を行うことにより、ディスク供給位
置12に供給されたディスク１は、一連の工程を効率よく
行い搬送されて、ディスク排出位置21から排出される。
尚、以上の実施例では、紫外線硬化塗料を用いてディス
クに保護膜を形成する場合について述べたが、他の合成
樹脂を用いてディスクに塗膜を形成する場合にも同様に
実施することができる。
クに保護膜を形成する場合について述べたが、他の合成
樹脂を用いてディスクに塗膜を形成する場合にも同様に
実施することができる。
以上述べたように、本発明では、低速回転位置、液膜整
形位置、及び高速回転位置でのそれぞれの作業が同時に
行われ、且つこれらの作業とディスク移載アームによる
各位置間のディスクの同時移動とが交互に行われるので
スピンナ装置の高速化が図れると共に、低速回転位置と
高速回転位置との間に設けた液膜整形位置に低速回転位
置及び高速回転位置でのそれぞれの作業中ディスクを停
留させているので、ディスク面上に吐出させた合成樹脂
材料の液膜の形状を表面張力によってきれいなドーナッ
ツ状に整えることができ、高速回転時に液膜の凹部から
気泡を巻き込んですじが生じるなどの塗膜の乱れを防止
でき、高品位の塗布を行うことができる。
形位置、及び高速回転位置でのそれぞれの作業が同時に
行われ、且つこれらの作業とディスク移載アームによる
各位置間のディスクの同時移動とが交互に行われるので
スピンナ装置の高速化が図れると共に、低速回転位置と
高速回転位置との間に設けた液膜整形位置に低速回転位
置及び高速回転位置でのそれぞれの作業中ディスクを停
留させているので、ディスク面上に吐出させた合成樹脂
材料の液膜の形状を表面張力によってきれいなドーナッ
ツ状に整えることができ、高速回転時に液膜の凹部から
気泡を巻き込んですじが生じるなどの塗膜の乱れを防止
でき、高品位の塗布を行うことができる。
第１図は本発明の一実施例を説明するための図、第２図
は従来のスピンナ装置を説明するための図である。 １……ディスク、２……ディスク供給位置 ３……ディスク移載アーム、４……静電ブロー位置 ５……スピンコータハウス、６……スピンナ位置 ７……塗料吐出ノズル、８……コンベヤ ９……紫外線照射位置、10……ディスク排出位置 11……ディスク移載アーム、12……ディスク供給位置 13……低速回転位置、14……塗料吐出ノズル 15……回転テーブル、16……高速回転位置 17……回転テーブル、18……スピンコータハウス 19……紫外線照射位置、20……紫外線発生ランプ 21……ディスク排出位置、22……液膜整形位置
は従来のスピンナ装置を説明するための図である。 １……ディスク、２……ディスク供給位置 ３……ディスク移載アーム、４……静電ブロー位置 ５……スピンコータハウス、６……スピンナ位置 ７……塗料吐出ノズル、８……コンベヤ ９……紫外線照射位置、10……ディスク排出位置 11……ディスク移載アーム、12……ディスク供給位置 13……低速回転位置、14……塗料吐出ノズル 15……回転テーブル、16……高速回転位置 17……回転テーブル、18……スピンコータハウス 19……紫外線照射位置、20……紫外線発生ランプ 21……ディスク排出位置、22……液膜整形位置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 7/26 7215−5Ｄ Ｈ０１Ｌ 21/027
Claims (1)
- 【請求項１】合成樹脂材料を用いてディスクに塗膜を形
成するスピンナ装置において、 中心部から等距離、等角度で放射状に伸びており、上方
よりディスクを吸着し、一定角度回転した後、次の位置
にディスクを載置するという動作を同時に行う複数のデ
ィスク移載アームを備えると共に、 低速回転させながらディスクに合成樹脂材料を吐出する
作業を行う低速回転位置と、該低速回転位置で合成樹脂
材料の吐出されたディスクを所定時間停留させることに
より液膜を整形する作業を行う液膜整形位置と、該液膜
整形位置で液膜の整形されたディスクを高速回転させる
作業を行う高速回転位置とが、上記ディスク移載アーム
が上記中心部を中心として１ピッチ回転することによっ
て描かれる円弧上に設けられており、 これらの作業が同時に行われると共に、これらの作業と
上記ディスク移載アームによる各位置間のディスクの同
時移動とが交互に行われることを特徴とするスピンナ装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319615A JPH0759312B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | スピンナ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319615A JPH0759312B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | スピンナ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03254853A JPH03254853A (ja) | 1991-11-13 |
| JPH0759312B2 true JPH0759312B2 (ja) | 1995-06-28 |
Family
ID=18112260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1319615A Expired - Fee Related JPH0759312B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | スピンナ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0759312B2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60171577U (ja) * | 1984-04-23 | 1985-11-13 | 株式会社常盤電機 | 塗装用インデツクス回転テ−ブルにおけるロクロ機構 |
| JPS61171566A (ja) * | 1985-01-23 | 1986-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | コ−テイング装置 |
| JPH067817Y2 (ja) * | 1987-03-25 | 1994-03-02 | オリジン電気株式会社 | 回転塗布装置 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP1319615A patent/JPH0759312B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03254853A (ja) | 1991-11-13 |
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