JP2797326B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JP2797326B2 JP2797326B2 JP63183361A JP18336188A JP2797326B2 JP 2797326 B2 JP2797326 B2 JP 2797326B2 JP 63183361 A JP63183361 A JP 63183361A JP 18336188 A JP18336188 A JP 18336188A JP 2797326 B2 JP2797326 B2 JP 2797326B2
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- Japan
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- magnetic recording
- layer
- substrate
- atomic
- magnetic
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気記録等に用いられる磁気ディスクなど
の磁気記録媒体に関するものである。
の磁気記録媒体に関するものである。
近年、磁気記録媒体はますます高密度記録となる傾向
にあり、保磁力とS/N比を高くする必要がある。
にあり、保磁力とS/N比を高くする必要がある。
基板上に非磁性金属下地層（例えばCr）をスパッタ法
により成膜し、引き続き磁性金属層（例えばCo−Ni、Co
−Ni−Cr系）を同様の方法で成膜した多層膜からなる磁
気記録媒体は、一般によく知られている。このような層
構成からなる磁気記録媒体の保磁力を高くするには、非
磁性金属下地層を厚くするか、あるいは磁性金属層を薄
くすれば良い。しかし、非磁性金属下地層を厚くすると
結晶粒が粗大化し、その上にエピタキシャル成長する磁
性金属層の結晶粒も粗大化してS/N比が低下する。又、
磁性金属層を薄くすると残留磁束密度（Br）が低下し、
出力が不足する問題がある。
により成膜し、引き続き磁性金属層（例えばCo−Ni、Co
−Ni−Cr系）を同様の方法で成膜した多層膜からなる磁
気記録媒体は、一般によく知られている。このような層
構成からなる磁気記録媒体の保磁力を高くするには、非
磁性金属下地層を厚くするか、あるいは磁性金属層を薄
くすれば良い。しかし、非磁性金属下地層を厚くすると
結晶粒が粗大化し、その上にエピタキシャル成長する磁
性金属層の結晶粒も粗大化してS/N比が低下する。又、
磁性金属層を薄くすると残留磁束密度（Br）が低下し、
出力が不足する問題がある。
本発明者らは鋭意検討した結果、基板上にコバルトを
含む下引き層を設けることによって、非磁性金属層の結
晶粒が微細化し、連続してスパッタされる磁性金属層の
結晶粒も微細化して、高密度記録に適した磁気記録媒体
が得られることを見出し、本発明に到達した。
含む下引き層を設けることによって、非磁性金属層の結
晶粒が微細化し、連続してスパッタされる磁性金属層の
結晶粒も微細化して、高密度記録に適した磁気記録媒体
が得られることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、基板上にコバルトを含む
下引き層を設け、該下引き層の上にCrを含む中間層を設
け、該中間層の上に磁性層を設けてなる磁気記録媒体に
存する。
下引き層を設け、該下引き層の上にCrを含む中間層を設
け、該中間層の上に磁性層を設けてなる磁気記録媒体に
存する。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で使用する基板は、NiPメッキを施したアルミ
ニウム合金基板である。NiPメッキ皮膜は公知の無電解
メッキ法により、アルミニウム合金基板上に20μｍ〜25
μｍの膜厚に成膜する。その後、基板表面を機械研磨に
より、Ra（中心線平均粗さ）で20Å〜30Åに仕上げる。
ニウム合金基板である。NiPメッキ皮膜は公知の無電解
メッキ法により、アルミニウム合金基板上に20μｍ〜25
μｍの膜厚に成膜する。その後、基板表面を機械研磨に
より、Ra（中心線平均粗さ）で20Å〜30Åに仕上げる。
本発明では、基板上にコバルトを含む下引き層を設け
る。具体的には、基板上にコバルトを含む膜を500Å〜5
000Å、好ましくは500Å〜3000Åの膜厚に成膜する。
る。具体的には、基板上にコバルトを含む膜を500Å〜5
000Å、好ましくは500Å〜3000Åの膜厚に成膜する。
その成膜は、通常行われているスパッタ法により行わ
れる。例えば、直流式スパッタ装置又は交流式スパッタ
装置を使用して行い、基板を装着した装置内を予め１×
10-5torr以下に排気し、スパッタリング用ガスとしてア
ルゴンを分圧３×10-3〜４×10-2torr装入し、基板を室
温から200℃までの範囲で加熱する。
れる。例えば、直流式スパッタ装置又は交流式スパッタ
装置を使用して行い、基板を装着した装置内を予め１×
10-5torr以下に排気し、スパッタリング用ガスとしてア
ルゴンを分圧３×10-3〜４×10-2torr装入し、基板を室
温から200℃までの範囲で加熱する。
コバルトターゲットは高純度であるほうが望ましい
が、他の金属を０〜50原子％含んでもよい。この下引き
層は、中間層、磁性金属層の結晶粒を微細化させる為に
重要であり、その成膜面は緻密であることが望ましい。
が、他の金属を０〜50原子％含んでもよい。この下引き
層は、中間層、磁性金属層の結晶粒を微細化させる為に
重要であり、その成膜面は緻密であることが望ましい。
次に、該下引き層の上にクロムを含む中間層を上記ス
パッタ法と同一条件において500Å〜10000Åの膜厚で成
膜するが、高密度記録に使用するためには、1000Å〜50
00Åの膜厚が望ましい。ターゲットはクロムを主成分と
したものであり、他の金属を０〜50原子％含んでいても
よい。
パッタ法と同一条件において500Å〜10000Åの膜厚で成
膜するが、高密度記録に使用するためには、1000Å〜50
00Åの膜厚が望ましい。ターゲットはクロムを主成分と
したものであり、他の金属を０〜50原子％含んでいても
よい。
次に該中間層の上に磁性金属層を上記スパッタ法と同
一条件において200Å〜2000Åの膜厚で成膜する。磁性
金属層はコバルトを主成分としたものであり、ニッケ
ル、クロム、白金等の他の金属を含んでいてもよい。タ
ーゲットとしては、例えば、Co80原子％−Ni20原子％、
Co74原子％−Ni18原子％−Cr8原子％、Co62.5原子％−N
i30原子％−Cr7.5原子％のものが一般的に使用される。
一条件において200Å〜2000Åの膜厚で成膜する。磁性
金属層はコバルトを主成分としたものであり、ニッケ
ル、クロム、白金等の他の金属を含んでいてもよい。タ
ーゲットとしては、例えば、Co80原子％−Ni20原子％、
Co74原子％−Ni18原子％−Cr8原子％、Co62.5原子％−N
i30原子％−Cr7.5原子％のものが一般的に使用される。
このようにして製造された磁性記録媒体は、下引き層
のない媒体に比べ、磁性金属層の結晶粒を微細化するこ
とができる。
のない媒体に比べ、磁性金属層の結晶粒を微細化するこ
とができる。
〔実施例〕 以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はそ
の要旨を越えない限り実施例により限定されるものでは
ない。
の要旨を越えない限り実施例により限定されるものでは
ない。
実施例１ 直流式マグネトロンスパッタ装置によりNiPメッキを
施したアルミニウム合金板上に、下引き層、中間層、磁
性金属層をアルゴン雰囲気下次の条件で連続スパッタし
た。
施したアルミニウム合金板上に、下引き層、中間層、磁
性金属層をアルゴン雰囲気下次の条件で連続スパッタし
た。
初期排気 １〜２×10-6torr アルゴン分圧 １×10-2torr 基板加熱 なし（室温） 下引き層用ターゲット Co（純度99.9％以上） 中間層用ターゲット Cr（純度99.9％以上） 磁性金属層用ターゲット Co74原子％−Ni18原子％
−Cr8原子％ 下引き層膜厚 約1000Å 中間層膜厚 約3000Å 磁性金属層膜厚 約 600Å 結果を第１表に示した。
−Cr8原子％ 下引き層膜厚 約1000Å 中間層膜厚 約3000Å 磁性金属層膜厚 約 600Å 結果を第１表に示した。
比較例１ 下引き層を成膜しなかった以外は実施例１と同様に行
った。結果を第１表に示す。S/N比は31.5dBであった。
った。結果を第１表に示す。S/N比は31.5dBであった。
第１表に示したように、下引き層を有した場合の磁性
金属層の結晶粒は、下引き層がない場合に比べ微細化し
ている。
金属層の結晶粒は、下引き層がない場合に比べ微細化し
ている。
本発明によると、磁性金属層の結晶粒を微細化するこ
とができるため、高純度記録に適した磁気記録媒体を提
供することができる。
とができるため、高純度記録に適した磁気記録媒体を提
供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/66
Claims (1)
- 【請求項１】基板上にコバルトを含む下引き層を設け、
該下引き層の上にクロムを含む中間層を設け、該中間層
の上に磁性層を設けてなる磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63183361A JP2797326B2 (ja) | 1987-10-05 | 1988-07-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-250915 | 1987-10-05 | ||
| JP25091587 | 1987-10-05 | ||
| JP63183361A JP2797326B2 (ja) | 1987-10-05 | 1988-07-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01199314A JPH01199314A (ja) | 1989-08-10 |
| JP2797326B2 true JP2797326B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=26501834
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63183361A Expired - Fee Related JP2797326B2 (ja) | 1987-10-05 | 1988-07-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2797326B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003016636A (ja) * | 2001-04-27 | 2003-01-17 | Sharp Corp | 磁気記録媒体およびそれを用いた磁気記録装置 |
| CN102443405B (zh) * | 2010-10-09 | 2014-02-19 | 中国科学院理化技术研究所 | 用于油气冷凝回收的调峰方法及装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2561655B2 (ja) * | 1987-01-29 | 1996-12-11 | 株式会社日立製作所 | 面内磁気記録媒体 |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63183361A patent/JP2797326B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01199314A (ja) | 1989-08-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |