JP2768634B2 - 印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法 - Google Patents
印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法Info
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- JP2768634B2 JP2768634B2 JP6117616A JP11761694A JP2768634B2 JP 2768634 B2 JP2768634 B2 JP 2768634B2 JP 6117616 A JP6117616 A JP 6117616A JP 11761694 A JP11761694 A JP 11761694A JP 2768634 B2 JP2768634 B2 JP 2768634B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真に用いられる
プリンター用及び複写機用感光体の製造方法に関する。
さらに詳しくは、長寿命であって、干渉縞状の濃度ムラ
が現われず、鮮映性が高く、ベタ画像の再現が良好なプ
リンター用感光体及び複写機用感光体の製造方法に関す
る。
プリンター用及び複写機用感光体の製造方法に関する。
さらに詳しくは、長寿命であって、干渉縞状の濃度ムラ
が現われず、鮮映性が高く、ベタ画像の再現が良好なプ
リンター用感光体及び複写機用感光体の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近、この種の電子写真には、小型、低
コストで直接変調が可能な半導体レーザーが用いられる
ようになっている。この半導体レーザーは発光波長が７
５０ｎｍ以上のものが多く、感光波長領域を比較的自由
に選べるようにするため、図１に示されるように、導電
性基体Ａの上に、電荷発生層２と、電荷移動層３からな
る感光層Ｂを形成したレーザー用感光体が用いられる。
また、導電性基体Ａの表面には、電気的絶縁のためのア
ルマイト層１が形成されている。
コストで直接変調が可能な半導体レーザーが用いられる
ようになっている。この半導体レーザーは発光波長が７
５０ｎｍ以上のものが多く、感光波長領域を比較的自由
に選べるようにするため、図１に示されるように、導電
性基体Ａの上に、電荷発生層２と、電荷移動層３からな
る感光層Ｂを形成したレーザー用感光体が用いられる。
また、導電性基体Ａの表面には、電気的絶縁のためのア
ルマイト層１が形成されている。
【０００３】上記感光層Ｂの電荷発生層２は、光を吸収
して自由電荷を発生させる役割をもち、その厚さは発生
したホト・キヤリアの飛程を短くするために０．１〜２
μｍと薄いのが通例である。このことは、入射光量の大
部分が電荷発生層２で吸収されて多くのホト・キヤリア
を生成すること、さらには発生したホト・キヤリアを再
結合や捕獲により失活することなく電荷移動層３に注入
する必要があることに起因している。つぎに電荷移動層
３は、静電荷の受容と自由電荷の輸送の役割をもち、像
形光をほとんど吸収しないものを用い、その厚さは通例
１０〜３０μｍである。このような積層型の感光体を用
い、レーザー光をライン走査して画像を出してみると、
干渉縞状の濃度のムラが現われることがある。この原因
は、図１に示すように電荷発生層２が前述の如く薄層で
形成されているために、この層２で吸収される光量が制
限され、そのために電荷発生層２を通過した光がさらに
アルマイト層１を通過した後アルミニウム表面で反射
し、アルマイト層をもう一度通過し反射光ａとなる。こ
の反射光ａとアルマイト層１表面での反射光ｂとが干渉
する結果、濃度のムラが現れる。
して自由電荷を発生させる役割をもち、その厚さは発生
したホト・キヤリアの飛程を短くするために０．１〜２
μｍと薄いのが通例である。このことは、入射光量の大
部分が電荷発生層２で吸収されて多くのホト・キヤリア
を生成すること、さらには発生したホト・キヤリアを再
結合や捕獲により失活することなく電荷移動層３に注入
する必要があることに起因している。つぎに電荷移動層
３は、静電荷の受容と自由電荷の輸送の役割をもち、像
形光をほとんど吸収しないものを用い、その厚さは通例
１０〜３０μｍである。このような積層型の感光体を用
い、レーザー光をライン走査して画像を出してみると、
干渉縞状の濃度のムラが現われることがある。この原因
は、図１に示すように電荷発生層２が前述の如く薄層で
形成されているために、この層２で吸収される光量が制
限され、そのために電荷発生層２を通過した光がさらに
アルマイト層１を通過した後アルミニウム表面で反射
し、アルマイト層をもう一度通過し反射光ａとなる。こ
の反射光ａとアルマイト層１表面での反射光ｂとが干渉
する結果、濃度のムラが現れる。
【０００４】アルマイト層１の屈折率をｎ1 ，厚さをｄ
1 また、レーザー光の波長をλとするとｎ1 ｄ1 がλ／
２の奇数倍のときは、反射光の強度が極大、すなわち電
荷移動層３を通る反射光の強度が極大であり、ｎ1 ｄ1
がλ／２の偶数倍のときは反射光が極小、すなわち電荷
移動層３を通る反射光の強度が極小となる。ところで、
ｄ1 には製造上０．２μｍ以上の厚みムラは避けられな
い。一方、レーザー光は単色性がよく、コヒーレントな
ため、ｄ1 の厚みムラに対応して前記の干渉条件が変化
し、電荷発生層２でのレーザー光の吸収量の場所ムラが
生じ、それがベタ画像の濃度の干渉縞状のムラとなって
現われる。
1 また、レーザー光の波長をλとするとｎ1 ｄ1 がλ／
２の奇数倍のときは、反射光の強度が極大、すなわち電
荷移動層３を通る反射光の強度が極大であり、ｎ1 ｄ1
がλ／２の偶数倍のときは反射光が極小、すなわち電荷
移動層３を通る反射光の強度が極小となる。ところで、
ｄ1 には製造上０．２μｍ以上の厚みムラは避けられな
い。一方、レーザー光は単色性がよく、コヒーレントな
ため、ｄ1 の厚みムラに対応して前記の干渉条件が変化
し、電荷発生層２でのレーザー光の吸収量の場所ムラが
生じ、それがベタ画像の濃度の干渉縞状のムラとなって
現われる。
【０００５】上述した濃度の干渉縞状のムラを防止する
手段として種々の方法が提案されている。特開昭５８−
８２２４９号公報では、電荷発生層２中のレーザー透過
光を１０％以下にすることを提案している。しかし、９
０％のレーザー光を有機層である電荷発生層２が吸収し
た場合、その吸収による電荷発生層２の劣化が著しく、
感光体の寿命が極端に短くなるという問題点がある。元
々感光体の寿命は、２〜３月と短期間であり、その交換
は煩雑であるため、寿命の延長化が求められている。
手段として種々の方法が提案されている。特開昭５８−
８２２４９号公報では、電荷発生層２中のレーザー透過
光を１０％以下にすることを提案している。しかし、９
０％のレーザー光を有機層である電荷発生層２が吸収し
た場合、その吸収による電荷発生層２の劣化が著しく、
感光体の寿命が極端に短くなるという問題点がある。元
々感光体の寿命は、２〜３月と短期間であり、その交換
は煩雑であるため、寿命の延長化が求められている。
【０００６】また、特開平３−１６８７５４号公報及び
特開昭５８−１００１３８公報では、アルマイト層１を
染色アルマイト層にしてレーザー光を吸収するものを提
案している。しかし、染料は可視光域すなわち４００〜
７００ｎｍにおける特定波長域の吸収があるために発色
するものであり、半導体レーザーの波長域（７５０〜８
００ｎｍ）における吸収率が極めて低いため、染色アル
マイト層による干渉縞状の抑制効果はほとんどない。
特開昭５８−１００１３８公報では、アルマイト層１を
染色アルマイト層にしてレーザー光を吸収するものを提
案している。しかし、染料は可視光域すなわち４００〜
７００ｎｍにおける特定波長域の吸収があるために発色
するものであり、半導体レーザーの波長域（７５０〜８
００ｎｍ）における吸収率が極めて低いため、染色アル
マイト層による干渉縞状の抑制効果はほとんどない。
【０００７】さらに、特開平３−２５９２６７では、導
電性基体Ａ（図１参照）の表面をＲｍａｘ０．６〜４．
０μｍに粗面化することにより、レーザー光を散乱させ
ることによりレーザー反射光を抑制するもの、また感光
層Ｂ（図１参照）の表面を粗面化することによりレーザ
ー反射光を抑制するものを提案している。しかし０．５
μｍ以上の表面粗度の制御が現実的に困難なため、また
当該製品の生産性が悪いため、実用化が難しいとい問題
点がある。
電性基体Ａ（図１参照）の表面をＲｍａｘ０．６〜４．
０μｍに粗面化することにより、レーザー光を散乱させ
ることによりレーザー反射光を抑制するもの、また感光
層Ｂ（図１参照）の表面を粗面化することによりレーザ
ー反射光を抑制するものを提案している。しかし０．５
μｍ以上の表面粗度の制御が現実的に困難なため、また
当該製品の生産性が悪いため、実用化が難しいとい問題
点がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、濃度の干渉縞状のムラを
簡単に解消することができ、寿命も長いプリンター用感
光体（複写機用感光体を含む）の製造方法を提供するこ
とにある。
の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、濃度の干渉縞状のムラを
簡単に解消することができ、寿命も長いプリンター用感
光体（複写機用感光体を含む）の製造方法を提供するこ
とにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかるムラ発生の問題点
を解決するため、アルマイト皮膜の結晶成長方向の制御
に着目したものであり、本発明のレーザー用感光体は、
導電性基体表面のアルマイト層の結晶成長方向を不特定
にしたものである。結晶成長方向を不特定にする方法と
して、アルマイト層の陽極酸化を変動する電流波形を用
いた電解処理を行い、より具体的には、周波数３×１０
-3〜５×１０-2Ｈｚ、デューティー比３０〜９６％、平
均電圧比（Ｖ１／Ｖ２）１．５〜１０００の変動波形を
含む電圧にて電解処理をする。
を解決するため、アルマイト皮膜の結晶成長方向の制御
に着目したものであり、本発明のレーザー用感光体は、
導電性基体表面のアルマイト層の結晶成長方向を不特定
にしたものである。結晶成長方向を不特定にする方法と
して、アルマイト層の陽極酸化を変動する電流波形を用
いた電解処理を行い、より具体的には、周波数３×１０
-3〜５×１０-2Ｈｚ、デューティー比３０〜９６％、平
均電圧比（Ｖ１／Ｖ２）１．５〜１０００の変動波形を
含む電圧にて電解処理をする。
【００１０】ここでデューティー比とは、変動波形電流
が流れる時間ｔ１と不変動波形電流が流れるｔ２とか
ら、デューティー比＝ｔ１／（ｔ１＋ｔ２）で定義され
る。多くの場合、不変動波形の電流値はゼロで定義され
るが、本特許では必ずしもゼロではない。また、周波数
３×１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デューティー比３０〜９
６％、平均電流比（ｉ１／ｉ２）２〜２５０の変動波形
を含む電流にて電解処理をするものでも良い。
が流れる時間ｔ１と不変動波形電流が流れるｔ２とか
ら、デューティー比＝ｔ１／（ｔ１＋ｔ２）で定義され
る。多くの場合、不変動波形の電流値はゼロで定義され
るが、本特許では必ずしもゼロではない。また、周波数
３×１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デューティー比３０〜９
６％、平均電流比（ｉ１／ｉ２）２〜２５０の変動波形
を含む電流にて電解処理をするものでも良い。
【００１１】
【作用】アルマイト層の結晶は六角柱構造であり陽極酸
化時間とともにそれはアルミニウム基体と垂直に成長す
る。しかし、陽極酸化の電流波形（もしくは電圧波形）
を制御することによりアルマイト層の結晶成長方向が不
特定方向となる。すなわち、図２に示すように結晶の成
長過程で結晶の成長方向が変化するもの、結晶が途中で
途切れたり、枝分けするもの、再度結合するものの混合
結晶体が形成される。このアルマイト層にレーザー光を
照射した場合、複雑な結晶構造に従いレーザー光は乱反
射することを見出した点が重要である。かかるアルマイ
ト層を電気的絶縁層とした感光体では感光層に入った後
のレーザー反射光が減少するため干渉模様が消失する。
化時間とともにそれはアルミニウム基体と垂直に成長す
る。しかし、陽極酸化の電流波形（もしくは電圧波形）
を制御することによりアルマイト層の結晶成長方向が不
特定方向となる。すなわち、図２に示すように結晶の成
長過程で結晶の成長方向が変化するもの、結晶が途中で
途切れたり、枝分けするもの、再度結合するものの混合
結晶体が形成される。このアルマイト層にレーザー光を
照射した場合、複雑な結晶構造に従いレーザー光は乱反
射することを見出した点が重要である。かかるアルマイ
ト層を電気的絶縁層とした感光体では感光層に入った後
のレーザー反射光が減少するため干渉模様が消失する。
【００１２】不特定方向に結晶が成長したアルマイト層
を生成する陽極酸化条件とは、直流以外の電流変動波形
すなわち、サイン波、パルス波、三角波及びそれらの複
合もしくはそれらと直流との重畳がある。さらに、この
ような電流変動波形に不変動波形を重ねたものが用いら
れる。具体的波形例を図３及び図４により説明する。図
３は電圧Ｖ２の不変動波形にパルス波の変動波形を重ね
て電圧Ｖ１の波形としたものである。図４は電圧Ｖ２の
不変動波形にサイン波の変動波形を重ねて最大電圧Ｖ１
の波形としたものである。周波数は３×１０-3〜５×１
０-2Ｈｚが良い。３×１０-3Ｈｚ未満では皮膜中の基体
に対して垂直方向に成長したアルマイト結晶が多いた
め、レーザー光の散乱効果は減少する。また、周波数が
５×１０-2Ｈｚを超えた場合、結晶の成長速度が低下す
るため、一定厚みのアルマイト層まで成長に要する時間
が長くなり、生産性が著しく低下する。さらに、周波数
の増大により硬度が上昇しすぎるため、感光層形成時の
造膜過程における加熱においてアルマイト層が破損す
る。
を生成する陽極酸化条件とは、直流以外の電流変動波形
すなわち、サイン波、パルス波、三角波及びそれらの複
合もしくはそれらと直流との重畳がある。さらに、この
ような電流変動波形に不変動波形を重ねたものが用いら
れる。具体的波形例を図３及び図４により説明する。図
３は電圧Ｖ２の不変動波形にパルス波の変動波形を重ね
て電圧Ｖ１の波形としたものである。図４は電圧Ｖ２の
不変動波形にサイン波の変動波形を重ねて最大電圧Ｖ１
の波形としたものである。周波数は３×１０-3〜５×１
０-2Ｈｚが良い。３×１０-3Ｈｚ未満では皮膜中の基体
に対して垂直方向に成長したアルマイト結晶が多いた
め、レーザー光の散乱効果は減少する。また、周波数が
５×１０-2Ｈｚを超えた場合、結晶の成長速度が低下す
るため、一定厚みのアルマイト層まで成長に要する時間
が長くなり、生産性が著しく低下する。さらに、周波数
の増大により硬度が上昇しすぎるため、感光層形成時の
造膜過程における加熱においてアルマイト層が破損す
る。
【００１３】デューティー比は３０〜９６％が良く、望
ましくは８５〜９３％である。ここで、デューティー比
は図３及び図４において、変動波形電流が流れる時間ｔ
１と不変動波形ｔ２とから、デューティー比＝ｔ１／
（ｔ１＋ｔ２）で定義される。多くの場合不変動波形の
電圧値Ｖ２はゼロで定義されるが、本特許ではこのｉ２
は必ずしもゼロではない。このデューティー比が３０％
未満ではアルマイト皮膜が異常成長するため、均一な皮
膜ができない上、感光層の焼付け時にクラックが発生す
る。また、８５％未満ではアルマイト皮膜のクラック発
生温度が１１０℃以下であるため、感光剤の種類を限定
する必要がある。デューティー比が高いほど直流電解も
しくは単一波形を用いた電解に近づくため、結晶成長方
向が一定となり、干渉縞が発生しやすくなる。従って、
デューティー比が９３％を越えた場合、５％の確率で干
渉縞が発生し、９６％を越えた場合約１／３に干渉縞が
発生する。
ましくは８５〜９３％である。ここで、デューティー比
は図３及び図４において、変動波形電流が流れる時間ｔ
１と不変動波形ｔ２とから、デューティー比＝ｔ１／
（ｔ１＋ｔ２）で定義される。多くの場合不変動波形の
電圧値Ｖ２はゼロで定義されるが、本特許ではこのｉ２
は必ずしもゼロではない。このデューティー比が３０％
未満ではアルマイト皮膜が異常成長するため、均一な皮
膜ができない上、感光層の焼付け時にクラックが発生す
る。また、８５％未満ではアルマイト皮膜のクラック発
生温度が１１０℃以下であるため、感光剤の種類を限定
する必要がある。デューティー比が高いほど直流電解も
しくは単一波形を用いた電解に近づくため、結晶成長方
向が一定となり、干渉縞が発生しやすくなる。従って、
デューティー比が９３％を越えた場合、５％の確率で干
渉縞が発生し、９６％を越えた場合約１／３に干渉縞が
発生する。
【００１４】変動波形電圧Ｖ１と不変動波形電圧Ｖ２の
平均電圧比は、Ｖ１／Ｖ２＝１．５〜１０００が良い。
望ましくは２０〜７００であり、特に望ましくは１００
〜３００である。Ｖ１／Ｖ２＜１．５では、変動波形成
分が多すぎるため、均一な陽極酸化皮膜が生成されず、
時に“焼け”が発生する。Ｖ１／Ｖ２＜２０では、溶解
性が高すぎるため、皮膜表面に凹凸が発生（表面荒れ）
するため、意匠性が低下する。Ｖ１／Ｖ２＜１００で
は、皮膜の分岐化による硬度上昇が発生するため、耐熱
性が低下する。従って、塗料の焼付温度を制限する必要
が生じる。一方、Ｖ１／Ｖ２＞１０００では、変動波形
成分が少なすぎるため、皮膜が分岐構造とならずに干渉
縞が発生する。また、Ｖ１／Ｖ２＞３００でも結晶成長
方向が十分変化しないため、干渉縞が一部発生する。
平均電圧比は、Ｖ１／Ｖ２＝１．５〜１０００が良い。
望ましくは２０〜７００であり、特に望ましくは１００
〜３００である。Ｖ１／Ｖ２＜１．５では、変動波形成
分が多すぎるため、均一な陽極酸化皮膜が生成されず、
時に“焼け”が発生する。Ｖ１／Ｖ２＜２０では、溶解
性が高すぎるため、皮膜表面に凹凸が発生（表面荒れ）
するため、意匠性が低下する。Ｖ１／Ｖ２＜１００で
は、皮膜の分岐化による硬度上昇が発生するため、耐熱
性が低下する。従って、塗料の焼付温度を制限する必要
が生じる。一方、Ｖ１／Ｖ２＞１０００では、変動波形
成分が少なすぎるため、皮膜が分岐構造とならずに干渉
縞が発生する。また、Ｖ１／Ｖ２＞３００でも結晶成長
方向が十分変化しないため、干渉縞が一部発生する。
【００１５】同様に、変動波形電流ｉ１と不変動波形電
流ｉ２の平均電流比は、ｉ１／ｉ２＝２〜２５０が良
い。望ましくは８〜１００であり、特に望ましくは２０
から３０である。ｉ１／ｉ２＜２では、変動波形成分が
多すぎるため、均一な陽極酸化皮膜が生成されず、“焼
け”が発生することもある。ｉ１／ｉ２＜８では、皮膜
表面に凹凸が発生（表面荒れ）するため、意匠性が低下
する。ｉ１／ｉ２＜２０では、皮膜の分岐化による硬度
上昇が発生するため、耐熱性が低下する。従って、塗料
の焼付温度を制限する必要がある。一方、ｉ１／ｉ２＞
２５０では、変動波形成分が少なすぎるため、皮膜が分
岐構造とならずに干渉縞が発生する。また、ｉ１／ｉ２
＞３０でも結晶成長方向が十分変化しないため、干渉縞
が一部発生する。
流ｉ２の平均電流比は、ｉ１／ｉ２＝２〜２５０が良
い。望ましくは８〜１００であり、特に望ましくは２０
から３０である。ｉ１／ｉ２＜２では、変動波形成分が
多すぎるため、均一な陽極酸化皮膜が生成されず、“焼
け”が発生することもある。ｉ１／ｉ２＜８では、皮膜
表面に凹凸が発生（表面荒れ）するため、意匠性が低下
する。ｉ１／ｉ２＜２０では、皮膜の分岐化による硬度
上昇が発生するため、耐熱性が低下する。従って、塗料
の焼付温度を制限する必要がある。一方、ｉ１／ｉ２＞
２５０では、変動波形成分が少なすぎるため、皮膜が分
岐構造とならずに干渉縞が発生する。また、ｉ１／ｉ２
＞３０でも結晶成長方向が十分変化しないため、干渉縞
が一部発生する。
【００１６】陽極酸化温度及びアルマイト層の厚さにつ
いては特に規定しないが、陽極酸化温度は１５〜２５℃
が一般的であり、５℃以下の低温を必要としない。また
膜厚は通常６〜１５μｍ程度であり、この範囲を外れた
場合、プリンターの機種により干渉縞が発生する。
いては特に規定しないが、陽極酸化温度は１５〜２５℃
が一般的であり、５℃以下の低温を必要としない。また
膜厚は通常６〜１５μｍ程度であり、この範囲を外れた
場合、プリンターの機種により干渉縞が発生する。
【００１７】電解液として硫酸の他、リン酸、水酸化ナ
トリウム、有機酸等が考えられるが、皮膜の成長速度、
皮膜構造の制御、設備的汎用性の点から硫酸溶液が望ま
しく、また、クエン酸、シュウ酸、マロン酸等の塩基性
有機酸を０．１〜３ｇ／ｌ添加すると、皮膜構造の制御
がさらに容易となる。電圧Ｖ１に関しては、特に規定し
ないが、硫酸系溶液で１０〜３０Ｖ、クロム酸溶液で２
０〜７０Ｖ、リン酸系溶液で２０〜８０Ｖ、水酸化ナト
リウム溶液で１０〜５０Ｖである。
トリウム、有機酸等が考えられるが、皮膜の成長速度、
皮膜構造の制御、設備的汎用性の点から硫酸溶液が望ま
しく、また、クエン酸、シュウ酸、マロン酸等の塩基性
有機酸を０．１〜３ｇ／ｌ添加すると、皮膜構造の制御
がさらに容易となる。電圧Ｖ１に関しては、特に規定し
ないが、硫酸系溶液で１０〜３０Ｖ、クロム酸溶液で２
０〜７０Ｖ、リン酸系溶液で２０〜８０Ｖ、水酸化ナト
リウム溶液で１０〜５０Ｖである。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１は本発明のレーザープリンター用感光体の
一部断面図である。Ａは導電性基体、１はそのアルマイ
ト層、Ｂは感光層、２はその電荷発生層、３はその電荷
移動層である。アルマイト層１の結晶の成長方向が不特
定である点が従来と異なる。
明する。図１は本発明のレーザープリンター用感光体の
一部断面図である。Ａは導電性基体、１はそのアルマイ
ト層、Ｂは感光層、２はその電荷発生層、３はその電荷
移動層である。アルマイト層１の結晶の成長方向が不特
定である点が従来と異なる。
【００１９】導電性基体Ａとしては、アルミニウム、も
しくはアルミニウム合金が用いられる。すなわち表面に
アルマイト層が形成できるものであればよい。
しくはアルミニウム合金が用いられる。すなわち表面に
アルマイト層が形成できるものであればよい。
【００２０】電荷発生層２の電荷発生物としては、モノ
アゾ顔料、ジスアゾ顔料、キノシアンニン顔料、ペリレ
ン顔料、フタロシアニン顔料、スクアリン酸誘導体染
料、ピリリウム系色素、ポリビニルカルバゾールとトリ
ニトロフルオレノンとの電荷移動錯体等の有機物が用い
られる。また非晶質セレン、セレン系合金、硫化カドニ
ウム、非晶質シリコン等の無機物も用いられる。これら
の有機物又は無機物を単独又はポリマーと混合した形で
電荷発生層２が形成される。
アゾ顔料、ジスアゾ顔料、キノシアンニン顔料、ペリレ
ン顔料、フタロシアニン顔料、スクアリン酸誘導体染
料、ピリリウム系色素、ポリビニルカルバゾールとトリ
ニトロフルオレノンとの電荷移動錯体等の有機物が用い
られる。また非晶質セレン、セレン系合金、硫化カドニ
ウム、非晶質シリコン等の無機物も用いられる。これら
の有機物又は無機物を単独又はポリマーと混合した形で
電荷発生層２が形成される。
【００２１】電荷移動層３の電荷移動物質としては、ポ
リビニルカルバゾール、ビラゾリン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリフェニルメタン
誘導体、トリフェニルアミン、トリニトロフルオレノン
等が用いられる。
リビニルカルバゾール、ビラゾリン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリフェニルメタン
誘導体、トリフェニルアミン、トリニトロフルオレノン
等が用いられる。
【００２２】導電性基体Ａのアルマイト層１の結晶成長
方向不特定であり、電荷発生層２及び電荷移動層３を透
過した光はアルマイト層１の内部で乱反射する。そのた
め、干渉縞による濃度のムラが生じない。
方向不特定であり、電荷発生層２及び電荷移動層３を透
過した光はアルマイト層１の内部で乱反射する。そのた
め、干渉縞による濃度のムラが生じない。
【００２３】さらに、不特定方向に結晶が成長したアル
マイト層を生成する陽極酸化条件の具体例を比較例と対
比しながら説明する。本発明例及び比較例は以下の工程
で製造されたものである。アルカリ系脱脂剤で脱脂した
アルミニウム押出管（３０φ×２８φ×３００ｍｍｌ）
を通常のエッチング等の前処理を施したのち表１に示す
陽極酸化条件にて約１０μｍのアルマイト層を形成し
た。さらに、封孔助剤を添加した沸騰水中にかかる基体
を５分間浸漬することにより封孔処理を行った。表１に
おいて、比較例Ａ，Ｈは電圧比が上下に外れており、比
較例Ｉ，Ｎはデューティー比が上下に外れており、比較
例Ｏ，Ｔは周波数が上下に外れている。
マイト層を生成する陽極酸化条件の具体例を比較例と対
比しながら説明する。本発明例及び比較例は以下の工程
で製造されたものである。アルカリ系脱脂剤で脱脂した
アルミニウム押出管（３０φ×２８φ×３００ｍｍｌ）
を通常のエッチング等の前処理を施したのち表１に示す
陽極酸化条件にて約１０μｍのアルマイト層を形成し
た。さらに、封孔助剤を添加した沸騰水中にかかる基体
を５分間浸漬することにより封孔処理を行った。表１に
おいて、比較例Ａ，Ｈは電圧比が上下に外れており、比
較例Ｉ，Ｎはデューティー比が上下に外れており、比較
例Ｏ，Ｔは周波数が上下に外れている。
【００２４】なお、結着樹脂としてポリビニルブチラー
ル（積水化学社製、商品名エスレックＢＬ１）１００重
量部、電荷発生物質としてのメタルフリーフタロシアニ
ン（大日本インキ製）２００重量部、及び所定量のテト
ラヒドロフランを遠心型ボールミルで１時間混合分散さ
せ電荷発生層用塗工液を調製し、この塗工液を上記で得
られた各アルミニウムドラムに浸漬法により塗布し、８
５℃で３０分間加熱乾燥して硬化させることにより膜厚
０．５μｍの電荷発生層を形成した。
ル（積水化学社製、商品名エスレックＢＬ１）１００重
量部、電荷発生物質としてのメタルフリーフタロシアニ
ン（大日本インキ製）２００重量部、及び所定量のテト
ラヒドロフランを遠心型ボールミルで１時間混合分散さ
せ電荷発生層用塗工液を調製し、この塗工液を上記で得
られた各アルミニウムドラムに浸漬法により塗布し、８
５℃で３０分間加熱乾燥して硬化させることにより膜厚
０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【００２５】次に、結着樹脂としてポリカーボネート樹
脂（三菱瓦斯化学社製、商品名ユーピロン）１００重量
部、電荷移動物質として４−ジベンジルアミノ−２−メ
チルベンザイルジハイドロ−１，１ジフェニルヒドラゾ
ン１００重量部及び所定量のジクロルメタンをホモミキ
サーで攪拌混合して電荷移動層用塗工液を調製した。こ
の塗工液を上記電荷発生層の表面に浸漬法により塗布
し、８５℃で３０分間熱乾燥することにより膜厚２０μ
ｍの電荷移動層を形成し、レーザープリンタ用感光体を
作製した。
脂（三菱瓦斯化学社製、商品名ユーピロン）１００重量
部、電荷移動物質として４−ジベンジルアミノ−２−メ
チルベンザイルジハイドロ−１，１ジフェニルヒドラゾ
ン１００重量部及び所定量のジクロルメタンをホモミキ
サーで攪拌混合して電荷移動層用塗工液を調製した。こ
の塗工液を上記電荷発生層の表面に浸漬法により塗布
し、８５℃で３０分間熱乾燥することにより膜厚２０μ
ｍの電荷移動層を形成し、レーザープリンタ用感光体を
作製した。
【００２６】そして、当該感光体ドラムを半導体レーザ
ー（λ＝７８０ｎｍ，露出強度＝１．０ｍｗ／ｃｍ2 、
露出時間＝２５０μｓｅｃ）を用いるレーザープリンタ
を用い印刷性の評価を干渉縞発生率と外観検査により行
った。その評価の結果を表１に示す。
ー（λ＝７８０ｎｍ，露出強度＝１．０ｍｗ／ｃｍ2 、
露出時間＝２５０μｓｅｃ）を用いるレーザープリンタ
を用い印刷性の評価を干渉縞発生率と外観検査により行
った。その評価の結果を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】さらに、不特定方向に結晶が成長したアル
マイト層を生成する陽極酸化条件の具体例を比較例と対
比しながら説明する。本発明例及び比較例は以下の工程
で製造されたものである。アルカリ系脱脂剤で脱脂した
アルミニウム押出管（３０φ×２８φ×３００ｍｍｌ）
を通常のエッチング等の前処理を施したのち、表２に示
す陽極酸化条件にて約１０μｍのアルマイト層を形成し
た。さらに、封孔助剤を添加した沸騰水中にかかる基体
を５分間浸漬することにより封孔処理を行った。表２に
おいて、比較例ａ，ｈは電流比が上下に外れており、比
較例ｉ，ｎはデューティー比が上下に外れており、比較
例ｏ，ｔは周波数が上下に外れている。
マイト層を生成する陽極酸化条件の具体例を比較例と対
比しながら説明する。本発明例及び比較例は以下の工程
で製造されたものである。アルカリ系脱脂剤で脱脂した
アルミニウム押出管（３０φ×２８φ×３００ｍｍｌ）
を通常のエッチング等の前処理を施したのち、表２に示
す陽極酸化条件にて約１０μｍのアルマイト層を形成し
た。さらに、封孔助剤を添加した沸騰水中にかかる基体
を５分間浸漬することにより封孔処理を行った。表２に
おいて、比較例ａ，ｈは電流比が上下に外れており、比
較例ｉ，ｎはデューティー比が上下に外れており、比較
例ｏ，ｔは周波数が上下に外れている。
【００２９】なお、結着樹脂としてポリビニルブチラー
ル（積水化学社製、商品名エスレックＢＬ１）１００重
量部、電荷発生物質としてのメタルフリーフタロシアニ
ン（大日本インキ製）２００重量部、及び所定量のテト
ラヒドロフランを遠心型ボールミルで１時間混合分散さ
せ電荷発生層用塗工液を調製し、この塗工液を上記で得
られた各アルミニウムドラムに浸漬法により塗布し、８
５℃で３０分間加熱乾燥して硬化させることにより膜厚
０．５μｍの電荷発生層を形成した。
ル（積水化学社製、商品名エスレックＢＬ１）１００重
量部、電荷発生物質としてのメタルフリーフタロシアニ
ン（大日本インキ製）２００重量部、及び所定量のテト
ラヒドロフランを遠心型ボールミルで１時間混合分散さ
せ電荷発生層用塗工液を調製し、この塗工液を上記で得
られた各アルミニウムドラムに浸漬法により塗布し、８
５℃で３０分間加熱乾燥して硬化させることにより膜厚
０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【００３０】次に、結着樹脂としてポリカーボネート樹
脂（三菱瓦斯化学社製、商品名ユーピロン）１００重量
部、電荷移動物質として４−ジベンジルアミノ−２−メ
チルベンザイルジハイドロ−１，１ジフェニルヒドラゾ
ン１００重量部及び所定量のジクロルメタンをホモミキ
サーで攪拌混合して電荷移動層用塗工液を調製した。こ
の塗工液を上記電荷発生層の表面に浸漬法により塗布
し、８５℃で３０分間熱乾燥することにより膜厚２０μ
ｍの電荷移動層を形成し、レーザープリンタ用感光体を
作製した。
脂（三菱瓦斯化学社製、商品名ユーピロン）１００重量
部、電荷移動物質として４−ジベンジルアミノ−２−メ
チルベンザイルジハイドロ−１，１ジフェニルヒドラゾ
ン１００重量部及び所定量のジクロルメタンをホモミキ
サーで攪拌混合して電荷移動層用塗工液を調製した。こ
の塗工液を上記電荷発生層の表面に浸漬法により塗布
し、８５℃で３０分間熱乾燥することにより膜厚２０μ
ｍの電荷移動層を形成し、レーザープリンタ用感光体を
作製した。
【００３１】そして、当該感光体ドラムを半導体レーザ
ー（λ＝７８０ｎｍ，露出強度＝１．０ｍｗ／ｃｍ2 、
露出時間＝２５０μｓｅｃ）を用いるレーザープリンタ
を用い印刷性の評価を干渉縞発生率と外観検査により行
った。その評価の結果を表２に示す。
ー（λ＝７８０ｎｍ，露出強度＝１．０ｍｗ／ｃｍ2 、
露出時間＝２５０μｓｅｃ）を用いるレーザープリンタ
を用い印刷性の評価を干渉縞発生率と外観検査により行
った。その評価の結果を表２に示す。
【００３２】
【表２】
【００３３】
【発明の効果】本発明の製造方法により製造されたレー
ザープリンタ用及び複写機用感光体は、光に対する反射
率が非常に小さいので、干渉縞を無くすることができ、
また染色工程、二次電解工程を不要とし基体の表面をア
ルマイトで処理するだけでよい。本処理は低温型硬質ア
ルマイト処理と異なり、処理温度が２０℃前後であるた
め従来のアルマイト処理設備を使用可能な上、０〜５℃
まで冷却可能な大型の冷却設備が不要で、エネルギーコ
ストも安価である。更に膜厚分布が小さいため１ラック
の処理本数が多いため、生産性向上によりアルマイト処
理が比較的安価に行え、工業生産にきわめて適してい
る。その上、アルマイト層が硬いので、経時劣化が少な
くなり、感光体の寿命が長く、鮮明な画像を長期に渡り
印刷可能である。
ザープリンタ用及び複写機用感光体は、光に対する反射
率が非常に小さいので、干渉縞を無くすることができ、
また染色工程、二次電解工程を不要とし基体の表面をア
ルマイトで処理するだけでよい。本処理は低温型硬質ア
ルマイト処理と異なり、処理温度が２０℃前後であるた
め従来のアルマイト処理設備を使用可能な上、０〜５℃
まで冷却可能な大型の冷却設備が不要で、エネルギーコ
ストも安価である。更に膜厚分布が小さいため１ラック
の処理本数が多いため、生産性向上によりアルマイト処
理が比較的安価に行え、工業生産にきわめて適してい
る。その上、アルマイト層が硬いので、経時劣化が少な
くなり、感光体の寿命が長く、鮮明な画像を長期に渡り
印刷可能である。
【図１】レーザープリンター用感光体の一部断面図であ
る。
る。
【図２】アルマイト皮膜の結晶状態を示す図である。
【図３】変動波形を含む電圧波形の具体例を示す図であ
る。
る。
【図４】変動波形を含む電圧波形の他の具体例を示す図
である。
である。
Ａ 導電性基体 Ｂ 感光層 １ アルマイト層 ２ 電荷発生層 ３ 電荷移動層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅川 義彦 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所 神戸総合技術研 究所内 (72)発明者 加藤 春生 山口県下関市長府港町14番１号 株式会 社神戸製鋼所 長府製造所内 (72)発明者 長山 正 大阪府東大阪市水走388 株式会社長山 工業所内 (56)参考文献 特開 平５−197181（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−273779（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−198245（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−109566（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−293852（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−80568（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/14 101
Claims (3)
- 【請求項１】 導電性基体上に感光層を有し、前記基体
表面にアルマイト層を形成した感光体ドラムの製造方法
であって、 変動する電圧波形を用いた電解処理により前記導電性基
体を陽極酸化することによって、結晶成長方向が不特定
なアルマイト層を前記基体表面に形成させることを特徴
とする印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の前記電解処理を、 周波数３×１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デューティー比
（変動波形電流が流れる時間ｔ１と不変動波形電流が流
れる時間ｔ２とからｔ１／（ｔ１＋ｔ２）で定義される
もの）３０〜９６％、変動波形電圧Ｖ１と不変動波形電
圧Ｖ２の平均電圧比（Ｖ１／Ｖ２）１．５〜１０００の
変動波形を含む電圧にて行うことを特徴とする印刷性に
優れた感光体ドラムの製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載の前記電解処理を、 周波数３×１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デューティー比３
０〜９６％、変動波形電流ｉ１と不変動波形電流ｉ２の
平均電流比（ｉ１／ｉ２）２〜２５０の変動波形を含む
電流にて行うことを特徴とする印刷性に優れた感光体ド
ラムの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6117616A JP2768634B2 (ja) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6117616A JP2768634B2 (ja) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07301935A JPH07301935A (ja) | 1995-11-14 |
| JP2768634B2 true JP2768634B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=14716171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6117616A Expired - Lifetime JP2768634B2 (ja) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2768634B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2980107B1 (ja) * | 1998-06-17 | 1999-11-22 | 富士電機株式会社 | 電子写真感光体用の導電性基体およびその製造方法 |
| JP2009114524A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Showa Denko Kk | 感光ドラム基体用アルミニウム管の陽極酸化処理方法及び感光ドラム基体 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198245A (ja) * | 1985-02-28 | 1986-09-02 | Showa Alum Corp | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
| JPH02293852A (ja) * | 1989-05-09 | 1990-12-05 | Olympus Optical Co Ltd | 静電記録体 |
| JP2666488B2 (ja) * | 1989-09-25 | 1997-10-22 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体及びその製造方法 |
| JP2619163B2 (ja) * | 1991-09-20 | 1997-06-11 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
| JP3009002B2 (ja) * | 1991-11-12 | 2000-02-14 | ブラザー工業株式会社 | 刺繍ミシンの為のデータ処理装置 |
| JPH05197181A (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-06 | Furukawa Alum Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JP2806132B2 (ja) * | 1992-03-26 | 1998-09-30 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電子写真用感光体の下地処理方法 |
-
1994
- 1994-05-06 JP JP6117616A patent/JP2768634B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07301935A (ja) | 1995-11-14 |
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