JP2768620B2 - レーザープリンター用感光体及びその製造方法 - Google Patents
レーザープリンター用感光体及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2768620B2 JP2768620B2 JP5131071A JP13107193A JP2768620B2 JP 2768620 B2 JP2768620 B2 JP 2768620B2 JP 5131071 A JP5131071 A JP 5131071A JP 13107193 A JP13107193 A JP 13107193A JP 2768620 B2 JP2768620 B2 JP 2768620B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- laser printer
- alumite
- waveform
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真に用いられる
レーザープリンター用感光体に関する。さらに詳しく
は、長寿命であって、干渉縞状の濃度ムラが現われず、
鮮映性が高く、ベタ画像の再現が良好なレーザープリン
ター用感光体に関する。
レーザープリンター用感光体に関する。さらに詳しく
は、長寿命であって、干渉縞状の濃度ムラが現われず、
鮮映性が高く、ベタ画像の再現が良好なレーザープリン
ター用感光体に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近、この種の電子写真には、小型、低
コストで直接変調が可能な半導体レーザーが用いられる
ようになっている。この半導体レーザーは発光波長が７
５０ｎｍ以上のものが多く、感光波長領域を比較的自由
に選べるようにするため、図１に示されるように、導電
性基体Ａの上に、電荷発生層２と、電荷移動層３からな
る感光層Ｂを形成したレーザープリンター用感光体が用
いられる。また導電性基体Ａの表面には、電気的絶縁の
ためのアルマイト層１が形成されている。
コストで直接変調が可能な半導体レーザーが用いられる
ようになっている。この半導体レーザーは発光波長が７
５０ｎｍ以上のものが多く、感光波長領域を比較的自由
に選べるようにするため、図１に示されるように、導電
性基体Ａの上に、電荷発生層２と、電荷移動層３からな
る感光層Ｂを形成したレーザープリンター用感光体が用
いられる。また導電性基体Ａの表面には、電気的絶縁の
ためのアルマイト層１が形成されている。
【０００３】上記感光層Ｂの電荷発生層２は、光を吸収
して自由電荷を発生させる役割をもち、その厚さは発生
したホト・キヤリアの飛程を短くするために０．１〜２
μｍと薄いのが通例である。このことは、入射光量の大
部分が電荷発生層２で吸収されて多くのホト・キヤリア
を生成すること、さらには発生したホト・キヤリアを再
結合や捕獲により失活することなく電荷移動層３に注入
する必要があることに起因している。つぎに電荷移動層
３は、静電荷の受容と自由電荷の輸送の役割をもち、像
形光をほとんど吸収しないものを用い、その厚さは通例
１０〜３０μｍである。このような積層型の感光体を用
い、レーザープリンタでレーザー光をライン走査して画
像を出してみると、干渉縞状の濃度のムラが現われるこ
とがある。この原因は、図１に示すように電荷発生層２
が前述の如く薄層で形成されているために、この層２で
吸収される光量が制限され、そのために電荷発生層２を
通過した光がさらにアルマイト層１を通過した後アルミ
ニウム表面で反射し、アルマイト層をもう一度通過し反
射光ａとなる。この反射光ａとアルマイト層１表面での
反射光ｂとが干渉する結果、濃度のムラが現れる。
して自由電荷を発生させる役割をもち、その厚さは発生
したホト・キヤリアの飛程を短くするために０．１〜２
μｍと薄いのが通例である。このことは、入射光量の大
部分が電荷発生層２で吸収されて多くのホト・キヤリア
を生成すること、さらには発生したホト・キヤリアを再
結合や捕獲により失活することなく電荷移動層３に注入
する必要があることに起因している。つぎに電荷移動層
３は、静電荷の受容と自由電荷の輸送の役割をもち、像
形光をほとんど吸収しないものを用い、その厚さは通例
１０〜３０μｍである。このような積層型の感光体を用
い、レーザープリンタでレーザー光をライン走査して画
像を出してみると、干渉縞状の濃度のムラが現われるこ
とがある。この原因は、図１に示すように電荷発生層２
が前述の如く薄層で形成されているために、この層２で
吸収される光量が制限され、そのために電荷発生層２を
通過した光がさらにアルマイト層１を通過した後アルミ
ニウム表面で反射し、アルマイト層をもう一度通過し反
射光ａとなる。この反射光ａとアルマイト層１表面での
反射光ｂとが干渉する結果、濃度のムラが現れる。
【０００４】アルマイト層１の屈折率をｎ1 ，厚さをｄ
1 また、レーザー光の波長をλとするとｎ1 ｄ1 がλ／
２の奇数倍のときは、反射光の強度が極大、すなわち電
荷発生層２での電離電荷量が極大であり、ｎ1 ｄ1 がλ
／２の偶数倍のときは反射光が極小、すなわち電荷発生
層２での電離電荷量が極小となる。ところで、ｄ1 には
製造上０．２μｍ以上の厚みムラは避けられない。一
方、レーザー光は単色性がよく、コヒーレントなため、
ｄ1 の厚みムラに対応して前記の干渉条件が変化し、電
荷発生層２でのレーザー光の吸収量の場所ムラが生じ、
それがベタ画像の濃度の干渉縞状のムラとなって現われ
る。なお通常の複写機では、光源が単色光でないため、
波長によって干渉縞状の濃度ムラの幅が変わり、平均化
されて見えなくなる。
1 また、レーザー光の波長をλとするとｎ1 ｄ1 がλ／
２の奇数倍のときは、反射光の強度が極大、すなわち電
荷発生層２での電離電荷量が極大であり、ｎ1 ｄ1 がλ
／２の偶数倍のときは反射光が極小、すなわち電荷発生
層２での電離電荷量が極小となる。ところで、ｄ1 には
製造上０．２μｍ以上の厚みムラは避けられない。一
方、レーザー光は単色性がよく、コヒーレントなため、
ｄ1 の厚みムラに対応して前記の干渉条件が変化し、電
荷発生層２でのレーザー光の吸収量の場所ムラが生じ、
それがベタ画像の濃度の干渉縞状のムラとなって現われ
る。なお通常の複写機では、光源が単色光でないため、
波長によって干渉縞状の濃度ムラの幅が変わり、平均化
されて見えなくなる。
【０００５】上述した濃度の干渉縞状のムラを防止する
手段として種々の方法が提案されている。特開昭５８−
８２２４９号公報では、電荷発生層２中のレーザー透過
光を１０％以下にすることを提案している。しかし、９
０％のレーザー光を有機層である電荷発生層２が吸収し
た場合、その吸収による電荷発生層２の劣化が著しく、
感光体の寿命が極端に短くなるという問題点がある。元
々感光体の寿命は、２〜３月と短期間であり、その交換
は煩雑であるため、寿命の延長化が求められている。
手段として種々の方法が提案されている。特開昭５８−
８２２４９号公報では、電荷発生層２中のレーザー透過
光を１０％以下にすることを提案している。しかし、９
０％のレーザー光を有機層である電荷発生層２が吸収し
た場合、その吸収による電荷発生層２の劣化が著しく、
感光体の寿命が極端に短くなるという問題点がある。元
々感光体の寿命は、２〜３月と短期間であり、その交換
は煩雑であるため、寿命の延長化が求められている。
【０００６】また、特開平３−１６８７５４号公報及び
特開昭５８−１００１３８公報では、アルマイト層１を
染色アルマイト層にしてレーザー光を吸収するものを提
案している。しかし、染料は可視光域すなわち４００〜
７００ｎｍにおける特定波長域の吸収があるために発色
するものであり、半導体レーザーの波長域（７５０〜８
００ｎｍ）における吸収率が極めて低いため、染色アル
マイト層による干渉縞状の抑制効果はほとんどない。
特開昭５８−１００１３８公報では、アルマイト層１を
染色アルマイト層にしてレーザー光を吸収するものを提
案している。しかし、染料は可視光域すなわち４００〜
７００ｎｍにおける特定波長域の吸収があるために発色
するものであり、半導体レーザーの波長域（７５０〜８
００ｎｍ）における吸収率が極めて低いため、染色アル
マイト層による干渉縞状の抑制効果はほとんどない。
【０００７】さらに、特開平３−２５９２６７では、導
電性基体Ａの表面をＲｍａｘ０．６〜４．０μｍに粗面
化することにより、レーザー光を散乱させることにより
レーザー反射光を抑制するもの、また感光層Ｂの表面を
粗面化することによりレーザー反射光を抑制するものを
提案している。しかし０．５μｍ以上の表面粗度の制御
が現実的に困難なため、また当該製品の生産性が悪いた
め、実用化が難しいとい問題点がある。
電性基体Ａの表面をＲｍａｘ０．６〜４．０μｍに粗面
化することにより、レーザー光を散乱させることにより
レーザー反射光を抑制するもの、また感光層Ｂの表面を
粗面化することによりレーザー反射光を抑制するものを
提案している。しかし０．５μｍ以上の表面粗度の制御
が現実的に困難なため、また当該製品の生産性が悪いた
め、実用化が難しいとい問題点がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、濃度の干渉縞状のムラを
簡単に解消することができ、寿命も長いレーザープリン
ター用感光体及びその製造方法を提供することにある。
の有するこのような問題点に鑑みてなされたものであ
り、その目的とするところは、濃度の干渉縞状のムラを
簡単に解消することができ、寿命も長いレーザープリン
ター用感光体及びその製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかるムラ発生の問題点
を解決するため、アルマイト皮膜の結晶成長方向の制御
に着目したものであり、本発明のレーザープリンター用
感光体は、導電性基体表面のアルマイト層の結晶成長方
向を不特定にしたものである。結晶成長方向を不特定に
する方法として、アルマイト層の陽極酸化を変動する電
流波形を用いた電解処理を行い、より具体的には硫酸溶
液中において、周波数１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デュー
ティー比６０〜９６％、平均電流密度０．５〜７Ａ／ｄ
ｍ2 の変動波形を含む電流にて電解処理する。ここでデ
ューティー比とは、変動波形電流が流れる時間ｔ１と不
変動波形電流が流れるｔ２とから、デューティー比＝ｔ
１／（ｔ１＋ｔ２）で定義される。多くの場合不変動波
形の電流値はゼロで定義されるが、本特許では必ずしも
ゼロではない。
を解決するため、アルマイト皮膜の結晶成長方向の制御
に着目したものであり、本発明のレーザープリンター用
感光体は、導電性基体表面のアルマイト層の結晶成長方
向を不特定にしたものである。結晶成長方向を不特定に
する方法として、アルマイト層の陽極酸化を変動する電
流波形を用いた電解処理を行い、より具体的には硫酸溶
液中において、周波数１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デュー
ティー比６０〜９６％、平均電流密度０．５〜７Ａ／ｄ
ｍ2 の変動波形を含む電流にて電解処理する。ここでデ
ューティー比とは、変動波形電流が流れる時間ｔ１と不
変動波形電流が流れるｔ２とから、デューティー比＝ｔ
１／（ｔ１＋ｔ２）で定義される。多くの場合不変動波
形の電流値はゼロで定義されるが、本特許では必ずしも
ゼロではない。
【００１０】また、感光体の寿命を長くするために、本
発明のレーザープリンター用感光体は、導電性基体アル
マイト層の硬度がビッカース硬度ＨＶ３１０〜４３０と
したものである。
発明のレーザープリンター用感光体は、導電性基体アル
マイト層の硬度がビッカース硬度ＨＶ３１０〜４３０と
したものである。
【００１１】
【作用】アルマイト層の結晶は六角柱構造であり陽極酸
化時間とともにそれはアルミニウム基体と垂直に成長す
る。しかし、陽極酸化の電流波形（もしくは電圧波形）
を制御することによりアルマイト層の結晶成長方向が不
特定方向となる。すなわち、図２に示すように結晶の成
長過程で結晶の成長方向が変化するもの、結晶が途中で
途切れたり、枝分けするもの、再度結合するものの混合
結晶体が形成される。このアルマイト層にレーザー光を
照射した場合、複雑な結晶構造に従いレーザー光は乱反
射することを見出した点が重要である。かかるアルマイ
ト層を電気的絶縁層とした感光体では感光層に入った後
のレーザー反射光が減少するため干渉模様が消失する。
化時間とともにそれはアルミニウム基体と垂直に成長す
る。しかし、陽極酸化の電流波形（もしくは電圧波形）
を制御することによりアルマイト層の結晶成長方向が不
特定方向となる。すなわち、図２に示すように結晶の成
長過程で結晶の成長方向が変化するもの、結晶が途中で
途切れたり、枝分けするもの、再度結合するものの混合
結晶体が形成される。このアルマイト層にレーザー光を
照射した場合、複雑な結晶構造に従いレーザー光は乱反
射することを見出した点が重要である。かかるアルマイ
ト層を電気的絶縁層とした感光体では感光層に入った後
のレーザー反射光が減少するため干渉模様が消失する。
【００１２】不特定方向に結晶が成長したアルマイト層
を生成する陽極酸化条件とは、直流以外の電流変動波形
すなわち、サイン波、パルス波、三角波及びそれらの複
合もしくはそれらと直流との重畳がある。さらに、この
ような電流変動波形に不変動波形を重ねたものが用いら
れる。具体的波形例を図３及び図４により説明する。図
３は電流ｉ２の不変動波形にパルス波の変動波形を重ね
て最大電流ｉ１の波形としたものである。図４は電流ｉ
２の不変動波形にサイン波の変動波形を重ねて最大電流
ｉ１の波形としたものである。周波数は１０-3〜５×１
０-2Ｈｚが良い。１０-3Ｈｚ未満では皮膜中の基体に対
して垂直方向に成長したアルマイト結晶が多いため、レ
ーザー光の散乱効果は減少する。また、周波数が５×１
０-2Ｈｚを超えた場合、結晶の成長速度が低下するた
め、一定厚みのアルマイト層まで成長に要する時間が長
くなり、生産性が著しく低下する。さらに、周波数の増
大により硬度が上昇しすぎるため、感光層形成時の造膜
過程における加熱においてアルマイト層が破損する。
を生成する陽極酸化条件とは、直流以外の電流変動波形
すなわち、サイン波、パルス波、三角波及びそれらの複
合もしくはそれらと直流との重畳がある。さらに、この
ような電流変動波形に不変動波形を重ねたものが用いら
れる。具体的波形例を図３及び図４により説明する。図
３は電流ｉ２の不変動波形にパルス波の変動波形を重ね
て最大電流ｉ１の波形としたものである。図４は電流ｉ
２の不変動波形にサイン波の変動波形を重ねて最大電流
ｉ１の波形としたものである。周波数は１０-3〜５×１
０-2Ｈｚが良い。１０-3Ｈｚ未満では皮膜中の基体に対
して垂直方向に成長したアルマイト結晶が多いため、レ
ーザー光の散乱効果は減少する。また、周波数が５×１
０-2Ｈｚを超えた場合、結晶の成長速度が低下するた
め、一定厚みのアルマイト層まで成長に要する時間が長
くなり、生産性が著しく低下する。さらに、周波数の増
大により硬度が上昇しすぎるため、感光層形成時の造膜
過程における加熱においてアルマイト層が破損する。
【００１３】デューティー比は６０〜９６％が良く、望
ましくは７５〜８５％である。ここで、デューティー比
は図２及び図３において、変動波形電流が流れる時間ｔ
１と不変動波形ｔ２とから、デューティー比＝ｔ１／
（ｔ１＋ｔ２）で定義される。多くの場合不変動波形の
電流値ｉ２はゼロで定義されるが、本特許ではこのｉ２
は必ずしもゼロではなく、通常変動波形の電流値ｉ１の
２０％以下のｉ２である。このデューティー比が６０％
未満ではアルマイト皮膜が異常成長するため感光層の焼
付け時にクラックが発生する。また、７５％未満ではア
ルマイト皮膜のクラック発生温度が１１０℃以下である
ため、感光液の種類を限定する必要がある。デューティ
ー比が高いほど直流電解に近づくため、結晶成長方向が
一定となり、干渉縞が発生しやすくなる。従って、デュ
ーティー比が８５％を越えた場合、５％の確率で干渉縞
が発生し、９６％を越えた場合約１／３に干渉縞が発生
する。
ましくは７５〜８５％である。ここで、デューティー比
は図２及び図３において、変動波形電流が流れる時間ｔ
１と不変動波形ｔ２とから、デューティー比＝ｔ１／
（ｔ１＋ｔ２）で定義される。多くの場合不変動波形の
電流値ｉ２はゼロで定義されるが、本特許ではこのｉ２
は必ずしもゼロではなく、通常変動波形の電流値ｉ１の
２０％以下のｉ２である。このデューティー比が６０％
未満ではアルマイト皮膜が異常成長するため感光層の焼
付け時にクラックが発生する。また、７５％未満ではア
ルマイト皮膜のクラック発生温度が１１０℃以下である
ため、感光液の種類を限定する必要がある。デューティ
ー比が高いほど直流電解に近づくため、結晶成長方向が
一定となり、干渉縞が発生しやすくなる。従って、デュ
ーティー比が８５％を越えた場合、５％の確率で干渉縞
が発生し、９６％を越えた場合約１／３に干渉縞が発生
する。
【００１４】平均電流密度は０．５〜７．０Ａ／ｄｍ2
が良い。望ましくは１．０〜５．０Ａ／ｄｍ2 であり、
特に望ましくは１．８〜３．０Ａ／ｄｍ2 である。電流
密度が０．５Ａ／ｄｍ2 未満では電流が低すぎるため、
均一な陽極酸化皮膜が生成されない。１．０Ａ／ｄｍ2
未満では結晶成長方向が十分変化しないため、干渉縞が
若干発生する。１．８Ａ／ｄｍ2 未満成膜速度が遅すぎ
るため、高生産性を維持するため１．８Ａ／ｄｍ2 以上
が望ましい。また、平均電流密度が７Ａ／ｄｍ2 を越え
た場合、電流密度が高すぎるため陽極酸化時において皮
膜の部分破壊が発生する。５Ａ／ｄｍ2 を越えた場合、
膜厚分布が大きくなるため一部干渉縞が発生する。３Ａ
／ｄｍ2 を越えた場合、１２０℃以上でクラックが発生
するため、感光層の焼付け温度を１２０℃未満に設定す
る必要がある。
が良い。望ましくは１．０〜５．０Ａ／ｄｍ2 であり、
特に望ましくは１．８〜３．０Ａ／ｄｍ2 である。電流
密度が０．５Ａ／ｄｍ2 未満では電流が低すぎるため、
均一な陽極酸化皮膜が生成されない。１．０Ａ／ｄｍ2
未満では結晶成長方向が十分変化しないため、干渉縞が
若干発生する。１．８Ａ／ｄｍ2 未満成膜速度が遅すぎ
るため、高生産性を維持するため１．８Ａ／ｄｍ2 以上
が望ましい。また、平均電流密度が７Ａ／ｄｍ2 を越え
た場合、電流密度が高すぎるため陽極酸化時において皮
膜の部分破壊が発生する。５Ａ／ｄｍ2 を越えた場合、
膜厚分布が大きくなるため一部干渉縞が発生する。３Ａ
／ｄｍ2 を越えた場合、１２０℃以上でクラックが発生
するため、感光層の焼付け温度を１２０℃未満に設定す
る必要がある。
【００１５】陽極酸化温度及びアルマイト層の厚さにつ
いては特に規定しないが、陽極酸化温度は１５〜２５℃
が一般的であり、５℃以下の低温を必要としない。また
膜厚は通常６〜１５μｍ程度であり、この範囲を外れた
場合、プリンターの機種により干渉縞が発生する。
いては特に規定しないが、陽極酸化温度は１５〜２５℃
が一般的であり、５℃以下の低温を必要としない。また
膜厚は通常６〜１５μｍ程度であり、この範囲を外れた
場合、プリンターの機種により干渉縞が発生する。
【００１６】つぎに、通常２〜３ヵ月の感光体寿命を長
くすることについて、基体を始め、アルマイト層の電気
的絶縁層の硬度が低く、電荷発生層及び電荷移動層も硬
度の低い有機系物質から構成されていることに起因する
と考えられる。しかし、種々検討した結果、厚みの大き
い基体（通常５ｍｍ程度）の表面に形成されている電気
的絶縁層といしてのアルマイト層（通常１０〜２０μｍ
程度）の硬度を高めることに着目した。さらにアルマイ
ト層のみの硬度を一定硬度以上に高めれば、感光体の寿
命は基体の硬度と無関係であることが判明し、アルマイ
ト層の硬度を、例えば陽極酸化条件における電流周波数
の増大によりビッカース硬度ＨＶ３１０〜４３０に調整
する。すなわち、軟らかい感光層の下地に半硬質あるい
は中硬度のアルマイト層の電気的絶縁層を用いることに
より、印刷時の経時衝撃劣化を防止するものである。従
来、特開平３−１６８７５４等如きのアルマイト層の硬
度は、ＨＶ２００〜３００程度しかなった。
くすることについて、基体を始め、アルマイト層の電気
的絶縁層の硬度が低く、電荷発生層及び電荷移動層も硬
度の低い有機系物質から構成されていることに起因する
と考えられる。しかし、種々検討した結果、厚みの大き
い基体（通常５ｍｍ程度）の表面に形成されている電気
的絶縁層といしてのアルマイト層（通常１０〜２０μｍ
程度）の硬度を高めることに着目した。さらにアルマイ
ト層のみの硬度を一定硬度以上に高めれば、感光体の寿
命は基体の硬度と無関係であることが判明し、アルマイ
ト層の硬度を、例えば陽極酸化条件における電流周波数
の増大によりビッカース硬度ＨＶ３１０〜４３０に調整
する。すなわち、軟らかい感光層の下地に半硬質あるい
は中硬度のアルマイト層の電気的絶縁層を用いることに
より、印刷時の経時衝撃劣化を防止するものである。従
来、特開平３−１６８７５４等如きのアルマイト層の硬
度は、ＨＶ２００〜３００程度しかなった。
【００１７】ＨＶ３１０未満では抑制時（感光体の使用
時）の、経時衝撃劣化によりアルマイト層の破損が発生
する。またＨＶ４３０を超えた場合、感光層形成に際し
ての塗工時の塗料乾燥工程において、塗料の種類により
焼付温度の相違があるが通常８０〜１３０℃の加熱が行
われるため、クラックが発生し、アルマイト層に生じた
ヒートクラックにより電気的絶縁が破壊され信号異常が
生じる。
時）の、経時衝撃劣化によりアルマイト層の破損が発生
する。またＨＶ４３０を超えた場合、感光層形成に際し
ての塗工時の塗料乾燥工程において、塗料の種類により
焼付温度の相違があるが通常８０〜１３０℃の加熱が行
われるため、クラックが発生し、アルマイト層に生じた
ヒートクラックにより電気的絶縁が破壊され信号異常が
生じる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１は本発明のレーザープリンター用感光体の
一部断面図である。Ａは導電性基体、１はそのアルマイ
ト層、Ｂは感光層、２はその電荷発生層、３はその電荷
移動層である。アルマイト層１の結晶の成長方向が不特
定であり、そのビッカース硬度がＨＶ３１０〜４３０と
通常より高くなっている点が従来と異なる。
明する。図１は本発明のレーザープリンター用感光体の
一部断面図である。Ａは導電性基体、１はそのアルマイ
ト層、Ｂは感光層、２はその電荷発生層、３はその電荷
移動層である。アルマイト層１の結晶の成長方向が不特
定であり、そのビッカース硬度がＨＶ３１０〜４３０と
通常より高くなっている点が従来と異なる。
【００１９】導電性基体Ａとしては、アルミニウム、も
しくはアルミニウム合金が用いられる。すなわち表面に
アルマイト層が形成できるものであればよい。
しくはアルミニウム合金が用いられる。すなわち表面に
アルマイト層が形成できるものであればよい。
【００２０】電荷発生層２の電荷発生物としては、モノ
アゾ顔料、ジスアゾ顔料、キノシアンニン顔料、ペリレ
ン顔料、フタロシアニン顔料、スクアリン酸誘導体染
料、ピリリウム系色素、ポリビニルカルバゾールとトリ
ニトロフルオレノンとの電荷移動錯体等の有機物が用い
られる。また非晶質セレン、セレン系合金、流化カドニ
ウム、非晶質シリコン等の無機物も用いられる。これら
の有機物又は無機物を単独又はポリマーと混合した形で
電荷発生層２が形成される。
アゾ顔料、ジスアゾ顔料、キノシアンニン顔料、ペリレ
ン顔料、フタロシアニン顔料、スクアリン酸誘導体染
料、ピリリウム系色素、ポリビニルカルバゾールとトリ
ニトロフルオレノンとの電荷移動錯体等の有機物が用い
られる。また非晶質セレン、セレン系合金、流化カドニ
ウム、非晶質シリコン等の無機物も用いられる。これら
の有機物又は無機物を単独又はポリマーと混合した形で
電荷発生層２が形成される。
【００２１】電荷移動層３の電荷移動物質としては、ポ
リビニルカルバゾール、ビラゾリン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリフェニルメタン
誘導体、トリフェニルアミン、トリニトロフルオレノン
等が用いられる。
リビニルカルバゾール、ビラゾリン誘導体、ヒドラゾン
誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリフェニルメタン
誘導体、トリフェニルアミン、トリニトロフルオレノン
等が用いられる。
【００２２】導電性基体Ａのアルマイト層１の結晶成長
方向不特定であり、電荷発生層２及び電荷移動層３を透
過した光はアルマイト層１の内部で乱反射する。そのた
め、干渉縞による濃度のムラが生じない。また基体Ａの
表面のマルマイト層１がビッカース硬度ＨＶ３１０〜４
３０と硬く、有機物等で形成された感光層Ｂを硬度の不
足を補い、寿命が長くなる。
方向不特定であり、電荷発生層２及び電荷移動層３を透
過した光はアルマイト層１の内部で乱反射する。そのた
め、干渉縞による濃度のムラが生じない。また基体Ａの
表面のマルマイト層１がビッカース硬度ＨＶ３１０〜４
３０と硬く、有機物等で形成された感光層Ｂを硬度の不
足を補い、寿命が長くなる。
【００２３】さらに、不特定方向に結晶が成長したアル
マイト層を生成する陽極酸化条件の具体例を比較例と対
比しながら説明する。本発明例及び比較例は以下の工程
で製造されたものである。アルカリ系脱脂剤で脱脂した
アルミニウム押出管（３０φ×２８φ×３００ｍｍｌ）
を通常のエッチング等の前処理を施したのち表１に示す
陽極酸化条件にて約１０μｍのアルマイト層を形成し
た。さらに、沸騰水中にかかる基体を６０分間浸漬する
ことにより封孔処理を行った。表１において、比較例
Ａ，Ｈは平均電流密度が上下に外れており、比較例Ｉ，
Ｎはデューティー比が上下に外れており、比較例Ｏ，Ｒ
は周波数が上下に外れている。
マイト層を生成する陽極酸化条件の具体例を比較例と対
比しながら説明する。本発明例及び比較例は以下の工程
で製造されたものである。アルカリ系脱脂剤で脱脂した
アルミニウム押出管（３０φ×２８φ×３００ｍｍｌ）
を通常のエッチング等の前処理を施したのち表１に示す
陽極酸化条件にて約１０μｍのアルマイト層を形成し
た。さらに、沸騰水中にかかる基体を６０分間浸漬する
ことにより封孔処理を行った。表１において、比較例
Ａ，Ｈは平均電流密度が上下に外れており、比較例Ｉ，
Ｎはデューティー比が上下に外れており、比較例Ｏ，Ｒ
は周波数が上下に外れている。
【００２４】なお、結着樹脂としてポリビニルブチラー
ル（積水化学社製、商品名エスレックＢＬ１）１００重
量部、電荷発生物質としてのメタルフリーフタロシアニ
ン（大日本インキ製）２００重量部、及び所定量のテト
ラヒドロフランを遠心型ボールミルで１時間混合分散さ
せ電荷発生層用塗工液を調製し、この塗工液を上記で得
られた各アルミニウムドラムに浸漬法により塗布し、１
１０℃で３０分間加熱乾燥して硬化させることにより膜
厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
ル（積水化学社製、商品名エスレックＢＬ１）１００重
量部、電荷発生物質としてのメタルフリーフタロシアニ
ン（大日本インキ製）２００重量部、及び所定量のテト
ラヒドロフランを遠心型ボールミルで１時間混合分散さ
せ電荷発生層用塗工液を調製し、この塗工液を上記で得
られた各アルミニウムドラムに浸漬法により塗布し、１
１０℃で３０分間加熱乾燥して硬化させることにより膜
厚０．５μｍの電荷発生層を形成した。
【００２５】次に、結着樹脂としてポリカーボネート樹
脂（三菱瓦斯化学社製、商品名ユーピロン）１００重量
部、電荷移動物質として４−ジベンジルアミノ−２−メ
チルベンザイルジハイドロ−１，１ジフェニルヒドラゾ
ン１００重量部及び所定量のジクロルメタンをホモミキ
サーで攪拌混合して電荷移動層用塗工液を調製した。こ
の塗工液を上記電荷発生層の表面に浸漬法により塗布
し、９０℃で３０分間熱乾燥することにより膜厚２０μ
ｍの電荷移動層を形成し、レーザープリンタ用感光体を
作製した。
脂（三菱瓦斯化学社製、商品名ユーピロン）１００重量
部、電荷移動物質として４−ジベンジルアミノ−２−メ
チルベンザイルジハイドロ−１，１ジフェニルヒドラゾ
ン１００重量部及び所定量のジクロルメタンをホモミキ
サーで攪拌混合して電荷移動層用塗工液を調製した。こ
の塗工液を上記電荷発生層の表面に浸漬法により塗布
し、９０℃で３０分間熱乾燥することにより膜厚２０μ
ｍの電荷移動層を形成し、レーザープリンタ用感光体を
作製した。
【００２６】そして、 当該感光体ドラムを半導体レー
ザー（λ＝７８０ｎｍ，露出強度＝０．７ｍｗ／ｃ
ｍ2 、露出時間＝２６０μｓｅｃ）を用いるレーザープ
リンタを用い印刷性の評価を干渉縞発生率と外観検査に
より行った。その評価の結果を表１に示す。
ザー（λ＝７８０ｎｍ，露出強度＝０．７ｍｗ／ｃ
ｍ2 、露出時間＝２６０μｓｅｃ）を用いるレーザープ
リンタを用い印刷性の評価を干渉縞発生率と外観検査に
より行った。その評価の結果を表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】さらに、アルマイト層の硬度についての具
体例を比較例と対比しながら説明する。表１の場合と同
類類のアルミニウム押出管を同様の工程に従い脱脂、エ
ッチング及び中和を行った。さらに、２０°Ｃで濃度が
１０重量％Ｈ2 ＳＯ4 溶液中において、周波数を変化さ
せたパルス波を用いて陽極酸化を行い１２μｍのアルマ
イト層を形成した。その時の平均電流密度は２．０Ａ／
ｄｍ2 であり、デューティー比は８０％であった。さら
に表１と同一条件にて塗工造膜し、感光体ドラムを製作
した後、レーザープリンタを用い印刷性試験（干渉縞発
生率）を行った。また、合わせて経時劣化も経時印刷性
により評価した。その評価の結果を表２に示す。比較例
ａ，ｆは硬度が上下に外れている。
体例を比較例と対比しながら説明する。表１の場合と同
類類のアルミニウム押出管を同様の工程に従い脱脂、エ
ッチング及び中和を行った。さらに、２０°Ｃで濃度が
１０重量％Ｈ2 ＳＯ4 溶液中において、周波数を変化さ
せたパルス波を用いて陽極酸化を行い１２μｍのアルマ
イト層を形成した。その時の平均電流密度は２．０Ａ／
ｄｍ2 であり、デューティー比は８０％であった。さら
に表１と同一条件にて塗工造膜し、感光体ドラムを製作
した後、レーザープリンタを用い印刷性試験（干渉縞発
生率）を行った。また、合わせて経時劣化も経時印刷性
により評価した。その評価の結果を表２に示す。比較例
ａ，ｆは硬度が上下に外れている。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【発明の効果】本発明のレーザープリンタ用感光体は、
レーザー光に対する反射率が非常に小さいので、干渉縞
を無くすることができ、また染色工程、二次電解工程を
不要とし基体の表面をアルマイトで処理するだけでよ
い。本処理は低温型硬質アルマイト処理と異なり、処理
温度が２０℃前後であるため従来のアルマイト処理設備
を使用可能な上、冷却設備が不要で、エネルギーコスト
も安価である。更に膜厚分布が小さいため１ラックの処
理本数が多いため、生産性向上によりアルマイト処理が
比較的安価に行え、工業生産にきわめて適している。そ
の上、アルマイト層が硬いので、経時劣化が少なくな
り、感光体の寿命が長く、鮮明な画像を長期に渡り印刷
可能である。
レーザー光に対する反射率が非常に小さいので、干渉縞
を無くすることができ、また染色工程、二次電解工程を
不要とし基体の表面をアルマイトで処理するだけでよ
い。本処理は低温型硬質アルマイト処理と異なり、処理
温度が２０℃前後であるため従来のアルマイト処理設備
を使用可能な上、冷却設備が不要で、エネルギーコスト
も安価である。更に膜厚分布が小さいため１ラックの処
理本数が多いため、生産性向上によりアルマイト処理が
比較的安価に行え、工業生産にきわめて適している。そ
の上、アルマイト層が硬いので、経時劣化が少なくな
り、感光体の寿命が長く、鮮明な画像を長期に渡り印刷
可能である。
【図１】レーザープリンター用感光体の一部断面図であ
る。
る。
【図２】アルマイト皮膜の結晶状態を示す図である。
【図３】変動波形を含む電流波形の具体例を示す図であ
る。
る。
【図４】変動波形を含む電流波形の他の具体例を示す図
である。
である。
Ａ 導電性基体 Ｂ 感光層 １ アルマイト層 ２ 電荷発生層 ３ 電荷移動層
フロントページの続き (72)発明者 浅川 義彦 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所 神戸総合研究所 内 (72)発明者 松本 克美 山口県下関市長府港町14番１号 株式会 社神戸製鋼所 長府製造所内 (72)発明者 竹本 政男 山口県下関市長府港町14番１号 株式会 社神戸製鋼所 長府製造所内 (72)発明者 長山 正 大阪府東大阪市水走388 株式会社長山 工業所内 (56)参考文献 特開 平５−197181（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/14 101
Claims (4)
- 【請求項１】 導電性基体上に感光層を有し、前記基体
の表面にアルマイト層を形成したレーザープリンター用
感光体において、該アルマイト層は、結晶の成長過程で
結晶の成長方向が変化するもの、結晶が途中で途切れた
り枝分けするもの、再度結合するものの混合結晶体であ
ることを特徴とするレーザープリンター用感光体。 - 【請求項２】 請求項１記載のレーザープリンター用感
光体の製造方法であって、前記アルマイト層の陽極酸化
を変動する電流波形を用いた電解処理により行うことを
特徴とするレーザープリンター用感光体の製造方法。 - 【請求項３】 請求項２記載の前記電解処理は、硫酸溶
液中において、周波数１０-3〜５×１０-2Ｈｚ、デュー
ティー比（変動波形電流が流れる時間ｔ１と不変動波形
電流が流れる時間ｔ２とからｔ１／（ｔ１＋ｔ２）で定
義されるもの）６０〜９６％、平均電流密度０．５〜７
Ａ／ｄｍ2 の変動波形を含む電流にて電解処理するもの
であるレーザープリンター用感光体の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１記載のレーザープリンター用感
光体であって、前記アルマイト層の硬度がビッカース硬
度ＨＶ３１０〜４３０であることを特徴とするレーザー
プリンター用感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5131071A JP2768620B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | レーザープリンター用感光体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5131071A JP2768620B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | レーザープリンター用感光体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06317921A JPH06317921A (ja) | 1994-11-15 |
| JP2768620B2 true JP2768620B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=15049319
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5131071A Expired - Lifetime JP2768620B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | レーザープリンター用感光体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2768620B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2980107B1 (ja) * | 1998-06-17 | 1999-11-22 | 富士電機株式会社 | 電子写真感光体用の導電性基体およびその製造方法 |
| JP2009114524A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Showa Denko Kk | 感光ドラム基体用アルミニウム管の陽極酸化処理方法及び感光ドラム基体 |
| US8993921B2 (en) * | 2012-06-22 | 2015-03-31 | Apple Inc. | Method of forming white appearing anodized films by laser beam treatment |
| US9493876B2 (en) | 2012-09-14 | 2016-11-15 | Apple Inc. | Changing colors of materials |
| US9181629B2 (en) | 2013-10-30 | 2015-11-10 | Apple Inc. | Methods for producing white appearing metal oxide films by positioning reflective particles prior to or during anodizing processes |
| US9839974B2 (en) | 2013-11-13 | 2017-12-12 | Apple Inc. | Forming white metal oxide films by oxide structure modification or subsurface cracking |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05197181A (ja) * | 1992-01-20 | 1993-08-06 | Furukawa Alum Co Ltd | 電子写真用感光体 |
| JP2784291B2 (ja) * | 1992-01-31 | 1998-08-06 | 昭和アルミニウム株式会社 | 電子写真用有機感光体及びその下地処理方法 |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP5131071A patent/JP2768620B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06317921A (ja) | 1994-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4600111B2 (ja) | 電子写真感光体、並びに、これを用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置 | |
| JP4946156B2 (ja) | 半導体膜及びその製造方法、並びに、該半導体膜を用いた受光素子、電子写真用感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置 | |
| JPS60225854A (ja) | 光受容部材用の支持体及び光受容部材 | |
| JP2768620B2 (ja) | レーザープリンター用感光体及びその製造方法 | |
| JP2768634B2 (ja) | 印刷性に優れた感光体ドラムの製造方法 | |
| JPH0259457B2 (ja) | ||
| JP3224836B2 (ja) | 感光性画像部材の製法 | |
| JP3845226B2 (ja) | 電子写真感光体及び画像形成方法 | |
| US4379820A (en) | Electrophotographic photoconductor of halogen-doped Se-Te alloy layers | |
| US6048657A (en) | Surface treatment method without external power source | |
| JP2001265014A (ja) | 感光体、それを用いた画像形成装置、画像形成方法及びプロセスカートリッジ | |
| JPS5882249A (ja) | レ−ザ−プリンタ用電子写真感光体 | |
| JPH0797227B2 (ja) | 電子写真用感光体 | |
| JP5125393B2 (ja) | 電子写真用感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置 | |
| JP2005208591A (ja) | 画像形成装置及び画像形成方法 | |
| JP2012027257A (ja) | 電子写真感光体およびそれを備えた画像形成装置 | |
| JP3897292B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2980107B1 (ja) | 電子写真感光体用の導電性基体およびその製造方法 | |
| JPH11218952A (ja) | 表面保護層を有する電子写真感光体 | |
| Taniguchi et al. | A highly sensitive chalcogenide photoconductor in a near‐infrared wavelength region | |
| JP2784291B2 (ja) | 電子写真用有機感光体及びその下地処理方法 | |
| JP5157156B2 (ja) | 感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 | |
| JPS6198359A (ja) | 光受容体 | |
| JP2013182181A (ja) | 電子写真感光体 | |
| JPH01217360A (ja) | 画像形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080410 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090410 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100410 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100410 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110410 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120410 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130410 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130410 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140410 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |