JP2765952B2

JP2765952B2 - 浮動ヘツドスライダ

Info

Publication number: JP2765952B2
Application number: JP1132630A
Authority: JP
Inventors: 芳徳竹内; 雄三山口; 文隆村主; 勝之田中; 寛児川上; 宏大東; 哲男益川
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1989-05-29
Filing date: 1989-05-29
Publication date: 1998-06-18
Anticipated expiration: 2013-06-18
Also published as: JPH02312077A; US5128821A

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、磁気デイスク装置等、走行する記録媒体面
上を微小な浮上すきまで浮上する浮動ヘツドスライダに
係り、特に浮上特性の良好で、大量生産に好適な、浮動
スライダに関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気デイスク装置用浮動ヘツドスライダは、例
えば特公昭57−569号公報に記載のように、スライダの
両側部に平面部と気体流入側に軽斜面部を有する一対の
一直線の気体軸受レールを設けたいわゆるテーパフラツ
ト形スライダが使われている。両気体軸受レールの間
は、気体軸受作用を発生しないだけ十分な深さに削つた
ブリード部となつている。実際のブリード部の深さは、
気体軸受レールとの境界で100μｍ以上である。

また、他の例としては、特開昭62−231481号公報に記
載されているものがある。これは、気体軸受レールの気
体流入側のレール幅をそれ以外のレール幅より広くした
ものである。

そして、このようなスライダは、気体軸受レールが一
直線のためブリード部の溝をスライサなどの機械研削加
工を用いて作られたり、また、スライダ本体に浮上面形
状を構成する平板をガラス等の固着剤で固着して作られ
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

最近、装置の高密度化に対応して目標の浮上量の微小
化が要求されてきている。浮上量の微小化に伴い、許容
浮上量変動の減少と浮上量のバラツキを押さえる目的で
スライダの小形化や各寸法交差を小さく押さえる必要が
出てきた。

浮上量の微小化により気体軸受レールの気体軸受作用
は、圧縮性の影響が益々顕著になり、スライダの小形化
による空気膜剛性の悪化や減衰特性の悪化に伴う浮上不
安定挙動の発生の可能性も出てきている。

さらに、浮上量の微小化，スライダの小形化に伴い、
気体軸受レールのレール幅は、狭くする必要があり、そ
の結果、気体軸受レールの流出端への薄膜ヘツドの搭載
が困難となる。

また、気体軸受レールの気体流入側のレール幅をそれ
以外の気体軸受レールより広くした構造では、流出端側
の気体軸受領域が小さいため、この部分での圧力発生が
小さくなり、流出端部でのスライダのピツチング方向は
もちろん上下，ローリング方向の剛性が減少して従来形
テーパフラツトスライダに比べて浮上量変動が増加する
問題が生じる。

また、スライダを機械研削加工により製造した場合に
は、寸法交差をミクロンメータ単位で管理することが難
しく、加工中に欠損なども生じやすい。

また、スライダを、別々に作られたスライダ本体と浮
上面部とを固着して製造する場合には、固着による位置
合せ誤差，浮上面の変形，量産性などの問題がある。

このように、従来のスライダおよびスライダの製造方
法では、浮上安定性や浮上の動的特性に問題があり、ま
た、高精度，量産性に問題があつた。

本発明の目的は、浮上バラツキが少なく、浮上の動的
特性（特にピツチング剛性と、気体軸受の減衰特性）が
良好で、高精度に量産性良く作ることのできる浮動ヘツ
ドスライダを提供することにある。

また、同様の浮上の動的特性を示し、機械加工で加工
可能な浮動ヘツドスライダを提供する。

また、上記スライダを高精度に量産する、もしくは安
価で量産することのできる製造方法を提供することにあ
る。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、回転する記録媒体に対向して配置される
スライダ本体と、該スライダ本体の前記記録媒体との対
向面に形成され該記録媒体の回転に伴う気体流により発
生する圧力によりスライダ本体を浮上させる少なくとも
一対の気体軸受レールと、該気体軸受レール面より窪ん
で形成されたブリード部とを備えた浮動ヘッドスライダ
において、前記気体軸受レールは、気体流の流入側に圧
力を発生する流入側部と、流出側に圧力を発生する流出
側部と、前記流入側部と流出側部を同一面で結合するも
のであって前記流入側部及び流出側部より気体軸受レー
ル表面の幅が狭い結合部との３つの部分で構成され、少
なくとも該気体軸受レールのスライダ本体の長手方向の
側面と接するブリード部は深さが15μｍ以下の浅溝であ
ることを特徴とする浮動ヘッドスライダとすることによ
り達成される。

本発明の他の目的は、ヘッドスライダのブリード部を
浅溝部のスパツタリングなどのエツチング加工と一直線
深溝部のスライサなどの機械研削加工の併用で加工する
ことにより達成される。

また、本発明の他の目的は気体軸受レール形状をスラ
イダ基板の上に耐摺動性膜を印刷技術あるいはスパツタ
リングなどの薄膜製造技術で形成することにより達成さ
れる。

〔作用〕

気体軸受レールを流入側部，流出側部及び結合部の３
つの部分より構成し、結合部分は延べ幅を他の部分に比
べて狭くした形状にする。本構成により気体軸受レール
に流入した気体は、傾斜面部等の圧力上昇手段から平面
部に進むに従い急激に圧縮され、結合部に達し、流入側
部に大きな圧力を発生する。結合部ではレール表面の延
べ幅が狭く構成されているため気体の一部は直線軸受レ
ール外へ流れ出る。また、結合部を進む残りの気体は、
引き続き圧縮されるがレール幅が狭いので容易にレール
幅方向へ流れ出る。これらの結果、気体の圧縮体の悪影
響を防ぎ減衰特性を向上して結合部で適切な圧力を発生
する。次の流出側部では、レール幅が再び広がつている
ため結合部を進んできた気体と結合部で軸受レール外へ
でた気体が流出側部へ進み、圧縮されて大きな圧力を発
生する。ここで、結合部を形成するために設けた軸受レ
ール面より低い部分の深さを浅くすることにより（例え
ば数十μｍ以下）流出側部の段差の絞り効果により減衰
特性を向上することができる。また、1kHz以上の周波数
に対し気体軸受剛性が増加する効果もある。気体軸受レ
ールでの高い圧縮による圧縮性の悪影響で減衰特性が悪
化する現象は、浮上量が微小化するほど顕著になる。

本構成により、浮上量が微小化しても（例えば0.2μ
ｍ以下）気体の圧縮の度合いを小さく抑え、高い減衰特
性を有し、不安定浮上挙動を回避する。また、スライダ
の前後に気体軸受作用による圧力のピークを形成する圧
力分布となり気体軸受のピツチング剛性を増加させるこ
とができる。

また、本気体軸受レールの幅方向の外側を直線とし結
合部をスライダの幅方向外側に設けることにより気体軸
受のローリング剛性を大きくすることができる。

また、本気体軸受レールの幅方向の内側を直線とし結
合部をスライダの幅方向内側に設けることにより結合部
を機械加工で形成することができる。

気体軸受レールの境界を浅い段差で構成することによ
り、スパツタエツチングなどの非機械加工が可能となり
各寸法公差を小さくでき浮上バラツキを小さく抑えるこ
とができる。

さらにブリード部に一直線の深溝ブリード部を設ける
ことにより、前述の浅溝深さをさらに浅くすることがで
き、浅溝部の加工時間の短縮と寸法精度の向上が図れ
る。

また、スパツタリングなどの薄膜製造技術により気体
軸受レールを形成することにより耐摺動性に優れた膜を
精度良く作ることができる。

また、印刷技術により気体軸受レールを形成すること
により耐摺動性に優れた膜を精度良く安価に大量に作る
ことができる。

また、本構造では、気体軸受レールの３つの部分の形
状を選ぶことにより荷重付加位置を変えずにスライダの
浮上姿勢を制御することができるのは言うまでもない。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図及び第２図により説
明する。気体軸受レール３は、平面部31と気体流入側に
設けた圧力上昇部、ここでは傾斜面部32よりなる。気体
軸受レール３は、スライダ本体１の浮上面の両サイド
に、気体の流れ方向に沿つて配置され、気体軸受レール
３の流出端に記録・再生用のヘツド２が取り付けられて
いる。気体軸受レール３は、スライダ本体１の外側境界
を直線で形成し、流入側部A,流出側部Ｂおよび結合部Ｃ
の３つの部分からなる。結合部Ｃには、くい込み部を形
成し、この結合部Ｃのレール幅W₃は、流入側部Ａの幅W₁
および流出側部Ｂの幅W₂に対して、狭く（W₁≒W₂＞W₃）
形成している。一方、前述の一対の気体軸受レール３の
間には、これらと境界を有し、深さD₁のブリード部５が
設けられている。深さD₁の値は、10〜20μｍ程度であ
り、従来の値である80〜200μｍより小さく形成されて
いる。この浅溝のブリード部５と気体軸受レール３の境
界は、３つの部分の一部にレール幅の平行部を持ち、各
部分の境界はなめらかな曲線でつなげている。

本実施例によれば、気体軸受レール３をスライダ本体
１の再両側端に形成しているため気体軸受のロール剛性
を大きくとることができ、シーク時の浮上量変動を小さ
く押さえることができる。さらに本形状では、気体軸受
レール３に流入した気体は、圧力上昇手段である傾斜面
部31から平面部32に進むに従い急激に圧縮され、結合部
Ｃに達し、流入側部Ａに大きな圧力を発生する。結合部
Ｃではレール表面の延べ幅が狭く構成されているため気
体の一部は直接軸受レール３外へ流れ出る。また、結合
部Ｃを進む残りの気体は、引き続き圧縮されるがレール
幅が狭いので容易にレール幅方向へ流れ出る。これらの
結果気体の圧縮性の悪影響を防ぎ減衰特性を向上し結合
部で適切な圧力を発生する。次の流出側部では、レール
幅が再び広がつているため結合部を進んできた気体と結
合部で軸受レール外へでた気体が流出側部へ進み、圧縮
されて大きな圧力を発生する。ここで、結合部を形成す
るために設けた軸受レール面より低いブリード部５の深
さを浅くすることにより（例えば数十μｍ以下）、流出
側部の段差の絞り効果により減衰特性を向上することが
できる。

また流出側部Ｃのブリード部５のせばまりによる、絞
り効果により、減衰特性を向上する効果がある。

次に、本実施例の圧力分布の概要を第３図に示す。図
中、実線は、本実施例の圧力分布であり、破線は、従来
形のテーパフラツト形スライダの圧力分布である。ま
た、横軸に、気体軸受レール３の傾斜面部31の先端箇所
（気体流入端）ａから平面部32の後端箇所（気体流出
端）の任意箇所ｄをとり、縦軸に圧力をとつている。

この図からもわかるように、破線で示す従来形状で
は、浮上量の微小化に伴い、流出端浮上量0.2μｍ程度
以下で気体の粒子性や圧縮性の影響が顕著に現われるた
めに、気体軸受レール３上の圧力分布は、傾斜面部31終
了直後で最大圧力となりその後流出端まで順次に減小す
る圧力分布となる。本圧力分布では、スライダのピツチ
ング方向（前後方向）の空気膜剛性が小さい。一方、実
線で示す本実施例の構造では、スライダ本体１の傾斜面
部31で圧力上昇し（図中ｂ点）、その後、中央部の幅の
せまい部分で、一部の気体が気体軸受レール３から外に
流れ出るため圧力は降下し（図中ｃ点）、流出端側で再
び気体軸受レール３の幅が広がり圧力も上昇する（図中
ｄ点）。その結果、スライダ本体１の気体軸受レール３
の前後に圧力のピークを持つ圧力分布となり、またその
領域の面積も広くとつているため、従来形テーパフラツ
トスライダに比べてスライダのピツチング方向の空気膜
剛性を大きくできる。第４図にピツチング方向の空気膜
剛性と浮上量の関係を示す。この図においては横軸にス
ライダ１の浮上量をとり、縦軸は、ピツチング方向のス
ライダの空気膜剛性をとつている。そして、図中、実線
は本実施例のスライダ、破線は従来形スライダの各々の
特性を示している。破線を示す従来形スライダの台形状
圧力分布は、浮上量が小さくなり圧縮性の影響が顕著な
ほど発生するため、ピツチング方向の空気膜剛性k_Pは浮
上量が小さくなつても微増にとどまる。一方本実施例の
スライダは、第３図に示した圧力分布にできるため、浮
上量が小さくなるほど、従来形スライダに比べピツチン
グ方向空気膜剛性を大きくとることができる。

第５図は、ピツチング剛性の周波数特性を示す。この
図において、横軸は周波数を示し、縦軸はピツチング方
向のスライダの空気膜剛性を示している。そして、図中
実線は本実施例のスライダ、破線は従来形のテーパフラ
ツトスライダ、一点鎖線は従来形のシエープドレールス
ライダの各々の特性を示す。本実施例のスライダは、高
周波領域では、k_Pがさらに大きくなり、デイスク突起な
どへの応答性を高くすることができる。

また、浮上量の微小化に伴いもう一つの問題は気体の
圧縮性の影響に伴う浮上安定性である。第６図に浮上の
安定性の評価結果を示す。第６図は、スライダの潤滑方
程式の摂動解（軸受剛性及び減衰係数）とスライダの運
動方程式より、Routh−Hurwitzの安定判別によつて計算
した値である。横軸は、スライダの圧縮性の程度を表わ
す二次元圧縮係数を示し、縦軸は周波数を示す。縦軸に周波数をとるの
は、軸受剛性，減衰係数が周波数に依存するためであ
る。図中S_Aは浮上の安定領域、I_Aは不安定領域である。
この本発明のスライダは二次元軸受圧縮係数Λ_ｂが10以
下の値（図のP₂で示す）で安定であるが10以上になると
不安定領域I_Aが存在し、圧縮係数Λ_ｂがさらに大きくな
ると、その領域がさらに拡がることがわかる。従来形ス
ライダでは浮上量が0.15μｍ程度以下で圧縮特性Λ_ｂが
約10以上の値（図のP₁の点）となり不安定領域I_Aにな
る。この傾向は小形，大荷重で顕著である。

第７図は空気膜減衰係数の上下，ピツチングの主成分
C₁₁とC₂₂の周波数特性を示す。図において横軸に周波数
をとり、縦軸に空気膜減衰係数をとつている。そして、
図中、実線は本実施例のスライダのC₁₁,C₂₂、破線は、
従来形のテーパスライダのC₁₁,C₂₂、一点鎖線は従来形
のシエープドレールスライダのC₁₁,C₂₂を示している。
従来形のテーパーフラツトスライダ（図中TF）の約３
培、また他の従来形シエープドレールスライダの約２培
の減衰特性を本実施例のスライダが持つていることがわ
かる。

本実施例のスライダでは、減衰特性向上と、結合部Ｃ
を設けることにより等価気体軸受レール幅を小さくし、
又ピボツト位置を変えることなく平均浮上量h_mを大きく
することができるため、軸受圧縮係数Λ_ｂを小さくする
ことができ、実用運転条件で浮上不安定の発生を防止す
ることができる。

また、ブレード部５は、気体の流入方向から、幅が拡
がり、そして狭まる構成になつており、従来形より溝深
さ，溝の傾きに対し鈍感になつている。実用的には、加
工精度に対する浮上バラツキ量を考慮して溝深さD₁は20
μｍ程度と従来形に比べて小さく押さえている。

本構成により、スパツタエツチングなどの非機械加工
で、浮上面形状を加工することができ、高精度加工によ
り浮上バラツキの小さく、ピツチング剛性が高く安定に
浮上するスライダを得ることができる。

また、本構成にすることにより、スライダの形状，押
付荷重による気体軸受レール３のレール幅による薄膜オ
ランスデユーサの搭載の制約がなくなり、性能優先の薄
膜ヘツドの搭載が可能である。

また、本構成では、ロータリーアクチユエータ方式の
装置ではスライダと媒体走行方向との角度（以下ヨー角
と略す。）がつく場合でも、ヨー角に対する浮上量及び
浮上特性の悪化は少なく従来形に比べて良好な特性を得
ることができる。

また気体軸受レール３の３つの構成部分をなめらかな
曲線で結ぶことにより、ブレード部５の気体の流れの乱
れ、よどみを押さえ、塵埃の付着，堆積を防止すること
ができる。

前述の実施例においては、気体軸受レール３とブリー
ド部５との境界は、気体軸受レール３の結合部Ｃがレー
ル幅W₃の平行な直線でありこの結合部Ｃと流入側部A,流
出側部Ｂとそれぞれ滑らかに連なつている曲線となつて
いる。しかし、この気体軸受レール３とブリード部５と
の境界は、上記実施例に限るものではなく、他の構成で
も同様の作用，効果を得ることができる。

即ち、３つの部分流入側部A,流出側部Ｂ及び結合部Ｃ
からなる気体軸受レール３の各部分のレール幅W₁,W₂及
びW₃は、平行な直線で形成し、各部分の境界での幅のゆ
るやかな変化をなくし、急激に変化するよう連結しても
よい。これにより、レール形状の決定の座標点が減り、
製作上寸法精度があがる。レール幅の急変部での気体流
れの乱れによる塵埃付着の点を除き、前述の実施例と同
様の効果がある。

また、気体軸受レール３の結合部Ｃを、ゆるやかに変
化する曲線で形成してもよい。これにより、塵埃付着の
点に更に効果を有する。また、気体軸受レール３の結合
部Ｃを、ゆるやかに変化する直線で構成してもよい。ま
た、３つの部分から成る気体軸受レール３の流入側部A,
流出側部Ｂのレール幅W₁,W₂をおのおの両端に向けて広
げるように構成してもよい。また、気体軸受レール３の
結合部Ｃのレール幅W₃が、流出側端Ｂに向かつて幅が徐
々にせまくなる形状としてもよい。

以上説明した各実施例においては、気体軸受レール３
の流入側部Ａと流出側部Ｂのレール幅W₁,W₂は同じ幅に
構成されているが、これらのレール幅W₁とW₂は異なるよ
うに構成してもよい。

例えば、流入側部Ａのレール幅W₁を流出側部Ｂのレー
ル幅W₂より広く構成した場合には、スライダ本体１の姿
勢角をより大きくとることができ、浮上面の寸法精度に
対するバラツキを低減することができる。また、流出側
部Ｂのレール幅W₂を流入側部Ａのレール幅W₂より広く構
成した場合には、流出側部Ｂにおける軸受剛性の向上
と、薄膜ヘツドの実装が容易となる効果がある。

以上説明した各実施例において、ブリード部５の深さ
D₁（即ち気体軸受レール３の高さ）を、傾斜面４の先端
の深さD₃より小さくしてもよい。このように構成するこ
とにより、デイスク速度の低い領域では、ブリード部５
の溝深さD₁を５〜10μｍにすることも可能であり、加工
時間の短縮と、加工精度の向上が図れる。

また、浮上量がさらに小さくなった場合、ブリード部
５の溝深さD1はより浅い方向へ移動すること言うまでも
ない。

第８図及び第９図は、本発明の他の実施例を示すもの
である。この例においては、スライダ１には、ブリード
部５を分離する一直線状の深溝ブリード部51を設けてい
る。深溝ブリード部51の深さD₂は、40〜60μｍ程度であ
り、気体軸受レール３以外の部分であるため高精度は要
求される研削加工等の機械加工で加工できる。また深溝
ブリード部51を設けることにより、浮上バラツキへの影
響が減少するためブリード部５の溝深さD₁は５〜15μｍ
程度に浅くすることができ、ブリード部５のスパツタエ
ツチングなどの加工時間の短縮と加工量の減小による加
工精度の向上効果がある。

第８図に示す例において、深溝ブリード部51は、ブリ
ード部５の領域に、深さが異にして複数本設けてもよ
い。

また、第８図及び前述した例において、気体軸受レー
ル３の流入側部Ａのレール幅W₁と流出側部Ｂのレール幅
W₂変えてもよい。レール幅W₁をレール幅W₂より大きくす
ると、浮上面の寸法精度に対するバラツキを低減でき、
レール幅W₂をレール幅W₁より大きくすると、流出側部Ｂ
における軸受剛性を向上でき、ヘツドの実装が容易とな
る。

また、第８図及び前述した例において、深溝ブリード
部51の溝深さD₂をブリード部５の溝深さD₁（即ち気体軸
受レール３の高さ）及び傾斜面４の先端高さよりも小さ
くしてもよい。このように構成することにより、気体軸
受レール３の加工時間の短縮と加工精度の向上を図るこ
とができる。

以上説明した各実施例においては、気体軸受レール３
の外側を、気体の流入側から流出側に直線的に形成し、
内側のブリード部との境界側をレール幅が変化するよう
に形成している。

しかし、本発明は、これに限るものではなく、逆の形
状でもよい。即ち、スライダ本体１の気体軸受レール３
の内側を、直線とし、外周側に結合部Ｃの外周側に窪み
を設けレール幅を変えてもよい。本構成では、結合部窪
みはたとえば立軸平面研削でまた、ブリード部５は従来
の横軸平面研削など機械加工で加工することが可能であ
る。

第10図および第11図は、本発明の他の実施例を示す。
この例においては、気体軸受レール３の流入側部A,流出
側部Ｂ及び結合部Ｃは同じレール幅で形成し、このう
ち、結合部Ｃには、ブリード部５から気体軸受レール３
の幅の他端に達しないで再びブリード部５に戻る溝11を
設け、これにより分離レール部12を設ける形で構成した
ものである。分離レール部12は、レール幅がせまく、減
衰特性をさらに高める作用がある。また、分離レール部
12により、結合部Ｃの前後のレール幅変化部への塵埃の
堆積を防止する。

第10図に示す例では、気体軸受レール３の結合部Ｃの
溝11をブリード部５側に設けたが、逆に気体軸受レール
３の結合部の溝11をスライダ本体１の外側に設けても、
前述とほぼ同様の作用効果がある。

以上説明した各実施例においては、気体軸受レール３
がスライダ本体１の両端側に対になつて配設されている
が、レールの本数は２本に限るものではなく、浮上バラ
ンスを考慮し、流れの中心線に対して対象に複数本配設
してもよいし、また、流れの中心線に配設してもよい。

第12図は、本発明におけるスライダの製造方法の一実
施例を示すもので気体軸受レール形状をスパツタリング
などの薄膜製造技術により形成した例である。

気体軸受レール形状穴15を設けたマスク14を用いて、
スパツタリングなどの薄膜製造技術により、スライダ本
体13に気体軸受レール膜16を形成した例である。スライ
ダ本体13の材料にとらわれず、耐摺動性に優れた膜を高
精度に、量産性良く，製造することができる。

第13図は、本発明におけるスライダの製造方法の他の
実施例を示すもので、気体軸受レール形状を印刷技術で
形成した例である。

印刷ローラ17には、気体軸受レール形状に印刷するた
めの転写用凸版19がセツトされている。スライダ本体13
は、テーブル20の上のセツトし、転写膜テープ18を介し
て、印刷ローラ17により加圧印刷し、転写膜テープ18の
一部をスライダ本体13の上に転写し、気体軸受レール膜
16を形成する。本方式により、浮動ヘツドスライダを安
価に大量に量産する製造することができる。

第14図は、本発明に係る浮動ヘツドスライダが装着さ
れたリニア形回転円板記憶装置の平面断面図である。キ
ヤリツジ33にガイドアーム９が結合され、該ガイドアー
ム９にヘツド支持装置８が連結され、ヘツド支持装置８
の先端部に浮動ヘツドスライダ１が装着されている。ス
ライダ１は、ボイスコイルモータ35に駆動されて、回動
する円板記憶媒体７の半径方向に進退する。本実施例に
よりスライダ浮上量変動及び浮上バラツキが小さく安定
に浮上するため、スライダ浮上量を小さくすることが可
能となり、記憶媒体の高密度記憶を実現できた。

第15図は、本発明に係る浮動ヘツドスライダ１が装着
されたインライン形回転円板記憶装置の一部破砕斜視図
で、キヤリツジ33に連接されたヘツド支持装置８の先端
に装着された本発明浮動ヘツドスライダ１を示してい
る。本実施例によつても同様の効果が得られた。

前述した各実施例においては、スライダ浮上面の圧力
分布をスライダの最側部にもしくはスライダの４隅に分
極することができ、高いローリング方向剛性もしくは高
いピツチング剛性を得ることができる。又、減衰特性向
上と実質的に二次元圧縮係数を下げることによつて浮上
不安定を回避して安定に浮上させることができる。本構
成をスパツタリングなどの非機械加工で行なうことによ
り寸法精度を高め、浮上バラツキを低減させることがで
きる。

さらにブリード部を浅溝と深溝の２段にすることによ
り、深溝を機械加工，浅溝をスパツタリングなど非機械
加工の併用が可能となり、浅溝部深さを浅くでき、加工
時間と加工精度が向上できる。

また、結合部窪みをスライダ本体の外側部に設けるこ
とにより、機械加工で気体軸受レールを形成することが
できる。

また、結合部を溝を用いて形成することにより、減衰
特性をさらに向上させることができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、浮上バラツキ
が少なく、浮上の動特性が良好なスライダを得ることが
できる。また、スライダを高精度にしかも安価に量産す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の平面図、第２図は第１図の
II−II線矢視断面図、第３図は浮上面の圧力分布を示す
説明図、第４図は浮上量とピツチング方向空気膜剛性の
関係を示す説明図、第５図はピツチング方向空気膜剛性
k_Pの周波数特性を示す説明図、第６図は浮上の安定判別
結果を示す説明図、第７図は空気膜の減衰係数の周波数
特性を示す説明図、第８図は本発明の他の実施例を示す
平面図、第９図は第８図のIX−IX線矢視断面図、第10図
は本発明の更に他の実施例の平面図、第11図は第10図の
XI−XI線矢視断面図、第12図は本発明のスライダの製造
方法の一例を説明する図、第13図は本発明のスライダの
製造方法の他の例を説明する図、第14図及び第15図は本
発明のスライダを搭載した磁気デイスク装置を示す図で
ある。１……スライダ本体、２……トランスデユーサ、３……
気体軸受レール、５……ブリード部、12……分離レール
部、14……マスク、16……気体軸受レール膜、17……印
刷ローラ、18……転写膜テープ、20……テーブル、31…
…傾斜面部、32……平面部、51……深溝ブリード部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者田中勝之茨城県土浦市神立町502番地株式会社日立製作所機械研究所内 (72)発明者川上寛児神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所小田原工場内 (72)発明者大東宏神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所小田原工場内 (72)発明者益川哲男神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所小田原工場内 (56)参考文献特開平１−116957（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−279515（ＪＰ，Ａ) 特開昭62−231481（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−117465（ＪＰ，Ａ) 特開昭61−120326（ＪＰ，Ａ) 実開昭60−20075（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 21/21 101 G11B 5/60

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】回転する記録媒体に対向して配置されるス
ライダ本体と、該スライダ本体の前記記録媒体との対向
面に形成され該記録媒体の回転に伴う気体流により発生
する圧力によりスライダ本体を浮上させる少なくとも一
対の気体軸受レールと、該気体軸受レール面より窪んで
形成されたブリード部とを備えた浮動ヘッドスライダに
おいて、前記気体軸受レールは、気体流の流入側に圧力を発生す
る流入側部と、流出側に圧力を発生する流出側部と、前
記流入側部と流出側部を同一面で結合するものであって
前記流入側部及び流出側部より気体軸受レール表面の幅
が狭い結合部との３つの部分で構成され、少なくとも該
気体軸受レールのスライダ本体の長手方向の側面と接す
るブリード部は深さが15μｍ以下の浅溝であることを特
徴とする浮動ヘッドスライダ。
【請求項２】回転する記録媒体に対向して配置されるス
ライダ本体と、該スライダ本体の前記記録媒体との対向
面に形成され該記録媒体の回転に伴う気体流により発生
する圧力によりスライダ本体を浮上させる少なくとも一
対の気体軸受レールと、該気体軸受レール面より窪んで
形成されたブリード部とを備えた浮動ヘッドスライダに
おいて、前記気体軸受レールは、気体流の流入側に圧力を発生す
る流入側部と、流出側に圧力を発生する流出側部と、前
記流入側部と流出側部を同一面で結合するものであって
前記流入側部及び流出側部より気体軸受レール表面の幅
が狭い結合部との３つの部分で構成され、少なくとも該
気体軸受レールのスライダ長手方向の側面と接するブリ
ード部は深さが15μｍ以下の浅溝であり、前記気体軸受
レール間のブリード部は、直線状の深溝ブリード部によ
って分離されていることを特徴とする浮動ヘッドスライ
ダ。
【請求項３】前記気体軸受レールは、流入側部のレール
幅と流出側部のレール幅が異なるように構成されること
を特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の
浮動ヘッドスライダ。
【請求項４】磁気ヘッドを搭載するための気体軸受作用
を有する浮動ヘッドスライダの製造方法であって、スライダ本体の気体軸受作用面上に、流入側部と流出側
部とこれらを結合するものであってその幅が前記流入側
部及び流出側部の幅より狭い結合部とからなる気体軸受
レール形状の穴を有するマスクを重ね合わせ、該マスク
の上からスパッタリングにより厚さ15μｍ以下の薄膜を
形成し、次に該マスクを除去することにより、スライダ
本体の気体軸受作用面に少なくとも一対の気体軸受レー
ルを形成することを特徴とする浮動ヘッドスライダの製
造方法。
【請求項５】磁気ヘッドを搭載するための気体軸受作用
を有する浮動ヘッドスライダの製造方法であって、流入側部と流出側部とこれらを結合するものであってそ
の幅が前記流入側部及び流出側部の幅より狭い結合部と
からなる気体軸受レール形状をした転写用凸版が表面上
に形成された印刷体を、転写膜体を介してスライダ本体
に圧接するように配設し、前記印刷体をスライダ本体に
加圧することにより前記転写膜体の一部をスライダ本体
に転写し、これによりスライダ本体の気体軸受面上に少
なくとも一対の厚さ15μｍ以下の気体軸受レールを形成
したことを特徴とする浮動ヘッドスライダの製造方法。
【請求項６】回転する記録媒体に対向して配置されるス
ライダ本体と、該スライダ本体の前記記録媒体との対向
面に形成され該記録媒体の回転に伴う気体流により発生
する圧力によりスライダ本体を浮上させる少なくとも一
対の気体軸受レールと、該気体軸受レール面より窪んで
形成されたブリード部とを備えた浮動ヘッドスライダに
おいて、前記気体軸受レールは、気体流の流入側に圧力を発生す
る流入側部と、流出側に圧力を発生する流出側部と、前
記流入側部と流出側部を同一面で結合するものであって
前記流入側部及び流出側部より気体軸受レール表面の幅
が狭い結合部との３つの部分で構成され、少なくとも該
気体軸受レールのスライダ本体の長手方向の側面と接す
るブリード部はエッチングにより形成された深さが15μ
ｍ以下の浅溝であり、前記気体軸受レール間のブリード
部は、機械研削加工により形成された深溝によって分離
されていることを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
【請求項７】情報が記録されている記録媒体と、この記
録媒体に情報を記録し、また情報の再生を行うためのヘ
ッドを搭載するヘッドスライダと、ヘッドスライダを支
持する支持装置と、この支持装置を介してヘッドスライ
ダを記録媒体の所定の位置に移動させるためのキャリッ
ジを備え、前記ヘッドスライダは、回転する記録媒体に
対向して配置されるスライダ本体と、その気体軸受作用
面に設けられた少なくとも一対の気体軸受レールと、該
気体軸受レール面より窪んで形成されたブリード部とを
備え、該気体軸受レールは、気体流の流入側に圧力を発
生する流入側部と、流出側に圧力を発生する流出側部
と、前記流入側部と流出側部を同一面で結合するもので
あって前記流入側部及び流出側部より気体軸受レール表
面の幅が狭い結合部との３つの部分で構成され、少なく
とも該気体軸受レールのスライダ長手方向の側面と接す
るブリード部は深さが15μｍ以下の浅溝であることを特
徴とする磁気ディスク装置。