JP2874484B2 - 浮動ヘッドスライダ及び回転円板記憶装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置等の
ように、走行する記憶媒体面上を微小な浮上隙間で浮上
する浮動ヘッドスライダ及び回転円板記憶装置に係り、
特に浮上面形状を改良し、リニア、ロータリー等のアク
セス機構によらず任意の半径位置での浮上量を概ね一定
にし、スライダの浮上特性を向上した浮動ヘッドスライ
ダとそのスライダを搭載した回転円板記憶装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来の技術を磁気ディスク装置を例にと
って示す。従来の正圧を利用した磁気ディスク装置用浮
動ヘッドスライダとして、例えば特開平2-101688号公報
に記載のテーパフラット形スライダがある。このスライ
ダは傾斜面と平面部からなるセンターレールと２本のサ
イドレールとからなる。センターレールは流入側幅が狭
く、流出端幅が広くなり、流出端の端面にトランスデュ
ーサが搭載されている。サイドレールは前端における幅
を越えず、流出端まで達しておらず、各レールは幅がほ
ぼ一定のブリード部を介し隔離された構造である。

【０００３】類似の例として特開平4-17176号の開示が
ある。この公知例は３つの浮上面が前後に分離され、流
入側の両側端にテーパフラットレールを配置し、中央流
出端部にのみ平板レールがある構造である。

【０００４】また、従来の負圧利用浮動ヘッドスライダ
として、特開昭60-101781号公報に記載されたものがあ
る。この公知例におけるスライダはそのクロスレール流
出側に負圧発生用の負圧ポケットを設け、スライダの両
サイドに設けたサイドレールの長手方向中央部のレール
幅を流入側、流出側より狭くした構造である。

【０００５】類似の例として米国特許第５０６２０１７
号公報に記載されたものがある。この公知例は、負圧凹
部の両サイドのサイドレールのくびれ位置を流入端から
約１／３にし、くびれの幅をレール幅の約１／２にし、
くびれ及びクロスレールの深さは負圧凹部より浅い第２
の段差で構成する構造である。

【０００６】その他の類似の例として米国特許第４８０
２０４２号公報に記載されたものがある。この公知例
は、スライダの流出端に全幅に渡ってヘッド部さらにク
ロスバーを設けた構造である。負圧凹部は、流出端まで
達しておらずヘッド部又はクロスバーの前に横溝を設け
ている。

【０００７】又、別のその他の類似の例として特開昭６
０−２１１６７１号公報に記載されたものがある。この
公知例はスライダの両サイドに設けた正圧サイドレール
と負圧凹部をグルーブにより分離し、負圧凹部はバッフ
ァパッドにより形成するする構造である。

【０００８】これらスライダを搭載するアクセス機構と
して従来、ディスクの半径方向に直線的に移動して位置
決めするリニア方式と回転軸を中心に揺動して所定の半
径位置に位置決めするロータリー方式がある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスク装置は、
小形化、大容量化の傾向にある。その実現手段の一つと
して記録の面密度を高める方法がある。面密度は線密度
とトラック密度からなり、特に線密度を高めるために、
スライダの浮上量は狭小化する必要があり、ディスク上
のトラックから他のトラックへの移動動作であるシーク
時の加振や、円板うねりによる加振等各種外乱に対し、
浮上量変化を小さく押える必要がある。

【００１０】さらに、再生ヘッドに高密度記録に適した
磁気抵抗素子（以下、ＭＲヘッドと称する）を用いた場
合や、小形ディスク装置で採用され始めた内周と外周の
線記録密度を一定にする一定密度記録においては、ディ
スク上の任意の位置の浮上量を一定にする技術が重要に
なる。実用的には内周の浮上量に対し他の位置の浮上量
が１００％から１２０％の範囲であることが要求され
る。

【００１１】そのためには、スライダの基本浮上特性の
内、ディスクの内周と外周の速度差による浮上量の変化
（以下、浮上の速度特性と称する。）がない、または小
さい特性やディスク回転時のディスク接線方向に対する
スライダ長手方向とのなす角（以下、ヨー角と称す
る。）が付いた時のスライダ浮上量の低下（以下、ヨー
角特性と称する。）がない又は小さい特性が要求され
る。

【００１２】ところが、上述した正圧のみを使う従来技
術、例えば、特開平2-101688号公報に記載のテーパフラ
ット形スライダでは、一般的に正圧力が速度と共に増加
するために、浮上の速度特性が悪く、内周と外周の速度
が２倍になると、浮上量は約１．５から１．６倍とな
り、リニア方式アクセス機構では、ディスクの内外周で
浮上量を一定にすることは不可能である。また、ヨー角
特性も悪く、ヨー角が付いたときのスライダ浮上量の低
下も大きい。

【００１３】従来ロータリー方式では、外周側の浮上の
速度特性による浮上量の増加をヨー角特性による浮上量
の低下で相殺して浮上量を一定にする方法が取られてい
たが、浮上量変動の観点から見ると、シーク動作中には
スライダに流入する気体はディスク速度に対しシーク速
度分だけヨー角が加わる（以下シーク時ヨー角と称
す。）こととなり、大きな浮上量低下を招く。今後、低
浮上量の系においてはディスクとの接触頻度が急増し、
最悪の場合、接触による損傷が発生し問題となる点につ
いて考慮がされていなかった。つまり、浮上量を一定に
保ち且つ、浮上量変動を小さく押える点が考慮されてい
なかった。特開平4-17176号公報についても同様であ
る。

【００１４】一方、浮上の速度特性の改良の手段として
負圧を利用する方法が有る。従来のサイドレール後端に
ヘッドを搭載する負圧利用浮動ヘッドスライダとして、
たとえば特開昭60-101781号公報に記載したものがあ
る。この公知例では、サイドレールが一定幅のテーパフ
ラット形で問題だったヨー角特性の改善を正圧レールの
中央部幅を狭く前後の幅を十分広く取る形状で実現して
いる。

【００１５】しかし、このためサイドレールの実質的レ
ール中心間距離が縮小し、スライダ長手方向回転軸回り
の空気膜剛性（ロール剛性と称す）が、実質的レール中
心間距離の約２乗に比例して減少する。又、くびれ位置
より流出側が平板軸受化することによっても、空気膜反
力自体の低下を招き、ロール剛性が低下する。ロール剛
性の低下はシーク時のシーク加速度によってスライダ重
心と回転中心の違い起因したロール方向の浮上量低下
（以下加速度沈み込みと称す）を増大し、最悪の場合、
ディスクとの接触による損傷が発生し問題となる点につ
いて考慮がされていなかった。この方式の負圧利用スラ
イダではヨー角特性とロール剛性がトレードオフの関係
にあり両立が困難であった。また、ロール剛性の低下
は、スライダの加工、組み立てで発生するスライダ幅方
向の誤差に対して大きな浮上量の変化又は低下をもたら
し、生産の観点から問題で有る。

【００１６】又、負圧利用スライダの他の課題は負圧溝
深さを浅くすることと負圧力調整手段を持つことであ
る。負圧溝は形状的に機械加工できないため、イオンミ
リング等の加工法によって行う必要が有るが、加工レイ
トが約１μｍ毎時（一般的イオンミリングの場合）と遅
いため、加工時間を要する。そのため、加工時間短縮の
ため、負圧溝深さは一段で、深くても１０μｍ前後が望
ましい。しかし、前述の公知例では負圧部の流入側にク
ロスレールが全幅に渡って設けているため、必要な浮上
の速度特性を得るためには負圧溝深さを２０μｍ前後と
深くする必要が有り、加工時間増加及び、加工精度悪化
の点で問題であった。必要以上の負圧力は浮上の速度特
性を満たさないばかりか正圧レールの浮上特性劣化（例
えばテーパ部への塵付着等）により、浮上量低下を加速
し、最悪の場合ディスクとの接触による損傷が発生し問
題となる点が考慮がされていなかった。

【００１７】又、コンタクトスタートストップ時、クロ
スレールがディスク面を粗さ、突起を削理、発塵の原因
になることや、浮上中クロスレール部に進入した塵埃の
排出部がなくクロスレール流入側端部への付着成長やク
ロスレール部への進入による塵埃を介した接触によるデ
ィスク面の損傷の問題点が考慮されていなかった。

【００１８】米国特許第５０６２０１７号もほぼ同様で
ある。但し、サイドレールのくびれ部及びクロスレール
部と負圧部の深さを異なって構成している。これには２
種類のマスクを使って２回加工する必要が有り、マスク
の位置合わせや深さ加工誤差による浮上特性ばらつき、
又製作時間による加工コスト増加等の点で問題となる点
について考慮がされていなかった。クロスレールの深さ
が１〜２μｍと浅く塵埃の問題は同様である。

【００１９】その他の負圧利用スライダとしての米国特
許第４８０２０４２号、特開昭６０−２１１６７１号等
の公知例は、ヨー角特性に対する配慮がされておらず、
浮上量変動の点で問題が有る。ロータリー方式の場合は
浮上量を一定にすることもできず問題であった。

【００２０】本発明の目的は、スライダの浮上の速度特
性と、ヨー角特性が優れ、アクセス機構の方式によらず
ディスク上の任意の位置の浮上量をほぼ一定にし、且つ
浮上量変動を小さく押え安定浮上する低浮上量に適した
浮動ヘッドスライダ及び、本スライダを搭載した回転円
板記憶装置を提供することにある。

【００２１】また、本発明の他の目的は、浮き上がり特
性が良好で耐摺動性に優れ、また、スライダ流入側気体
軸受面への塵埃付着を回避し低浮上量に適した浮動ヘッ
ドスライダ及び、本スライダを搭載した回転円板記憶装
置を提供することにある。

【００２２】また、本発明のさらに他の目的は、負圧力
調節手段により溝加工の容易な加工性に優れた浮動ヘッ
ドスライダを提供することにある。

【００２３】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
向かってレール幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
向かってレール幅が広がり、且つ両サイド後端まで達し
ない構造を持ち、スライダの気体軸受面の流出部の中央
に前記一対の正圧浮上面と略同一面の中央正圧浮上面を
有し、前記中央正圧浮上面は流出部のみで孤立しておら
ず、流入側に達する手段を持ち、前記中央正圧発生面の
後端にトランスデューサを搭載することにより達成され
る。

【００２４】また、回転する記憶媒体に対向して配置し
たスライダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面
と、前記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一
平面内でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレー
ルの後方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれ
た逆ステップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッド
スライダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から
後端に向かってレール幅が一旦狭まるくびれ部を有し、
後端に向かってレール幅が広がり、且つ両サイド後端ま
で達しない構造を持ち、前記中央正圧浮上面がスライダ
の幅方向中央部に前記凹部を２分割する前記クロスレー
ルから気体軸受面の流出部中央に延びる中央正圧浮上面
を有し、前記中央正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央
から流出側で浮上面幅が広がる構造を持つことによって
も達成される。

【００２５】さらに、回転する記憶媒体に対向して配置
したスライダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生
面と、前記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同
一平面内でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレ
ールの後方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲ま
れた逆ステップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッ
ドスライダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方か
ら後端に向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有
し、後端に向かって浮上面幅が広がり、且つ両サイド後
端まで達しない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に
前記逆ステップ状の凹部を２分割する前記クロスレール
から気体軸受面の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を
有し、前記中央正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央か
ら流出側で浮上面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレ
ールに前記凹部から前端に通じる一つ以上の凹部と同一
深さの溝を設け、前記中央正圧発生面の後端にトランス
デューサを搭載したことによっても達成される。

【００２６】さらに、前記一対の正圧浮上面は、外側が
ほぼ直線で前記凹部に接する側が前方から後端に向かっ
て浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に向かっ
て浮上面幅が広がり、且つ両サイド後端まで達しない構
造を持つことによっても達成される。

【００２７】また、前述の一対の正圧浮上面は、前方か
ら後端に向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有
し、後端に向かって浮上面幅が広がり、その後端はスラ
イダサイドから鈍角で流出端中央に向かう線分を有し、
両サイド後端まで達しない構造を持つ事によっても達成
される。

【００２８】また、前記クロスレールに設けた溝は溝幅
がその後流の凹部の最大幅の１／２以下であることによ
っても、又、前記溝幅は凹部流出側の前記一対の正圧発
生面と前記中央正圧発生面間の最小幅より狭く構成して
も達成される。

【００２９】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
向かって浮上面幅が広がり、その後端はスライダサイド
から鈍角で流出端中央に向かう線分を有し、両サイド後
端まで達しない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に
前記凹部を２分割する前記クロスレールから気体軸受面
の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央
正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上
面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレールの前記中央
正圧浮上面に沿って前記凹部から前端に通じる凹部と同
一深さの溝を設け、前記溝の外側のクロスレールから流
出側に延びた半島部を設け、前記中央正圧発生面の後端
にトランスデューサを搭載したことによっても達成され
る。

【００３０】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
向かって浮上面幅が広がり、両サイド後端まで達しない
構造を持ち、スライダの幅方向中央部に前記凹部を２分
割し、気体軸受面の流出部中央に延び、流出側で浮上面
幅が広がる構造の中央正圧浮上面を有し、スライダの荷
重点より流出側では前記中央正圧浮上面の面積が前記両
サイドの正圧発生面の面積の和より小さいことによって
も達成される。

【００３１】回転する記憶媒体に対向して配置した、ト
ランスデューサを搭載したスライダと、該スライダの前
記記憶媒体との対向面に形成され該記憶媒体の回転に伴
う気体流により発生する正の圧力によりスライダを浮上
させる気体軸受面を備えた浮動ヘッドスライダにおいて
前記スライダは前端、後端を有し、前記気体軸受面の
両サイドに一対の正圧発生面を配置し前記正圧発生面
は、スライダ後端まで達しず、その正圧発生面後端はス
ライダサイドから鈍角でスライダ流出端中央に向かう線
分を有し、前記気体軸受面の中央後端に中央正圧発生面
が配置され、前記中央正圧発生面後端にトランスヂュー
サを搭載したことによっても達成される。

【００３２】前記気体軸受レールのくびれ部位置はスラ
イダ長手方向中央より前端側に設けたことによっても達
成される。

【００３３】前記気体軸受レールの後端部の両サイド端
のスライダ後端からの距離は前記気体軸受レールの後端
部のスライダ中央側のスライダ後端からの距離より長い
ことによっても達成される。

【００３４】さらに、上記の浮動ヘッドスライダを回転
円板記憶装置に装着することによっても達成される。

【００３５】

【作用】本発明によれば、スライダの両サイドの一対の
正圧浮上面に長手方向中央から流入側に前方から後端に
向かってレール幅が一旦狭まるくびれ部を設け、後端に
向かってレール幅が広がり且つ両サイド後端まで達しな
い構造により、くびれ部より後方は前方の影響を受けず
ほぼ平板軸受特性をとり、従来のテーパフラット形に比
べて速度の増加により発生する浮上力は小さくなる。一
方、流入側はクロスレールを含み正圧発生が大きく本構
成によると速度の増加により、スライダの浮上姿勢角は
大きくなる。すると、流出端迄達していない浮上面の隙
間は増大し、その分くびれ部後方で発生する浮上力は小
さくなる。その結果、クロスレール後方の逆ステップ状
の凹部に働く負圧力は小さくても、中央正圧浮上面後端
の浮上量は負圧力の発生が小さい低速度で速く浮上し、
その後、速度の増加による負圧力の増加と正圧の浮上力
が釣合うように働き浮上量変化を押える様に作用する。

【００３６】又、スライダの両サイドの一対の正圧浮上
面に長手方向中央から流入側に前方から後端に向かって
レール幅が一旦狭まるくびれ部を設け、後端に向かって
レール幅が広がる構造により、ヨー角が無い場合の正圧
浮上面の有効面積とヨー角が有る場合の正圧浮上面の有
効面積の変化を小さく押える効果が有る。通常、ヨー角
が付いた場合流入側の浮上面の浮上量が低下するが、ス
ライダ中央側へのレール幅の広がりはその浮上面の浮上
力増加に働き、スライダの幅方向の傾きを抑制する作用
が有る。特に、両サイド後端まで達しないで、正圧浮上
面後端をサイドから流出端中央に向けた線分を持つよう
に構成することにより、ヨー角が無い場合よりヨー角が
有る場合の方がくびれ部後方のレール長を長くすること
ができ、ヨー角による浮上量低下を押えるように作用す
る。

【００３７】さらに、一対の正圧浮上面をスライダ流出
端まで達しない構造で、中央正圧浮上面幅をトランスデ
ューサ搭載可能幅にする構造により、スライダ浮上中の
最小浮上量位置を中央正圧浮上面の流出端にでき、ロー
ル方向の浮上量変動に対する抗する力を一対の正圧浮上
面によるロール剛性が担当するためスライダ幅に対する
中央正圧浮上面流出端幅の比だけ変動しにくく作用す
る。特に、両サイドの正圧浮上面後端のサイドの位置を
スライダの姿勢とシーク時のシーク方向加速度とスライ
ダロール剛性とスライダ形状によって決るスライダのロ
ール方向回転しても、中央正圧浮上面流出端の浮上量よ
り下がらないように選び、サイドから中央正圧浮上面流
出端に向けた線分を持つように構成することにより、最
低浮上量の可能性を中央正圧浮上面流出端と決定でき、
且つ、ロール剛性を高める事を可能にする。

【００３８】又、クロスレールに設けた負圧発生用凹部
から前端に通じる溝は、逆ステップ状の凹部への流体の
流入のバイパス機能をはたし、凹部での流体の膨張を調
節する。その結果、発生する負圧を軽減し、調節するこ
とを可能とする。さらに、溝で負圧力を軽減、調整する
ことによって、凹部深さを浅くでき、溝深さを凹部と同
じとすることによって、一回の加工で加工の時間短縮を
可能とする。さらに、クロスレールの正圧領域に対し溝
部は負圧領域となるため流入側から進入する塵埃のう
ち、中央よりを進む塵埃はクロスレール部を回避し溝を
つうかして排出する作用をする。

【００３９】又、溝の隣のクロスレールに設けた流出側
への半島部は、溝からの流体の進入を防ぎ半島部とクロ
スレールで囲まれた凹部での負圧力発生を安定化する作
用が有る。半島部を付けることによって発生負圧力を一
定にすると溝幅を広く出来る作用が有る。

【００４０】荷重点から後方において中央正圧浮上面の
面積を両サイドの正圧浮上面の面積より小さくすること
は主の浮上力を両サイドの正圧浮上面に担当させ、中央
正圧浮上面に発生する正圧力を押えるため前述の浮上の
速度特性をさらに低負圧力で実現する作用が有る。中央
正圧浮上面の正圧力はピッチ剛性確保、円板追従性の確
保する作用をする。

【００４１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に
説明する。

【００４２】図１は、本発明のスライダの第１の実施例
を示す斜視図である。この図１において、回転する記憶
媒体に対向して配置するスライダ１２の気体軸受面１３
は両サイドに一対の正圧発生面（以下サイドレールと称
す。）１７を配置している。サイドレール１７は流入側
の傾斜面１４と平面部１５からなり、流入端から流出端
に向かってレール幅が一旦狭まるくびれ部２１を持つ。
くびれ部２１は、スライダ１２の長手方向中央より流入
側に設けている。本実施例ではレールの両側の幅を変化
させている。その角度は磁気ディスク装置に搭載した場
合のヨー角と最内周でのシーク時ヨー角の和と同程度で
あり、内側の角度を大きくしている。くびれ部２１の流
出側の幅方向に広がりを持った後部軸受面２４はサイド
レール後端２２で終っておりスライダの流出端まで達し
ない構造である。

【００４３】サイドレール１７の間の流入側にクロスレ
ール１８を設け、クロスレール１８とサイドレール１７
で囲まれた逆ステップ状凹部（以下負圧ポケット部と称
す。）１９を形成する。クロスレール１８の流入側にも
傾斜面１４を形成している。スライダ幅方向中央には負
圧ポケット部１９を２分し流入端から流出端に達する中
央正圧発生面（以下センターレールと称す。）２０を設
けている。センタレール２０に沿って負圧ポケット部１
９から流入端に達する負圧ポケット部１９と同じ深さの
溝１６をクロスレール１８に設けている。

【００４４】センターレール２０の幅は流入側は狭く
（例えば約１００μｍ）ほぼ平行としスライダの中央か
ら流出端側の広がり部２６から三角形状に広がり流出端
に達する構造としている。センターレール２０の流出端
後端にトランスデューサ１１が搭載されている。負圧ポ
ケット１９、溝１６はイオンミリング等で加工されその
深さは約１０μｍ以下と浅く形成している。又、傾斜面
１４は深さ加工後行った例である。

【００４５】次に、上述した本発明の第１の実施例の動
作を図２、図３を用いて説明する。

【００４６】図２は本発明の第１の実施例の圧力分布の
斜視図である。図３は本発明の第１の実施例の圧力分布
の側面図である。記録媒体の回転に伴う空気流は、スラ
イダの流入側に設けた傾斜面１４で圧縮され、圧力上昇
し、両側の空気流はサイドレール１７を進み、スライダ
幅方向中央部を除く空気流はクロスレール１８を経て逆
ステップ状に広がった負圧ポケット部１９で膨張し雰囲
気圧力より低い圧力即ち負圧になり、流出端へ進む。流
入側溝１６から流入した空気流は圧力上昇せずに直接負
圧ポケット部１９へ進み、負圧ポケット部１９で発生す
る負圧を減らす様に働く。センタレール２０は、レール
幅の狭い流入側では両側の負圧ポケット部１９の負圧の
影響で負圧となり、広がり部２６を持つ流出側でのみ正
圧を発生する。サイドレール１７を進む空気流はくびれ
部１７によるレール幅の減少によるサイドフローと負圧
ポケットへの流れ込みにより、急激な圧力降下をおこ
し、その後後部軸受面２４で再び圧力は上昇し、サイド
レール後端２２で一旦弱い負圧になり雰囲気圧力に戻
る。

【００４７】本実施例によれば、スライダの両サイドの
一対のサイドレール１７は装置ヨー角に対応した流入端
からくびれ部２１まで先狭まり部とくびれ部２１からサ
イドレール後端２２までの先広がりの後部軸受面２４の
構成により、ヨー角の有無によるくびれ部２１を通る平
行線で囲まれたサイドレール１７の面積の変化を小さく
し、ヨー角特性を向上している。さらに、スライダの内
側のレール幅変化の角度を大きくし、ヨー角がついて気
体が流入する側のサイドレール１７の後部軸受面２２の
正圧の発生を大きくし、ヨー角が有る場合、スライダの
幅方向に圧力中心が移動し、スライダ長手方向中心軸回
りのモーメントが発生しスライダが傾くのを防止してい
る。

【００４８】図８は本発明のスライダのヨー角特性を説
明する説明図である。本発明のスライダは従来のテーパ
フラット形、従来の負圧形より浮上量低下を小さく押え
ることができる。

【００４９】ヨー角特性の向上のためのサイドレール１
７の形状と負圧ポケット部１９に働く負圧はくびれ部２
１の後流への流入側の軸受作用の影響を減少させる。後
部軸受面２４はほぼ独立した平板軸受の特性をとる。く
びれ部２１を、スライダ１２の長手方向中央より流入側
に設けることにより、後部軸受面２４の面積の増加を、
又位置の調節によりスライダ１２の浮上姿勢を調節する
ことができる。その結果、従来のテーパフラット形に比
べて速度の増加により発生する浮上力は小さくなる。一
方、クロスレール１８の流入側にも傾斜面１４を設け、
流入部の正圧発生を大きくする構造は速度の増加と共
に、スライダの浮上姿勢角を大きくする。すると、主の
正圧力を担当しているレールサイド１７のサイドレール
後端２２の浮上量は増大し、その分くびれ部後方で発生
する浮上力は小さくなる。

【００５０】図７は本発明スライダの速度特性を説明す
る説明図である。従来のテーパフラット形に対し、本発
明のスライダは負圧ポケット部１９の負圧力の小さな領
域でセンターレール２０の流出端の浮上速度特性の改善
と調節が可能となる。

【００５１】小さな負圧力の利用は押付荷重に対する負
圧力の割合を小さくし、実用化の問題であった負圧ポケ
ット部１９の深さ等、負圧ポケット部１９の寸法のばら
つきに起因した負圧力変化を小さく押え、浮上量、浮上
特性のばらつきを押える効果が有る。また、浮上中の負
圧力による集塵作用を押る効果もある。浮上中の傾斜面
１４への塵埃付着による正圧軸受特性劣化時のディスク
面への損傷を押える効果もある。またコンタクトスター
トストップ方式において非動作時の衝撃によるスライダ
が、媒体を叩くことを防ぐことができる。その結果、従
来の正圧スライダと同様コンタクトスタートストップ方
式で負圧利用スライダを利用することを可能とする。

【００５２】クロスレール１８に設けた負圧ポケット部
１９から前端に通じる溝１６は、負圧ポケット部１９へ
流入する流体のバイパス機能を果たし、負圧ポケット部
１９での流体の膨張を調節する。その結果、発生する負
圧を軽減し、調節することを可能とする。

【００５３】図４は本発明の第１の実施例を構成する負
圧ポケット部１９の深さと負圧力の関係を示す説明図で
ある。この図において、浮上の速度特性が向上する深さ
４μｍ以上では負圧ポケット部１９の深さの増加に従い
負圧力が減少する。例えば負圧力を２ｇｆに軽減するの
に溝無しの場合２０μｍ深さを必要とするが、溝１６を
設ける場合（この検討例では溝幅２００μｍ）１０μｍ
と半分の深さで実現できる。

【００５４】又、図５は本発明の第１の実施例を構成す
るスライダの溝幅と負圧力の関係を示す説明図である。
この図において、深さ一定の場合である。溝１６の溝幅
を適当に選ぶことによって負圧力の調節が可能である。
（例えば溝幅を１００μｍ設けることによって負圧力を
半分にすることができる。）溝１６を負圧ポケット部１
９と同じ深さにすれば、一回で加工できる。

【００５５】図６は本発明の第１の実施例を構成するス
ライダの溝幅、負圧ポケット部深さと浮上速度特性を説
明した説明図である。この図において、縦軸は内外周の
ディスク速度に対する浮上量の比である。従来の溝無し
の場合、負圧ポケット部１９の深さが２０μｍより浅い
と、浮上量比が１００％以下となり、最悪の場合外周側
で浮上しなくなるのに対し、溝１６ありでは深さ６μｍ
以上で任意の特性を選ぶことができる。その結果、負圧
力を小さくし、スライダを安定に浮上させ、加工時間の
短縮によるコスト低減の効果と、深さ精度の向上による
特性の安定化の効果が有る。さらに、クロスレール１８
の正圧領域に対し溝１６は負圧領域となるため、流入側
から進入する塵埃のうち、中央よりを進む塵埃はクロス
レール１８を回避し溝１６を通過して排出する塵埃排出
効果が有る。

【００５６】図９は本発明の第１の実施例のロール方向
浮上変動を示すスライダ後方から見た説明図である。こ
の図において、シーク動作時、アクセス機構が矢印３０
で示す半径方向に加速度αで移動すると、スライダ１２
の質量の中心Ｇには慣性力Ｆ＝ｍαが図示の方向に作用
する。この慣性力によって生ずるスライダ１２のロール
方向の回転による浮上量変動Δｈは、スライダの質量の
中心Ｇからスライダ１２を支持する支持体の回転中心Ｐ
までの距離をＬｇ、流出端浮上量ｈ２で浮上中の空気軸
受のロール方向復元バネ剛性をＫｒとすると、近似的に
（１）式で表される。

【００５７】 Δｈ＝ｍαＬｇＬｙ／Ｋｒ …（１） Ｌｙはスライダの幅方向中心からの距離である。

【００５８】スライダの端（距離Ｌｓ）での浮上量変動
とセンターレール２０の端（距離Ｌｃ）の浮上量変動の
比は Δｈｓ／Δｈｃ＝Ｌｓ／Ｌｃ …（２） となり、サイドレールが流出端まである場合はスライダ
の端が浮上量変動が最大で最小浮上量となり、センター
レール２０の端は距離の比だけ浮上量変動は小さい。

【００５９】図１０は本発明のスライダの第１の実施例
の浮上姿勢との関係を示す。この図において、スライダ
１２は気体軸受のくさび効果で浮上するので、流入側が
角度θａだけ持ち上がって浮上している。この浮上量変
動状態でセンターレール２０の端の浮上量（ｈ２−Δｈ
ｃ）と同一の面はａｂ面またそれ以下の浮上量の領域は
ａ、ｂ、ｄである。

【００６０】図１１は図１０に示す領域をスライダ気体
軸受面で示したもので、この図において、三角形Ａ、
Ｂ、Ｄの領域がセンターレール２０の端の浮上量（ｈ２
−Δｈｃ）以下になる領域であり、サイドレール１７の
後端２２をスライダ１２の流出端（Ａ）から（Ｂ）以上
に流入方向に移動し、三角形ＡＢＤを除く領域に配置す
ることによってシーク動作時も常にセンターレール２０
の端が最小浮上量にできる。

【００６１】（Ｂ）点の条件はスライダ流出端から
（Ｂ）までの距離をｘとすると ｘ≧（Δｈｓ−Δｈｃ）／ｔａｎθａ ≧（１−Ｌｃ／Ｌｓ）Δｈｓ／ｔａｎθａ …（３） であり、角度と距離の比により変わる。

【００６２】次に、浮上量変動の大きさを示す空気軸受
のロール方向復元バネ剛性Ｋｒはほぼ浮上量に逆比例す
る。（Ｂ）の浮上量は ｈｘ＝ｈ２＋ｘ・ｔａｎθａ …（４） となり、空気軸受のロール方向復元バネ剛性をＫｒは Ｋｒ∞ｈ２／ｈｘ＝１／｛１＋（１−Ｌｃ／Ｌｓ）Δｈｓ／ｈ２｝ …（５） となり、剛性は各レールの距離の比の項（１−Ｌｃ／Ｌ
ｓ）とスライダの端の浮上量変動と流出端浮上量の比Δ
ｈｓ／ｈ２だけ減少するに留まる。例えばＬｃ／Ｌｓ＝
１／３とし、Δｈｓを流出端浮上量の２０％を考えると
剛性ｋｒは１５／１７に減少するだけで、センターヘッ
ド２０端の浮上量変動はΔｈｃ＝１７／４５Δｈｓに低
減できる。サイドレール後端２２を図１１の線分ＡＢに
沿って配置する斜め線分部２５設けると剛性の減少はさ
らに小さくできる。

【００６３】図１２は本発明のスライダの第１の実施例
における加速度沈み込み特性を説明する説明図である。
この図から分かるように、本実施例は、従来のスライダ
に比べて浮上量を格段に向上させることができる。

【００６４】荷重点から後方において、センターレール
２０の面積を両サイドのサイドレール１７の面積の和よ
り小さくすることは主の浮上力をサイドレール１７に担
当させ事になりロール剛性自体を大きくすることができ
る。又、センターレール２０に発生する正圧力を押える
ため前述の速度特性をさらに低負圧力で実現する作用が
有る。センターレール２０の正圧力はピッチ剛性確保、
円板追従性の確保する作用をする。

【００６５】図１３は本発明の第２の実施例を示す斜視
図である。この実施例はサイドレール１７の外側を直線
で構成した例である。くびれ部２１の前後のレール幅変
化の角度は両側の変化の角度の和と同程度である。サイ
ドレール１７の外側を直線で構成した事によって、実質
的レール中心間距離を大きくできロール剛性を向上でき
る。又、気体軸受面の形状を単純化し、加工時の寸法誤
差による浮上量のばらつきを押える効果がある。

【００６６】図１４は本発明の第２の実施例のヨー角特
性を説明する平面図である。この実施例は特にサイドレ
ール１７のサイドレール後端２２後端をサイドから流出
端中央に向けた斜め線分部２５を持つように構成したも
のである。このように構成したことにより、ヨー角が無
い場合のくびれ部２１からサイドレール後端２２までの
長さＬｏに対し、ヨー角が有る場合のくびれ部２１から
サイドレール後端２２までの長さＬθｙを長くすること
ができる。これにより、発生正圧力を大きくできるの
で、ヨー角による浮上量低下をさらに押える効果があ
る。

【００６７】図１５は図１４に示す本発明の第２の実施
例の溝幅と他の寸法の関係を示す説明図である。この図
において、先の実施例を含めて、溝１６の幅ｅをサイド
レール後端２２の内側とセンターレール２０の最小距離
ｆより小さく設けている。又、溝１６の幅ｅを負圧ポケ
ット部１９の最大幅ｇの半分以下に設けている。この構
成により、負圧ポケット部１９に負圧を安定に発生する
事ができる。

【００６８】さらに、一対の正圧浮上面をスライダ流出
端まで達しない構造で、中央正圧浮上面幅をトランスデ
ューサ搭載可能幅にする構造により、スライダ浮上中の
最小浮上量位置を中央正圧浮上面の流出端にでき、ロー
ル方向の浮上量変動に対する抗する力を一対の正圧浮上
面によるロール剛性が担当するためスライダ幅に対する
中央正圧浮上面流出端幅の比だけ変動しにくく作用す
る。特に、両サイドの正圧浮上面後端のサイドの位置を
スライダの姿勢とシーク時のシーク方向加速度とスライ
ダロール剛性とスライダ形状によって決るスライダのロ
ール方向回転しても、中央正圧浮上面流出端の浮上量よ
り下がらないように選び、サイドから中央正圧浮上面流
出端に向けた線分を持つように構成することにより、最
低浮上量の可能性を中央正圧浮上面流出端と決定でき、
且つ、ロール剛性を高める事を可能にする。サイドレ−
ル１７は流入側の傾斜面１４と平面部１５からなり、流
入端から流出端に向かってレール幅が一旦狭まるくびれ
部２１を持つ。本実施例ではレールの両側の幅を変化さ
せている。

【００６９】図１６は本発明の第３の実施例を示す斜視
図である。この実施例において、溝１６は負圧ポケット
部１９とほぼ同じ深さの面と傾斜面１４とほぼ同じ傾斜
面とから構成され、溝１６の外側にクロスレール１８か
ら流出側へ突き出た半島部２３を設けた例である。溝１
６の形状は塵埃排出効果を高める効果がある。傾斜面１
４の加工を気体軸受面の深さ加工の先に行うため、逆の
加工順序により生ずる傾斜面１４形状誤差を低減でき、
加工時間を短縮できる効果が有る。また溝１６の隣の半
島部２３は溝１６からの流体の進入を防ぎ半島部２３と
クロスレール１８で囲まれた負圧ポケット部１９での負
圧力発生を安定化する作用が有る。半島部２３を付ける
ことによって、発生負圧力を一定にすると溝１６の溝幅
を広くできる効果がある。

【００７０】図１７は本発明の第４の実施例を示す平面
図である。この実施例は溝１６をクロスレール１８の中
間に付けた例である。本構成でも同様の効果がある。ま
た、サイドレール後端２２に切り欠き部２７を設けた例
でもある。この切り欠き部２７を設けることによって、
サイドレール後端２２の流出側に発生する負圧力を増加
させる。その結果、速度特性を向上させる効果がある。

【００７１】図１８は本発明の第５の実施例を示す平面
図である。この実施例は溝１６と溝幅を非平行に構成し
た例である。本構成でも同様の効果がある。サイドレー
ル１７の傾斜面１４の幅を短くできるので、塵埃排出効
果を高める効果がある。

【００７２】図１９は本発明の第６の実施例を示す平面
図である。この実施例は溝１６が傾斜面１４の途中まで
で終っている例である。加工深さは一定で溝１６の入口
側の気体流入断面積を調整できるので溝幅を広く調節で
きる効果が有る。又、半島部２３は幅が変化していても
よい。

【００７３】図２０は図１９のＩ−Ｉ矢視断面図であ
る。負圧ポケット部１９の深さ加工の段差面の角度θｅ
を３０度から６０度にした例である。他の実施例も含め
角度θｅを小さくすると、負圧ポケット部１９の深さの
ばらつきによる負圧力の変化と正圧レールの正圧力の変
化が相殺されて浮上量変化を小さくする効果が有る。

【００７４】図２１は本発明の第７の実施例を示す斜視
図である。この実施例はクロスレール１８に溝を設けな
い場合である。負圧ポケット部１９の深さを深くする必
要が有るがそれ以外は同様の効果がある。

【００７５】図２２は本発明の第８の実施例を示す平面
図である。図２３は図２２の側面図である。この実施例
は気体軸受面１３のサイドレール１７とセンターレール
２０を平面とした例である。流入側にチャンファ２８を
設けている。傾斜面１４を加工精度向上、時間短縮の効
果が有る。その他は同様の効果が有る。

【００７６】図２４は本発明の第９の実施例を示す平面
図である。図２５は図２４の側面図である。この実施例
は溝１６をクロスレール１８の中央に１つ設け、センタ
ーレール２０をクロスレール１８の手前までとした例で
ある。溝１６の溝幅を広げ、溝幅のばらつきに対する浮
上量の変化を減らすことができる他は同様の効果が有
る。

【００７７】図２６は本発明の第１０の実施例を示す平
面図である。図２７は図２６のII−II矢視断面図であ
る。この実施例は溝１６をサイドレール１７の側に設け
たこと及び、サイドレール後端２２に斜め線分部を持た
ない例である。性能は少し落ちるが同様の効果が有る。

【００７８】図２８は本発明のスライダを搭載したリニ
ア形磁気ディスク装置を示す図である。この図におい
て、キャリッジ４４にガイドアーム４３が結合され、該
ガイドアーム４４にトランスデューサ支持装置４２が連
結され、該トランスデューサ支持装置４２の先端部にト
ランスデューサ１１を搭載したスライダ１２が装着され
ている。スライダ１２はボイスコイルモータ４５で駆動
され回転する記録媒体４１の半径方向に進退する。本実
施例により内外周間の任意の位置の浮上量を概ね一定に
することができ浮上量変動が小さく安定に浮上するため
スライダの浮上量の微小化が可能となり記録媒体の高密
度記憶を実現できた。

【００７９】図２９は本発明のスライダを搭載したロー
タリー（インライン）形の磁気ディスク装置を一部断面
にて示す斜視図である。このキャリッジ４４に結合され
たトランスデューサ支持装置４２の先端部にトランスデ
ューサ１１を搭載したスライダ１２が装着されている。
本実施例によっても同様の効果が得られた。

【００８０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によればス
ライダの浮上の速度特性を概ね一定にし、ヨー角特性が
優れ、アクセス機構の方式によらずディスク上の任意の
位置の浮上量をほぼ一定にすることができる。

【００８１】さらに、シーク時の加速度による浮上量変
動を小さい押え安定浮上するスライダを得ることができ
る。また、浮き上がり特性が良好で耐摺動性に優れ、ま
た、スライダ流入側気体軸受面への塵埃付着を回避する
ことができる。

【００８２】また、負圧力調節手段により溝加工の容易
な加工性に優れた効果が有る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスライダの第１の実施例を示す斜視図
である。

【図２】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例の
圧力分布状態を示す斜視図である。

【図３】図２に示す圧力分布の側面図である。

【図４】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例を
構成する負圧ポケット部の深さと負圧力の関係を示す特
性図である。

【図５】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例を
構成する溝幅と負圧力の関係を示す特性図である。

【図６】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例を
構成する溝幅、負圧ポケット部深さと浮上速度特性を示
す特性図である。

【図７】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例の
速度特性を説明する特性図である。

【図８】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例の
ヨー角特性を説明する特性図である。

【図９】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例の
ロール方向浮上変動を示すスライダ後方から見た説明図
である。

【図１０】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例
のスライダ浮上姿勢との関係を示す側面図である。

【図１１】図１０に示すスライダ気体軸受面の領域を示
す平面図である。

【図１２】図１に示す本発明のスライダの第１の実施例
の加速度沈み込み特性を説明する特性図である。

【図１３】本発明のスライダの第２の実施例を示す斜視
図である。

【図１４】本発明のスライダの第２の実施例のヨー角特
性を説明する平面図である。

【図１５】図１４に示す本発明のスライダの第２の実施
例の溝幅と他の寸法の関係を示す平面図である。

【図１６】本発明のスライダの第３の実施例を示す斜視
図である。

【図１７】本発明のスライダの第４の実施例を示す平面
図である。

【図１８】本発明のスライダの第５の実施例を示す平面
図である。

【図１９】本発明のスライダの第６の実施例を示す平面
図である。

【図２０】図１９に示す本発明のスライダの第６の実施
例Ｉ−Ｉ矢視断面図である。

【図２１】本発明のスライダの第７の実施例を示す斜視
図である。

【図２２】本発明のスライダの第８の実施例を示す平面
図である。

【図２３】図２２に示す本発明のスライダの第８の実施
例の側面図である。

【図２４】本発明のスライダの第９の実施例を示す平面
図である。

【図２５】図２４に示す本発明のスライダの第９の実施
例の側面図である。

【図２６】本発明のスライダの第１０の実施例を示す平
面図である。

【図２７】図２６に示す本発明のスライダの第１０の実
施例のII−II矢視断面図である。

【図２８】本発明のスライダを搭載した磁気ディスク装
置の一例を示す縦断面図である。

【図２９】本発明のスライダを搭載した磁気ディスク装
置の他の例を一部断面にて示す斜視図である。

【符号の説明】

１…磁気ヘッド、２…スライダ、３…気体軸受面、４…
傾斜面、５…平面部、６…ブリード部、７…サイドレー
ル、８…クロスレール、９…負圧ポケット、１０…セン
ターレール、１１…トランスデューサ、１２…スライ
ダ、１３…気体軸受面、１４…傾斜面、１５…平面部、
１６…溝、１７…サイドレール（正圧発生面）、１８…
クロスレール、１９…負圧発生凹部、２０…センターレ
ール（中央正圧発生面）、２１…くびれ部、２２…サイ
ド正圧発生面後端、２３…半島部、２４…後部軸受面、
２５…斜め線分部、２６…センターレール広がり部、２
７…切り欠き部、２８…チャンファ、４１…記録媒体、
４２…トランスデューサ支持装置、４３…ガイドアー
ム、４４…キャリッジ、４５…ボイスコイルモータ。

フロントページの続き (72)発明者 上利 宏司 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式 会社 日立製作所 ストレージシステム 事業部内 (72)発明者 清水 丈正 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式 会社 日立製作所 ストレージシステム 事業部内 (72)発明者 戸川 衛星 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式 会社 日立製作所 ストレージシステム 事業部内 (72)発明者 小島 康生 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式 会社 日立製作所 ストレージシステム 事業部内 (56)参考文献 特開 平２−101688（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−17176（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−101781（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−211671（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G11B 21/21 101 G11B 5/60

Claims (14)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が、両サイドの一対の正圧発生面と、
   前記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面
   内でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの
   後方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆
   ステップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスラ
   イダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端
   に向かってレール幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端
   に向かってレール幅が広がり、且つ両サイド後端まで達
   しない構造を持ち、スライダの気体軸受面の流出部の中
   央に前記一対の正圧浮上面と略同一面の中央正圧浮上面
   を有し、前記中央正圧発生面の後端にトランスデューサ
   を搭載したことを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
2. 【請求項２】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、且つ両サイド後端まで達し
   ない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に前記凹部を
   ２分割する前記クロスレールから気体軸受面の流出部中
   央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央正圧浮上面
   は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上面幅が広が
   る構造を持ち前記中央正圧発生面の後端にトランスデュ
   ーサを搭載したことを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
3. 【請求項３】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、且つ両サイド後端まで達し
   ない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に前記逆ステ
   ップ状の凹部を２分割する前記クロスレールから気体軸
   受面の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記
   中央正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央から流出側で
   浮上面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレールに前記
   凹部から前端に通じる一つ以上の凹部と同一深さの溝を
   設け、前記中央正圧発生面の後端にトランスデューサを
   搭載したことを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
4. 【請求項４】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、外側がほぼ直線
   で前記凹部に接する側が前方から後端に向かって浮上面
   幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に向かって浮上面
   幅が広がり、且つ両サイド後端まで達しない構造を持
   ち、スライダの幅方向中央部に前記逆ステップ状の凹部
   を２分割する前記クロスレールから気体軸受面の流出部
   中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央正圧浮上
   面は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上面幅が広
   がる構造を持ち、前記クロスレールに前記凹部から前端
   に通じる一つ以上の凹部と同一深さの溝を設け、前記中
   央正圧発生面の後端にトランスデューサを搭載したこと
   を特徴とする浮動ヘッドスライダ。
5. 【請求項５】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、その後端はスライダサイド
   から鈍角で流出端中央に向かう線分を有し、両サイド後
   端まで達しない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に
   前記凹部を２分割する前記クロスレールから気体軸受面
   の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央
   正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上
   面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレールに前記凹部
   から前端に通じる一つ以上の凹部と同一深さの溝を設
   け、前記中央正圧発生面の後端にトランスデューサを搭
   載したことを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
6. 【請求項６】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、その後端はスライダサイド
   から鈍角で流出端中央に向かう線分を有し、両サイド後
   端まで達しない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に
   前記凹部を２分割する前記クロスレールから気体軸受面
   の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央
   正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上
   面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレールに前記凹部
   から前端に通じる一つ以上の凹部と同一深さの溝を設
   け、前記溝幅がその後流の凹部最大幅の１／２以下であ
   り、前記中央正圧発生面の後端にトランスデューサを搭
   載したことを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
7. 【請求項７】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、その後端はスライダサイド
   から鈍角で流出端中央に向かう線分を有し、両サイド後
   端まで達しない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に
   前記凹部を２分割する前記クロスレールから気体軸受面
   の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央
   正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上
   面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレールに前記凹部
   から前端に通じる一つ以上の凹部と同一深さの溝を設
   け、前記溝幅は凹部流出側の前記一対の正圧発生面と前
   記中央正圧発生面間の最小幅より狭く構成し、前記中央
   正圧発生面の後端にトランスデューサを搭載したことを
   特徴とする浮動ヘッドスライダ。
8. 【請求項８】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、その後端はスライダサイド
   から鈍角で流出端中央に向かう線分を有し、両サイド後
   端まで達しない構造を持ち、スライダの幅方向中央部に
   前記凹部を２分割する前記クロスレールから気体軸受面
   の流出部中央に延びる中央正圧浮上面を有し、前記中央
   正圧浮上面は、スライダ長さ方向中央から流出側で浮上
   面幅が広がる構造を持ち、前記クロスレールの前記中央
   正圧浮上面に沿って前記凹部から前端に通じる凹部と同
   一深さの溝を設け、前記溝の外側のクロスレールから流
   出側に延びた半島部を設け、前記中央正圧発生面の後端
   にトランスデューサを搭載したことを特徴とする浮動ヘ
   ッドスライダ。
9. 【請求項９】回転する記憶媒体に対向して配置したスラ
   イダの気体軸受面が両サイドの一対の正圧発生面と、前
   記正圧発生面の流入側で前記正圧発生面間を同一平面内
   でつなぐクロスレールとを有し、前記クロスレールの後
   方に前記正圧発生面と前記クロスレールで囲まれた逆ス
   テップ状の凹部を有する負圧利用形の浮動ヘッドスライ
   ダにおいて、前記一対の正圧浮上面は、前方から後端に
   向かって浮上面幅が一旦狭まるくびれ部を有し、後端に
   向かって浮上面幅が広がり、両サイド後端まで達しない
   構造を持ち、スライダの幅方向中央部に前記凹部を２分
   割し、気体軸受面の流出部中央に延び、流出側で浮上面
   幅が広がる構造の中央正圧浮上面を有し、スライダの荷
   重点より流出側では前記中央正圧浮上面の面積が前記両
   サイドの正圧発生面の面積の和より小さいことを特徴と
   する浮動ヘッドスライダ。
10. 【請求項１０】回転する記憶媒体に対向して配置した、
    トランスデューサを搭載したスライダと、該スライダの
    前記記憶媒体との対向面に形成され該記憶媒体の回転に
    伴う気体流により発生する正の圧力によりスライダを浮
    上させる気体軸受面を備えた浮動ヘッドスライダにおい
    て、前記スライダは前端、後端を有し、前記気体軸受面
    の両サイドに一対の正圧発生面を配置し前記正圧発生面
    は、スライダ後端まで達しず、その正圧発生面後端はス
    ライダサイドから鈍角でスライダ流出端中央に向かう線
    分を有し、前記気体軸受面の中央後端に中央正圧発生面
    が配置され、前記中央正圧発生面後端にトランスヂュー
    サを搭載したことを特徴とする浮動ヘッドスライダ。
11. 【請求項１１】前記気体軸受レールのくびれ部位置はス
    ライダ前端、後端の中央より前端側に設けたことを特徴
    とする請求項１乃至請求項１０に記載の浮動ヘッドスラ
    イダ。
12. 【請求項１２】前記気体軸受レールの後端部の両サイド
    端のスライダ後端からの距離は前記気体軸受レールの後
    端部のスライダ中央側のスライダ後端からの距離より長
    いことを特徴とする請求項１乃至請求項１１に記載の浮
    動ヘッドスライダ。
13. 【請求項１３】前記気体軸受面の正圧発生面の全面が平
    面であることを特徴とする請求項１乃至請求項１２に記
    載の浮動ヘッドスライダ。
14. 【請求項１４】請求項１乃至請求項１３に記載の浮動ヘ
    ッドスライダが装着されていることを特徴とする回転円
    板記憶装置。