JP2760435B2 - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JP2760435B2
JP2760435B2 JP7530589A JP7530589A JP2760435B2 JP 2760435 B2 JP2760435 B2 JP 2760435B2 JP 7530589 A JP7530589 A JP 7530589A JP 7530589 A JP7530589 A JP 7530589A JP 2760435 B2 JP2760435 B2 JP 2760435B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
semiconductor device
wiring
output
bypass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP7530589A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02251958A (ja
Inventor
匡隆 尾坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP7530589A priority Critical patent/JP2760435B2/ja
Publication of JPH02251958A publication Critical patent/JPH02251958A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2760435B2 publication Critical patent/JP2760435B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は半導体装置に関するものであり、周期性のあ
る配線を容易に行なうことを目的とするものである。
従来の技術 超LSI等の半導体集積回路は、シリコン基板上に各素
子が形成され、素子間が、絶縁材料で絶縁された複数層
の金属や多結晶シリコン等で配線されている。入出力部
分を持ち、周期的に繰り返される回路においては、基本
回路セルを数多く並べることにより半導体マスク図を作
成する。その基本回路セル間の配線は、階層的に構成さ
れたマスク図データ構造において一階層上のレベルに配
線が施こされている。
発明が解決しようとする課題 一般に、周期的に繰り返される基本回路セル(第3図
a)に対し、回路の周期のn倍の周期で配線第3図bを
施こす必要がある場合、基本回路セルを並べたのち、n
周期で配線を行なう必要があり、データ量、配線作業量
とも大きい(第3図c)。
なお、第3図中、1は基本回路セル、2は配線、3は
配線コンタクト、4は入力端子、5は出力コンタクトで
ある。
課題を解決するための手段 そこで本発明は、第1の回路と、第2の回路と、前記
第1の回路の出力信号が送出される出力端子と、前記第
2の回路の入力信号を取り込む入力端子と、N本(Nは
自然数)のバイパス配線を有した基本セルとを備え、前
記バイパス配線の各々は入力位置と出力位置が一方向に
シフトされており、前記N+2個の基本セルを隣接配置
することにより、前記出力端子がN本の前記バイパス配
線を介して前記入力端子に接続されたN+1周期の配線
を実現したことを特徴とする半導体装置である。
作用 以上の構成により、本発明は、N+2個の基本セルを
隣接配置するだけで、出力端子がN本のバイパス配線を
介して入力端子に接続されたN+1周期の配線を実現し
たことにより、第1の回路の出力信号を第2の回路の入
力信号として取り込んだ半導体装置が提供されることと
なり配線の省略化、データ量の減少が期待できる。
実施例 第1図は、本発明の原理図である。基本回路セル6内
に出力配線7、入力配線8、バイパス配線9を含むた
め、基本回路セルを複数個並べるだけでn周期の配線を
実現できる。
本実施例は、4周期の配線を必要とする4ビット並列
シフトレジスタに本発明を適用した例を示す。第2図a
は4ビット並列出力を持つ、4ビット幅で64ビット長を
有する256ビット・シフトレジスタの回路図である。こ
の256ビットシフトレジスタは、シフトレジスタの基本
セル10の入力端子と出力端子を4周期の配線を用いてシ
リアル接続することにより構成される。この回路に本発
明を適用することにより、第2図bにおいて、出力端子
13と入力端子14に接続されるシフトレジスタを省略して
いるが、第2図bに示すように、基本回路セル11の繰り
返しにより、4個毎のシリアル接続が自動的に行なえ
る。ガードバンド12は半導体のP領域とN領域とを分離
し、ラッチアップなどの誤動作を防ぐためのものであ
る。出力端子13からの信号は、右側に隣接した基本回路
セルの段階上のバイパス配線に自動的に接続され、一方
向に位置をシフトし、さらに次に隣接する基本回路セル
の段階上のバイパス配線に接続される。さらに同様に一
方向に位置をシフトした後、さらに次に隣接した基本回
路セルのバイパス配線に接続される。このようにして、
ある基本回路セルの出力端子13の信号は4個先方の基本
回路セルの入力端子14に自動的に接続される。
本実施例の256ビットシフトレジスタの場合、従来の
方法で配線を行なった際は、マスク図面のデータ量とし
て、基本回路セル1個分のデータ、256個分の基本回路
セルの配置情報、4個先のセル間を配線するための配線
情報を256個分を持たなければならなかったのに対し、
本発明による256ビットシフトレジスタの場合、基本回
路セル1個分のデータと256個分の基本回路セルの配置
情報だけでよいため、保持データ量の削減効果も期待で
きる。
発明の効果 超LSIのマスク設計において、配線作業の省力化とデ
ータの節約に大きな効果を生む。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理を示す図、第2図はその実施例を
示す構成図、第3図は従来例の構成図である。 6……基本回路セル、7……出力配線、8……入力配
線、9……バイパス配線、10……シフトレジスタの基本
セル、11……基本回路セル、12……ガードバンド、13…
…出力端子、14……入力端子。

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の回路と、 第2の回路と、 前記第1の回路の出力信号が送出される出力端子と、前
    記第2の回路の入力信号を取り込む入力端子と、N本
    (Nは自然数)のバイパス配線を有した基本セルとを備
    え、 前記バイパス配線の各々は入力位置と出力位置が一方向
    にシフトされており、 前記N+2個の基本セルを隣接配置することにより、前
    記出力端子がN本の前記バイパス配線を介して前記入力
    端子に接続されたN+1周期の配線を実現したことを特
    徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】隣接配置するN+2個の基本セルは同一構
    成であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    半導体装置。
  3. 【請求項3】第1本目のバイパス配線の入力位置と前記
    出力端子が前記一方向において同一高さに配置され、前
    記入力端子と第N本目(Nは自然数)のバイパス配線の
    出力位置が前記一方向において同一の高さに配置された
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記
    載の半導体装置。
  4. 【請求項4】N≧2の自然数のとき、第2本目のバイパ
    ス配線の入力位置と第1本目のバイパス配線の出力位置
    が前記一方向において同一の高さに配置されたことを特
    徴とする特許請求の範囲第3項記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】前記第1の回路と前記第2の回路は同一の
    機能を実現する回路であり、この同一の機能を実現する
    回路が、前記入力端子および前記出力端子に接続された
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記
    載の半導体装置。
  6. 【請求項6】前記同一の機能を実現する回路はシフトレ
    ジスタであり、N+1並列のシフトレジスタを形成した
    ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の半導体装
    置。
JP7530589A 1989-03-27 1989-03-27 半導体装置 Expired - Fee Related JP2760435B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7530589A JP2760435B2 (ja) 1989-03-27 1989-03-27 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7530589A JP2760435B2 (ja) 1989-03-27 1989-03-27 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02251958A JPH02251958A (ja) 1990-10-09
JP2760435B2 true JP2760435B2 (ja) 1998-05-28

Family

ID=13572408

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7530589A Expired - Fee Related JP2760435B2 (ja) 1989-03-27 1989-03-27 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2760435B2 (ja)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0738415B2 (ja) * 1987-03-28 1995-04-26 株式会社東芝 半導体集積回路の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02251958A (ja) 1990-10-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR880010573A (ko) 대규모 반도체 논리장치
WO1990011648A1 (en) Configurable cellular array
EP0908887A3 (en) Semiconductor integrated circuit device
EP0338757A2 (en) A cell stack for variable digit width serial architecture
JP2760435B2 (ja) 半導体装置
KR950010202B1 (ko) 반도체집적회로
EP0348933B1 (en) Standard cell
KR920004225B1 (ko) 마스터 슬라이스(Master slice)방법을 사용하여 반도체 집적회로를 형성하는 방법
JPH06101235B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPS61226943A (ja) 自動配置配線用標準セル
KR930006893A (ko) 반도체 집적 회로 장치
JPS5963743A (ja) 半導体集積回路装置
JPS6110269A (ja) 半導体集積回路
JPH09153551A (ja) 半導体装置
JP2823031B2 (ja) 平面実装構造
JPS60134462A (ja) 集積化半導体論理回路装置
JPH04274358A (ja) 半導体lsiのクロックドライブ回路
JPH0214742B2 (ja)
JPS62179735A (ja) 電子回路チツプ
JPH01207946A (ja) ゲートアレイ方式半導体集積回路
JPS61198650A (ja) マスタ−・スライス半導体集積回路
JPH05167048A (ja) ゲートアレー
JPH03152956A (ja) 半導体集積回路
JPS58166823A (ja) デイジタル・フイルタ回路の製造方法及び回路
JPH0212436B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees