JP2760013B2 - 高透磁率磁性材料の製造方法 - Google Patents
高透磁率磁性材料の製造方法Info
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- JP2760013B2 JP2760013B2 JP1048314A JP4831489A JP2760013B2 JP 2760013 B2 JP2760013 B2 JP 2760013B2 JP 1048314 A JP1048314 A JP 1048314A JP 4831489 A JP4831489 A JP 4831489A JP 2760013 B2 JP2760013 B2 JP 2760013B2
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Description
（産業上の利用分野） 本発明は、高透磁率磁性材料（軟質磁性材料）の製造
方法に関し、例えば、トランス用コア，モーター用コ
ア，リレー用鉄心，磁気ヘッド，磁気シールド材，磁気
増幅器などの素材として利用される高透磁率磁性材料を
製造するのに適した高透磁率磁性材料の製造方法に関す
るものである。 （従来の技術） 従来、上記した用途に利用される高透磁率磁性材料と
しては、電磁軟鉄，ケイ素鋼板，パーマロイ，センダス
ト，パーミンバー，イソパーム，フェライト，各種アモ
ルファス合金などがあり、パーマロイには、Ni含有量が
70〜80重量％のパーマロイＡ級（PAパーマロイ）,Ni含
有量が40〜50重量％のパーマロイＢ級（PBパーマロ
イ）,Ni含有量が70〜80重量％でその他に特殊成分を含
むパーマロイＣ級（PCパーマロイ）,Ni含有量が35〜40
重量％のパーマロイＤ級（PDパーマロイ）,Ni含有量が4
5〜55重量％のパーマロイＥ級（PEパーマロイ）など
（例えば、JIS Ｃ 2531）があって、本発明は、これ
らのうちPBパーマロイ系の高透磁率磁性材料の製造方法
の改良に関するものである。 従来、この種の高透磁率磁性材料を製造するに際して
は、所定成分に溶解したのち造塊して得たインゴットを
熱間鍛造および熱間圧延し、次いで冷間圧延（その他伸
線加工等の冷間加工）を行い、この冷間圧延の間に1000
℃前後ないしはそれ以上の温度での完全焼鈍を施して冷
間加工を容易なものにすると共に必要な冷間加工率が確
保されるようにし、次いで打抜き、深絞り、巻線，冷間
鍛造などによって所望の製品形状に加工し、その後水素
ないしは真空とした非酸化性雰囲気中において900〜120
0℃で磁気焼鈍を行うことによって透磁率の向上が実現
されるようにしていた。 （発明が解決しようとする課題） しかしながら、従来の高透磁率磁性材料の製造方法に
よる場合には、磁気特性とくに透磁率の向上がいまだ十
分でないという課題を有していた。 （発明の目的） 本発明はこのような従来の課題にかんがみてなされた
もので、磁気特性、とくに初透磁率（μｉ）および最大
透磁率（μｍ）で表わされる透磁率（μ）が大きな値を
示すPBパーマロイ系の高透磁率磁性材料を提供すること
を目的としている。
方法に関し、例えば、トランス用コア，モーター用コ
ア，リレー用鉄心，磁気ヘッド，磁気シールド材，磁気
増幅器などの素材として利用される高透磁率磁性材料を
製造するのに適した高透磁率磁性材料の製造方法に関す
るものである。 （従来の技術） 従来、上記した用途に利用される高透磁率磁性材料と
しては、電磁軟鉄，ケイ素鋼板，パーマロイ，センダス
ト，パーミンバー，イソパーム，フェライト，各種アモ
ルファス合金などがあり、パーマロイには、Ni含有量が
70〜80重量％のパーマロイＡ級（PAパーマロイ）,Ni含
有量が40〜50重量％のパーマロイＢ級（PBパーマロ
イ）,Ni含有量が70〜80重量％でその他に特殊成分を含
むパーマロイＣ級（PCパーマロイ）,Ni含有量が35〜40
重量％のパーマロイＤ級（PDパーマロイ）,Ni含有量が4
5〜55重量％のパーマロイＥ級（PEパーマロイ）など
（例えば、JIS Ｃ 2531）があって、本発明は、これ
らのうちPBパーマロイ系の高透磁率磁性材料の製造方法
の改良に関するものである。 従来、この種の高透磁率磁性材料を製造するに際して
は、所定成分に溶解したのち造塊して得たインゴットを
熱間鍛造および熱間圧延し、次いで冷間圧延（その他伸
線加工等の冷間加工）を行い、この冷間圧延の間に1000
℃前後ないしはそれ以上の温度での完全焼鈍を施して冷
間加工を容易なものにすると共に必要な冷間加工率が確
保されるようにし、次いで打抜き、深絞り、巻線，冷間
鍛造などによって所望の製品形状に加工し、その後水素
ないしは真空とした非酸化性雰囲気中において900〜120
0℃で磁気焼鈍を行うことによって透磁率の向上が実現
されるようにしていた。 （発明が解決しようとする課題） しかしながら、従来の高透磁率磁性材料の製造方法に
よる場合には、磁気特性とくに透磁率の向上がいまだ十
分でないという課題を有していた。 （発明の目的） 本発明はこのような従来の課題にかんがみてなされた
もので、磁気特性、とくに初透磁率（μｉ）および最大
透磁率（μｍ）で表わされる透磁率（μ）が大きな値を
示すPBパーマロイ系の高透磁率磁性材料を提供すること
を目的としている。
【発明の構成】 （課題を解決するための手段） 本発明に係る高透磁率磁性材料の製造方法は、Niが34
重量％以上65重量％以下、Siが1.0重量％以下、Mnが1.0
重量％以下、必要に応じてMo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrの
うちから選ばれる１種または２種以上の合計が10重量％
以下、残部がFeおよび不純物からなる素材を冷間加工す
る際の必要に応じて中間焼鈍を行う場合の中間焼鈍温度
を950℃以下にすると共に最終冷間加工率を90％以上に
して磁気焼鈍前の硬さをビッカース硬さでHv250以上と
し、磁気焼鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25
mm以上とする構成としたことを特徴としており、このよ
うな高透磁率磁性材料の製造方法の構成を上述した従来
の課題を解決するための手段としている。 本発明が適用される高透磁率磁性材料は、Niが34重量
％以上65重量％以下、Siが1.0重量％以下、Mnが1.0重量
％以下、必要に応じてMo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrのうち
から選ばれる１種または２種以上の合計が10重量％以
下、残部がFeおよび不純物からなるものであるが、この
ような成分組成に限定した理由について説明する。 Ni: Niはこの種のパーマロイ系高透磁率磁性材料にとって
主要な元素であり、34重量％未満ではキュリー点が室温
近くまで低下すると共に、磁気特性の温度依存性が大き
くなるため実用的なものにならず、飽和磁束密度も低い
ものとなるので好ましくなく、65重量％超過では飽和磁
束密度が低下すると共に素材自体のコストが著しく上昇
するので、Ni含有量は34重量％以上65重量％以下の範囲
とした。 Si: Siは溶製時の脱酸成分として添加されるが、Si含有量
が多くなると磁気特性の低下を招くので1.0重量％以下
とする必要がある。 Mn: Mnは溶製時の脱酸・脱硫成分として添加されるが、Mn
含有量が多くなると磁気特性の低下を招くので1.0重量
％以下とする必要がある。 Mo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zr: これらの元素はこの種の高透磁率磁性材料の磁気特性
を向上させるのに有効な元素であるので、これらの１種
または２種以上を必要に応じて添加するのもよい。そし
て、V,Nb,Ta,W,Ti,Zr,Mo,Crは微細な炭化物や窒化物を
形成して結晶粒の一次成長を妨げ、磁気焼鈍時の二次成
長を容易にして結晶粒を粗大化させることにより磁気特
性を改善し、透磁率を向上させる。また、機械的特性や
耐摩耗性を改善し、磁気焼鈍前の硬さがビッカース硬さ
でHv250以上が得られるのを容易にする。さらに、Cuは
電気抵抗を向上し、さらにMoとともにヒステリシスの低
下，最大透磁率の向上に効果がある。 しかし、これらの元素の含有量が、多すぎるとかえっ
て磁気特性を低下させるので、添加するとしてもMo,Cu,
Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrのうちから選ばれる１種または２種
以上の合計で10重量％以下の含有量とすることが必要で
ある。 C: Ｃは磁気特性の低下を招く元素であるので、その含有
量は少ない方がよく、0.02重量％以下とすることが望ま
しいが、炭化物形成元素が含有されているときには微細
な炭化物を形成して結晶粒の成長時に一次結晶粒成長を
妨げ、二次結晶粒成長を起しやすくして磁気焼鈍後の結
晶粒を粗大化することにより透磁率を向上するのに寄与
すると共に、冷間加工後磁気焼鈍前の硬さがHv250以上
となるのを容易にする。しかし、多すぎると結晶粒粗大
化作用を小さくしてかえって磁気特性の低下を招くの
で、0.035重量％以下とすることが望ましい。 N: Ｎは溶製時にブローホールを生じたり、磁気特性の低
下を招いたりする元素であるので、その含有量は少ない
方がよく、0.005重量％以下とするのが望ましいが、窒
化物形成元素が含有されているときには微細な窒化物を
形成して結晶粒の成長時に一次結晶粒成長を妨げ、二次
結晶粒成長を起しやすくして磁気焼鈍後に結晶粒を粗大
化することにより透磁率を向上するのに寄与すると共
に、冷間加工後磁気焼鈍前の硬さがHv250以上となるの
を容易にする。しかし、多すぎると結晶粒粗大化作用を
小さくしてかえって磁気特性の低下を招くので0.010重
量％以下とすることが望ましい。 Fe: Feはこの種のパーマロイ系高透磁率磁性材料によって
主要な元素であるので残部とした。 本発明に係る高透磁率磁性材料の製造方法は、上記組
成になるFe−Ni系合金を素材とし、この素材に対して冷
間圧延や冷間引抜きなどの冷間加工を行うに際して最終
冷間加工率が90％以上となるようにし、冷間加工を行い
がたいときや冷間加工率を大きなものとしたいときなど
に必要に応じて中間焼鈍を行う場合には中間焼鈍温度を
950℃以下（下限は中間焼鈍が可能である温度（例えば6
00℃程度）以上）にし、磁気焼鈍前の硬さがビッカース
硬さでHv250以上となるようにしている。この場合、最
終冷間加工率が90％よりも小さいと、磁気焼鈍後に平均
結晶粒径を0.25mm以上のものとするのが困難となる。ま
た、中間焼鈍を行う場合においてその焼鈍温度が950℃
を超えるとその後の冷間加工にとっては有利となるもの
の加工歪が残留しないものとなり、磁気焼鈍後に平均結
晶粒径を0.25mm以上のものとするのが困難となるので、
中間焼鈍温度を950℃以下として、加工歪を残しておく
ことによって磁気焼鈍後に平均結晶粒径が0.25mm以上と
なるようにする。 また、磁気焼鈍前の硬さがビッカース硬さでHv250よ
りも低いと、磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25mm以上と
するのが困難となるので、磁気焼鈍前の硬さをHv250以
上とすることによって磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25
mm以上とするのがより確実なものになるようにする。 このように、冷間加工を行う際の最終冷間加工率を90
％以上とし、冷間加工を行うに際して中間焼鈍を実施す
る必要がある場合には中間焼鈍温度を590℃以下とし、
打抜き、深絞り，巻線，冷間鍛造などを行うことによっ
て製品形状に加工し、磁気焼鈍前の硬さがHv250以上と
した状態で、水素または真空等の非酸化性雰囲気中にお
いて900〜1200℃で磁気焼鈍を行い、ピット炉，連続炉
などの炉中で冷却して所定形状の高透磁率磁性材料を得
る。 これによって、磁気焼鈍後には平均結晶粒径が0.25mm
以上のものが得られるようにし、磁気特性、とくに透磁
率の大きい高透磁率磁性材料を得る。 （発明の作用） 本発明に係る高透磁率磁性材料の製造方法では、所定
の成分組成を有するFe−Ni系素材の冷間加工時における
最終冷間加工率を90％以上にし、冷間加工の際に中間焼
鈍を必要とする場合には中間焼鈍温度を950℃以下と
し、磁気焼鈍前の硬さがHv250以上であるようにし、磁
気焼鈍後の平均結晶粒径が0.25mm以上となるようにして
いるので、結晶粒の粗大化による透磁率の向上が実現さ
れ、磁気特性の優れたものとなる作用がもたらされる。 （実施例） 第１表に示す成分組成の合金を溶製したのち造塊して
各々インゴットとし、各インゴットに対して800〜1350
℃の温度で熱間鍛造を行って厚さ30mmのビレットとし、
続いて800〜1350℃の温度で熱間圧延を行って厚さ2.0mm
の帯板とし、次いで冷間圧延（冷間加工）を行った。そ
して、この冷間圧延に際して中間焼鈍を必要とする場合
に同じく第１表に示す中間焼鈍温度で中間焼鈍を行い、
最終冷間圧延（加工）率を同じく第１表に示す値にして
冷間圧延（冷間加工）を終了し、最終的に厚さ0.10〜0.
50mmの薄帯にした。この冷間圧延後（磁気焼鈍前）の硬
さは同じく第１表に示すとおりであった。 次いで、各薄帯に対し水素気流中で1100℃,2時間の磁
気焼鈍を行い、平均結晶粒径を調べるとともに初透磁率
（μｉ）および最大透磁率（μｍ）を測定した、これら
の結果を同じく第１表に示す。 第１表に示すように、本発明の各構成要件を満足する
実施例No.1〜14では、初透磁率および最大透磁率であら
わされる透磁率が大きな値を示していることが認められ
た。これに対して本発明の各構成要件を満足しない比較
例No.1,2では透磁率がかなり少ない値しか有していない
ものであることが認められた。
重量％以上65重量％以下、Siが1.0重量％以下、Mnが1.0
重量％以下、必要に応じてMo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrの
うちから選ばれる１種または２種以上の合計が10重量％
以下、残部がFeおよび不純物からなる素材を冷間加工す
る際の必要に応じて中間焼鈍を行う場合の中間焼鈍温度
を950℃以下にすると共に最終冷間加工率を90％以上に
して磁気焼鈍前の硬さをビッカース硬さでHv250以上と
し、磁気焼鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25
mm以上とする構成としたことを特徴としており、このよ
うな高透磁率磁性材料の製造方法の構成を上述した従来
の課題を解決するための手段としている。 本発明が適用される高透磁率磁性材料は、Niが34重量
％以上65重量％以下、Siが1.0重量％以下、Mnが1.0重量
％以下、必要に応じてMo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrのうち
から選ばれる１種または２種以上の合計が10重量％以
下、残部がFeおよび不純物からなるものであるが、この
ような成分組成に限定した理由について説明する。 Ni: Niはこの種のパーマロイ系高透磁率磁性材料にとって
主要な元素であり、34重量％未満ではキュリー点が室温
近くまで低下すると共に、磁気特性の温度依存性が大き
くなるため実用的なものにならず、飽和磁束密度も低い
ものとなるので好ましくなく、65重量％超過では飽和磁
束密度が低下すると共に素材自体のコストが著しく上昇
するので、Ni含有量は34重量％以上65重量％以下の範囲
とした。 Si: Siは溶製時の脱酸成分として添加されるが、Si含有量
が多くなると磁気特性の低下を招くので1.0重量％以下
とする必要がある。 Mn: Mnは溶製時の脱酸・脱硫成分として添加されるが、Mn
含有量が多くなると磁気特性の低下を招くので1.0重量
％以下とする必要がある。 Mo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zr: これらの元素はこの種の高透磁率磁性材料の磁気特性
を向上させるのに有効な元素であるので、これらの１種
または２種以上を必要に応じて添加するのもよい。そし
て、V,Nb,Ta,W,Ti,Zr,Mo,Crは微細な炭化物や窒化物を
形成して結晶粒の一次成長を妨げ、磁気焼鈍時の二次成
長を容易にして結晶粒を粗大化させることにより磁気特
性を改善し、透磁率を向上させる。また、機械的特性や
耐摩耗性を改善し、磁気焼鈍前の硬さがビッカース硬さ
でHv250以上が得られるのを容易にする。さらに、Cuは
電気抵抗を向上し、さらにMoとともにヒステリシスの低
下，最大透磁率の向上に効果がある。 しかし、これらの元素の含有量が、多すぎるとかえっ
て磁気特性を低下させるので、添加するとしてもMo,Cu,
Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrのうちから選ばれる１種または２種
以上の合計で10重量％以下の含有量とすることが必要で
ある。 C: Ｃは磁気特性の低下を招く元素であるので、その含有
量は少ない方がよく、0.02重量％以下とすることが望ま
しいが、炭化物形成元素が含有されているときには微細
な炭化物を形成して結晶粒の成長時に一次結晶粒成長を
妨げ、二次結晶粒成長を起しやすくして磁気焼鈍後の結
晶粒を粗大化することにより透磁率を向上するのに寄与
すると共に、冷間加工後磁気焼鈍前の硬さがHv250以上
となるのを容易にする。しかし、多すぎると結晶粒粗大
化作用を小さくしてかえって磁気特性の低下を招くの
で、0.035重量％以下とすることが望ましい。 N: Ｎは溶製時にブローホールを生じたり、磁気特性の低
下を招いたりする元素であるので、その含有量は少ない
方がよく、0.005重量％以下とするのが望ましいが、窒
化物形成元素が含有されているときには微細な窒化物を
形成して結晶粒の成長時に一次結晶粒成長を妨げ、二次
結晶粒成長を起しやすくして磁気焼鈍後に結晶粒を粗大
化することにより透磁率を向上するのに寄与すると共
に、冷間加工後磁気焼鈍前の硬さがHv250以上となるの
を容易にする。しかし、多すぎると結晶粒粗大化作用を
小さくしてかえって磁気特性の低下を招くので0.010重
量％以下とすることが望ましい。 Fe: Feはこの種のパーマロイ系高透磁率磁性材料によって
主要な元素であるので残部とした。 本発明に係る高透磁率磁性材料の製造方法は、上記組
成になるFe−Ni系合金を素材とし、この素材に対して冷
間圧延や冷間引抜きなどの冷間加工を行うに際して最終
冷間加工率が90％以上となるようにし、冷間加工を行い
がたいときや冷間加工率を大きなものとしたいときなど
に必要に応じて中間焼鈍を行う場合には中間焼鈍温度を
950℃以下（下限は中間焼鈍が可能である温度（例えば6
00℃程度）以上）にし、磁気焼鈍前の硬さがビッカース
硬さでHv250以上となるようにしている。この場合、最
終冷間加工率が90％よりも小さいと、磁気焼鈍後に平均
結晶粒径を0.25mm以上のものとするのが困難となる。ま
た、中間焼鈍を行う場合においてその焼鈍温度が950℃
を超えるとその後の冷間加工にとっては有利となるもの
の加工歪が残留しないものとなり、磁気焼鈍後に平均結
晶粒径を0.25mm以上のものとするのが困難となるので、
中間焼鈍温度を950℃以下として、加工歪を残しておく
ことによって磁気焼鈍後に平均結晶粒径が0.25mm以上と
なるようにする。 また、磁気焼鈍前の硬さがビッカース硬さでHv250よ
りも低いと、磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25mm以上と
するのが困難となるので、磁気焼鈍前の硬さをHv250以
上とすることによって磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25
mm以上とするのがより確実なものになるようにする。 このように、冷間加工を行う際の最終冷間加工率を90
％以上とし、冷間加工を行うに際して中間焼鈍を実施す
る必要がある場合には中間焼鈍温度を590℃以下とし、
打抜き、深絞り，巻線，冷間鍛造などを行うことによっ
て製品形状に加工し、磁気焼鈍前の硬さがHv250以上と
した状態で、水素または真空等の非酸化性雰囲気中にお
いて900〜1200℃で磁気焼鈍を行い、ピット炉，連続炉
などの炉中で冷却して所定形状の高透磁率磁性材料を得
る。 これによって、磁気焼鈍後には平均結晶粒径が0.25mm
以上のものが得られるようにし、磁気特性、とくに透磁
率の大きい高透磁率磁性材料を得る。 （発明の作用） 本発明に係る高透磁率磁性材料の製造方法では、所定
の成分組成を有するFe−Ni系素材の冷間加工時における
最終冷間加工率を90％以上にし、冷間加工の際に中間焼
鈍を必要とする場合には中間焼鈍温度を950℃以下と
し、磁気焼鈍前の硬さがHv250以上であるようにし、磁
気焼鈍後の平均結晶粒径が0.25mm以上となるようにして
いるので、結晶粒の粗大化による透磁率の向上が実現さ
れ、磁気特性の優れたものとなる作用がもたらされる。 （実施例） 第１表に示す成分組成の合金を溶製したのち造塊して
各々インゴットとし、各インゴットに対して800〜1350
℃の温度で熱間鍛造を行って厚さ30mmのビレットとし、
続いて800〜1350℃の温度で熱間圧延を行って厚さ2.0mm
の帯板とし、次いで冷間圧延（冷間加工）を行った。そ
して、この冷間圧延に際して中間焼鈍を必要とする場合
に同じく第１表に示す中間焼鈍温度で中間焼鈍を行い、
最終冷間圧延（加工）率を同じく第１表に示す値にして
冷間圧延（冷間加工）を終了し、最終的に厚さ0.10〜0.
50mmの薄帯にした。この冷間圧延後（磁気焼鈍前）の硬
さは同じく第１表に示すとおりであった。 次いで、各薄帯に対し水素気流中で1100℃,2時間の磁
気焼鈍を行い、平均結晶粒径を調べるとともに初透磁率
（μｉ）および最大透磁率（μｍ）を測定した、これら
の結果を同じく第１表に示す。 第１表に示すように、本発明の各構成要件を満足する
実施例No.1〜14では、初透磁率および最大透磁率であら
わされる透磁率が大きな値を示していることが認められ
た。これに対して本発明の各構成要件を満足しない比較
例No.1,2では透磁率がかなり少ない値しか有していない
ものであることが認められた。
本発明に係る高透磁率磁性材料の製造方法は、Niが34
重量％以上65重量％以下、Siが1.0重量％以下、Mnが1.0
重量％以下、必要に応じてMo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrの
うちから選ばれる１種または２種以上の合計が10重量％
以下、残部がFeおよび不純物からなる素材を冷間加工す
る際の必要に応じて中間焼鈍を行う場合の中間焼鈍温度
を950℃以下にすると共に最終冷間加工率を90％以上に
して磁気焼鈍前の硬さをビッカース硬さでHv250以上と
し、磁気焼鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25
mm以上とする構成としたから、磁気特性、とくに初透磁
率および最大透磁率であらわされる透磁率の値が大きな
ものとなり、トランス用コア、モーター用コア、リレー
用コア、リレー用鉄心，磁気ヘッド，磁気シールド材，
磁気増幅器等々の素材として優れた高透磁率磁性材料を
提供することが可能であるという著大なる効果がもたら
される。
重量％以上65重量％以下、Siが1.0重量％以下、Mnが1.0
重量％以下、必要に応じてMo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,Ti,Zrの
うちから選ばれる１種または２種以上の合計が10重量％
以下、残部がFeおよび不純物からなる素材を冷間加工す
る際の必要に応じて中間焼鈍を行う場合の中間焼鈍温度
を950℃以下にすると共に最終冷間加工率を90％以上に
して磁気焼鈍前の硬さをビッカース硬さでHv250以上と
し、磁気焼鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25
mm以上とする構成としたから、磁気特性、とくに初透磁
率および最大透磁率であらわされる透磁率の値が大きな
ものとなり、トランス用コア、モーター用コア、リレー
用コア、リレー用鉄心，磁気ヘッド，磁気シールド材，
磁気増幅器等々の素材として優れた高透磁率磁性材料を
提供することが可能であるという著大なる効果がもたら
される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２２Ｃ 38/16 Ｃ２２Ｃ 38/16 Ｈ０１Ｆ 1/14 Ｈ０１Ｆ 1/14 Ｚ
Claims (5)
- 【請求項１】Niが34重量％以上65重量％以下、Siが1.0
重量％以下、Mnが1.0重量％以下、残部がFeおよび不純
物からなる素材を冷間加工する際の最終冷間加工率を90
％以上にして磁気焼鈍前の硬さをビッカース硬さでHv25
0以上とし、磁気焼鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒
径を0.25mm以上とすることを特徴とする高透磁率磁性材
料の製造方法。 - 【請求項２】Niが34重量％以上65重量％以下、Siが1.0
重量％以下、Mnが1.0重量％以下、残部がFeおよび不純
物からなる素材を冷間加工する際の中間焼鈍温度を950
℃以下にすると共に最終冷間加工率を90％以上にして磁
気焼鈍前の硬さをビッカース硬さでHv250以上とし、磁
気焼鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25mm以上
とすることを特徴とする高透磁率磁性材料の製造方法。 - 【請求項３】Niが34重量％以上65重量％以下、Siが1.0
重量％以下、Mnが1.0重量％以下、Mo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,
Ti,Zrのうちから選ばれる１種または２種以上の合計が1
0重量％以下、残部がFeおよび不純物からなる素材を冷
間加工する際の最終冷間加工率を90％以上にして磁気焼
鈍前の硬さをビッカース硬さでHv250以上とし、磁気焼
鈍を施して磁気焼鈍後の平均結晶粒径を0.25mm以上とす
ることを特徴とする高透磁率磁性材料の製造方法。 - 【請求項４】Niが34重量％以上65重量％以下、Siが1.0
重量％以下、Mnが1.0重量％以下、Mo,Cu,Cr,V,Nb,Ta,W,
Ti,Zrのうちから選ばれる１種または２種以上の合計が1
0重量％以下、残部がFeおよび不純物からなる素材を冷
間加工する際の中間焼鈍温度を950℃以下にすると共に
最終冷間加工率を90％以上にして磁気焼鈍前の硬さをビ
ッカース硬さでHv250以上とし、磁気焼鈍を施して磁気
焼鈍後の平均結晶粒径を0.25mm以上とすることを特徴と
する高透磁率磁性材料の製造方法。 - 【請求項５】Ｃが0.035重量％以下、Ｎが0.010重量％以
下であることを特徴とする請求項第（３）項または第
（４）項に記載の高透磁率磁性材料の製造方法。
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| JP1048314A JP2760013B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 高透磁率磁性材料の製造方法 |
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1989
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