JP2757974B2 - ピストンリング - Google Patents

ピストンリング

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JP2757974B2 JP4289549A JP28954992A JP2757974B2 JP 2757974 B2 JP2757974 B2 JP 2757974B2 JP 4289549 A JP4289549 A JP 4289549A JP 28954992 A JP28954992 A JP 28954992A JP 2757974 B2 JP2757974 B2 JP 2757974B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ピストンリングに関す
るものであり、さらに詳しく述べるならば摺動面の耐摩
耗性、耐焼付性並びに初期なじみを向上させたイオンプ
レーティング皮膜を被覆した内燃機関用ピストンリング
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より主として鉄系摺動材料の摺動特
性改善策として、硬質クロムめっきによる耐摩耗性の改
善、窒化またはモリブデン溶射による耐焼付性の向上な
どの表面処理が挙げられる。しかしながらこれらの方法
では摺動材料としての十分な摺動特性が得られず、最近
物理的蒸着(PVD)法あるいは化学気相析出(CV
D)法により化学的にも比較的安定なCr−N系、Ti
−N系硬質皮膜を作製する方法が検討されている。
【0003】しかしながらCr−N系皮膜は硬さが比較
的低いため摩耗が起こりやすく、いまだ十分な摺動特性
は得られていない。さらに皮膜硬さが高く、摺動特性に
優れた皮膜のとしてTi−N系皮膜が提案されている。
このTi−N系皮膜は、切削工具として使用実績はある
が、機械部品等の摺動部材として利用する場合には皮膜
硬さが高すぎて相手材を摩耗させてしまう欠点がある。
【0004】また、Ti−N系皮膜との摩耗により粗く
なった相手材表面が今度はTi−N系皮膜をアブレーシ
ブ摩耗させ、両者の間の摺動条件が悪化して遂には焼き
付きが発生してしまうことがある。また皮膜硬さが高す
ぎるために、皮膜と接する相手材との「初期なじみ」が
悪い欠点がある。ここで「初期なじみ」とは、摺動部材
の表面において摺動開始後の短時間内に摺動接触する表
面が微小かつ平滑に摩耗することにより接触面圧を低減
させて、潤滑油膜切れを起こし難くすることにより摩耗
や焼き付きの発生を防ぐことである。Ti−N系皮膜は
初期なじみが悪いことにより、摺動初期において摩耗や
焼き付き現象を起こし易い。
【0005】このような摺動特性上の問題点に加えて、
Cr−N系、Ti−N系皮膜には製造上の問題がある。
一般に硬質の薄い皮膜を被覆した後には、初期なじみを
良好にしかつ相手材の過度の摩耗を招かないようにポリ
シング等で皮膜の摺動面を平滑化する必要があるが、皮
膜硬さが高いために平滑化が困難である。したがってこ
のポリシング加工には長時間を要し、しかも一様な仕上
取り代にならず、膜厚が不均一になり部分的には皮膜を
無くしてしまい、不良品となる率が高い。
【0006】さらにCr−N系皮膜は銀色ないし銀白
色、Ti−N系は皮膜は金色ないし薄黄色であり、摺動
部材の下地の金属色との色調差が少ないため、皮膜の微
小な剥離や、前述のポリシングによって皮膜が無くなっ
た部分を検出する手段として、画像解析装置等で自動化
することができなかった。このため顕微鏡で拡大し肉眼
で検査する方法をとる必要があり、性能保証面で大きな
問題があった。
【0007】ピストンリングは、主に内燃機関の燃焼室
の気密化、シリンダーライナー表面に形成される潤滑用
油膜の膜厚制御、および燃料が燃焼することによって加
熱されたピストンの熱をシリンダーライナーへ伝えて冷
却する等の働きをする。このような働きをするにはピス
トンリングは、それ自体が自己の持つ張力でシリンダー
ライナーに張り出して密着しなければならないので、摺
動面には必然的に大きな面圧が発生し、したがって摩耗
や焼付の発生しやすい状況に曝されて摺動している。ま
た、燃焼工程中に生成する硬い燃焼生成物がピストンリ
ングとシリンダーライナー間の摺動面に達し、アブレー
シブな摩耗を発生させ、さらにガソリン中に含まれる硫
黄や窒素分が酸化し、硝酸や硫酸になりエンジンオイル
中に混入し腐食摩耗を促進するようになるので、ピスト
ンリングはこのような点でも摩耗や焼付きが発生しやす
い状況に曝されて摺動している。
【0008】上記のような摺動条件から起こる摩耗や焼
付きの問題を解消するため、ピストンリングはその摺動
面に何らかの表面処理が施されている。従来より行われ
てきた表面処理方法の代表的なものとしては、硬質クロ
ムめっきによる耐摩耗性の改善、窒化またはモリブデン
溶射による耐焼付性の向上が挙げられる。しかしなが
ら、これらの方法で処理されたピストンリングの摺動特
性は現在の要求水準に対しては不十分であるので、最近
イオンプレーティング法によりCr−N系、Ti−N系
の化学的に比較的安定な化合物をピストンリングに硬質
皮膜として施すことが検討されている。
【0009】しかしながらCr−N系皮膜は硬さが比較
的低いため摩耗が起こりやすく、いまだ十分な摺動特性
は得られていない。さらに皮膜硬さが高く、摺動特性に
優れた皮膜のとしてTi−N系イオンプレーティング皮
膜が提案されている(特公平4−19412号参照)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑みて比較的安価なCrを主成分とし、初期なじみ
性に優れたCr−N−O系皮膜を被覆した摺動材料の開
発を目的として検討を行ったものであり、特にその皮膜
の耐摩耗性および耐焼付性等の摺動特性を改良するとと
もに、下地金属との色調差を大きくすることで工業生産
における性能保証面の問題を解決することを目的として
いる。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくともシ
リンダーライナーと摺動するピストンリングの摺動面
に、耐摩耗性および耐焼付性等の摺動特性に優れ且つ初
期なじみが良好で、下地金属との色調差が大きい皮膜を
設けることにより、上記課題を解決するものである。す
なわち、本発明に係わる内燃焼機関用ピストンリング
は、少なくともシリンダーライナーとの外周摺動面に、
クロム、窒素および酸素からなり、ビッカース硬さが1
000以上2000以下であり、厚さが1〜50μmの
イオンプレーティング皮膜を形成させることを特徴とす
る。
【0012】本発明によれば、イオンプレーティング、
真空蒸着、スパッタなどのPVD法により、クロムの蒸
気と、窒素ガス及び酸素ガスあるいは少なくとも窒素と
酸素を含むガスとを混合した気相と基体接触させること
により上記ピストンリングを製造することができる。イ
オンプレーティングは陰極イオンプレーティングが好ま
しいが、これに限定されず改訂5版金属便覧第903頁
に例示されているような各種方式を使用することができ
る。
【0013】皮膜を施す基材は鉄系材料が好ましく使用
できるがチタン系、アルミニウム系などであっても使用
可能である。さらに摺動材料の相手材は鉄系材料、アル
ミニウム系材料など各種材料からなるものであってよ
い。ピストンリングの摺動面に形成されるイオンプレー
ティング皮膜は厚さが1μm未満ではその効果がなく、
50μmを越えても特に性能の向上がないので、1〜5
0μmの範囲とする。
【0014】
【作用】上記したクロム、窒素および酸素の比率は原子
%比でCr:N:O=l:0.9〜0.1:0.1〜
1.2の範囲である。クロムは窒素および酸素と安定し
た硬質物質を作る。窒素はクロムの硬度を著しく高める
が、その量が少な過ぎても多過ぎても皮膜の硬さが低下
し、皮膜の耐摩耗性が低下するので、ビッカース硬さが
1000未満とならないように、窒素含有量を原子%比
でクロム1に対して0.9〜0.1に定める。酸素はク
ロム中で窒素と共存すると、Cr−N皮膜の硬度をさら
に高め、かつ摺動特性を改良しさらに皮膜色調を暗色
(非金属色)にする。酸素の量は微量でも摺動特性向上
に有効ではあるが、少な過ぎると色調変化の作用が十分
に発揮されないから、色調の変化が検出できるように、
原子%比でクロム1に対して0.1以上酸素を添加する
必要がある。一方酸素の量が、原子比でクロム1に対し
て1.2を超えると皮膜の硬さがビッカース硬さで20
00を超えるとともに、皮膜の初期なじみ性が不足し相
手材の摩耗が多くなる。上述のようにクロム、窒素及び
酸素の比率を定めることにより従来のCr−N系皮膜よ
りも耐摩耗性や耐焼付性などの摺動特性が良好になる。
【0015】またイオンプレーティング皮膜を形成する
ためにはクロムとその他の成分は別別の供給源からガス
化する必要がある。窒素と酸素は別々のガスとして供給
してもよくあるいはNO2 、NOなどの化合物として供
給してもよい。
【0016】以下、Cr−N−O系イオンプレーティン
グ皮膜を比較対象として酸素を導入することによる作用
をより詳しく説明する。
【0017】表1に実施例の方法により作製されたCr
−N系またはCr−N−O系の皮膜の一例を示す。C
r,NおよびOの原子%比は皮膜中の比率であり、ES
CA分析により決定した。表面粗さおよび成膜速度(R
dep)は、酸素原子%比の大小に関わらず同程度であ
った。皮膜硬さは酸素原子%比が大きくなるにしたがっ
て向上する傾向を示した。また皮膜の色調は酸素原子%
比が大きくなるにしたがって黒色が濃くなった。その他
の特性は酸素原子%比との関連はなかった。
【0018】
【表1】 ガス比 表面粗さ μm 膜厚 Rdep 皮膜硬さ 色調 No Cr: N: O Ra Rmax Rz μm μm /min HmV 1:0.5:0.0 0.07 2.13 1.48 2.28 0.18 1320 銀色 1:0.5:0.5 0.09 1.66 1.20 2.24 0.17 1740 黒灰色 1:0.1:1.2 0.11 2.02 1.24 2.75 0.21 1860 黒色
【0019】これらの皮膜について、200から700
℃の温度で空気中において1時間の熱処理を行った。熱
処理温度と皮膜硬さの関係を図3に示す。Cr−N系皮
膜およびCr−N−O系皮膜のいずれの皮膜も200℃
で熱処理を行うことにより熱処理を施さないas−de
poの皮膜に比べ皮膜硬さは向上した。更にその皮膜硬
さは、500℃までの温度でほとんど低下がみられなか
った。ところがCr−N系皮膜は熱処理温度500から
700℃の間で約50%程度の皮膜硬さの低下がみられ
た。これに対し、酸素原子%比が1.2のCr−N−O
系皮膜の皮膜硬さの低下は約25%程度であり、700
℃においてもCr−N−O系皮膜は高い皮膜硬さを有し
ている。従来、Cr−N系イオンプレーティング皮膜の
ビッカース硬さは1500程度と言われていたが、酸素
の導入により700℃で熱処理した後でもCr−N系イ
オンプレーティング皮膜に匹敵する硬さが得られた。し
たがってCr−N−O系イオンプレーティング皮膜は摺
動面の昇温に伴う摺動特性の劣化を十分に防げる摺動材
料であることがわかった。以下、実施例により本発明を
詳しく説明する。
【0020】
【実施例】実施例1 鏡面仕上げされた高クロム鋼(JIS SUJ2)から
なる基体を予めフロン液中で超音波洗浄を行い、以下に
説明する手順でシリンダーライナーとの摺動面にアーク
式イオンプレーティング法によりCr−N−O系硬質皮
膜を形成した。
【0021】基体を超音波洗浄した後、イオンプレーテ
ィング装置の真空容器(チャンバ)内に取り付け、続い
てチャンバ内圧力が1.3×10-3Pa(パスカル)と
なるまで真空引きを行った。この真空度が達成された時
点から、チャンバ内に内蔵されているヒーターにより基
体を300〜600℃まで加熱して、基体表面に付着あ
るいは吸着しているガス成分を放出させ、その後200
℃まで冷却した。チャンバ内圧力が4×10-3Pa以下
となった時点で、陰極としたCrタ−ゲットの表面でア
ーク放電を発生させ、Crの大部分がイオン化された状
態でターゲット表面から飛出させた。この時基体を取り
付けた治具には−700〜−1000Vのバイアス電圧
を印加しておき、タ−ゲットから飛出したイオン化した
Crを基体と治具の表面に吸引し、さらにこれらのイオ
ンを高速で被処理面に衝突させた。
【0022】このようなイオン化した金属の衝突により
被処理面の酸化物などを削るいわゆるスパッタクリーニ
ングにより表面の活性化処理を行った。また、アーク放
電発生と同時に少量の窒素ガスをチャンバ内に導入する
ことにより一部のイオン化したCrは、窒素ガスと結合
し基体表面にCr−N系皮膜となって析出される。その
後、さらに窒素ガス流量を増やし、酸素ガスを所定量導
入し1.3Pa程度の圧力として、−20〜−100V
のバイアス電圧を印加して基体表面にCr−N−O系硬
質皮膜を形成させた。所定の膜厚形成後、チャンバ内温
度が150℃以下になるまで冷却してから、膜被覆され
た基体をチャンバ外に取り出した。比較のため、従来よ
り行われてきた酸素を導入しないCr−N系皮膜につい
ても同じ条件で作製した。
【0023】これらの膜をねずみ鋳鉄(FC25)を相
手材としてピンオンディスク型摩擦試験機によりスカッ
フ試験を行い耐焼付性を焼付加重で評価した。スカッフ
試験条件は以下の通りであった。 潤滑方法:モーターオイル#30、油温80℃、油量4
cc/sec 摩擦速度:8m/sec 接触荷重:初期2MPaから1MPaごとに増加させ、
焼付まで 摩擦時間:各荷重で180sec保持
【0024】上記方法により得られた結果を図1に示
す。酸素を導入しないCr−N系皮膜では22MPa程
度のスカッフ値を示したが、酸素原子%比が0.5のC
r−N−O系皮膜では30MPa、酸素原子%比が1.
2のCr−N−O系皮膜では36MPaのスカッフ値を
示し、酸素を導入することにより耐焼付性は向上するこ
とがわかった。また、ピン−ドラム式摩耗試験機によ
り、ドラムにねずみ鋳鉄(FC25)を用いて摩耗試験
を行った。摩耗試験条件は、以下の通りであった。 潤滑方法:モーターオイル#30、油温80℃、油量8
cc/sec ドラム回転速度:5m/sec 接触荷重:1.5MPa 試験時間:30ksec
【0025】皮膜を被覆したピンの摩耗量とドラムの摩
耗量をまとめて図2に示す。ここで、ピンの摩耗量は摩
耗した接触面のドラム回転方向の幅、ドラムの摩耗量は
ドラムの摩耗深さより求めた。ドラムの摩耗量に着目す
ると、Cr−N系皮膜に対してCr−N−O系皮膜にお
いても、ほぼ同程度の摩耗量であった。一方、ピンの摩
耗量に着目すると、酸素原子%比を大きくするにしたが
ってその摩耗量は減少した。
【0026】以上のスカッフ試験および摩耗試験の結果
からCr−N系皮膜よりも酸素導入したCr−N−O系
皮膜は、耐焼付性に優れ、初期なじみが良好であり、ま
た皮膜硬さが高いことから、皮膜自体の摩耗を抑えるこ
とがわかった。また、これらの皮膜の色調をみると、酸
素を導入しないCr−N系皮膜では銀色であったのに対
し、酸素原子%比が0.5のCr−N−O系皮膜では黒
灰色、酸素原子%比が1.2のCr−N−O系皮膜では
黒色を呈しており、酸素原子%比が大きくなるに従って
黒色になっていた。Cr−N−O系皮膜とすることによ
り下地金属と皮膜との色調差が大きい。
【0027】実施例2 ステンレス鋼(JIS規格SUS440C)からなるピ
ストンリングで呼び径×幅×厚さ=φ86mm×2mm
×3mmのものを非処理材とし、実施例1と同様にアー
ク式イオンプレーティング法によるCr−N−O系硬質
皮膜を行った。また、実施例と同様な試験方法により皮
膜の特性を評価した。
【0028】耐焼付き性を図4に、耐摩耗性を図5にそ
れぞれ示す。これらの結果はそれぞれ図1、2と同様で
あった。
【0029】
【発明の効果】以上のように、摺動面にCr−N−O系
皮膜を被覆することにより、従来より行われてきたCr
−N系皮膜を被覆するよりも初期なじみが良好であり、
耐摩耗性および耐焼付性に優れた摺動材料が得られる。
さらに、皮膜と下地金属との色調差が大きいことからポ
リシング後の皮膜の自動検査が可能となり、性能保証面
や経済的な面で優位性の高い摺動材料が得られる。
【0030】また、ピストンリングの少なくとも外周摺
動面にCr−N−O系皮膜を被覆することにより、従来
のCr−N系皮膜よりも耐摩耗性および耐焼付性などの
摺動特性に優れ、且つシリンダーライナーを摩耗させる
ことなく、初期なじみが良好なピストンリングが得られ
る。また、Cr−N−O系皮膜を被覆したピストンリン
グは、高温領域での皮膜硬さの低下率が小さく、摺動面
の昇温に伴う摺動特性の劣化を防ぐことができる。さら
に、皮膜と下地金属との色調差が大きいことから皮膜の
自動検査が可能となり、性能保証面で優位性の高いピス
トンリングが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1のスカッフ試験結果を示す図である。
【図2】実施例1の摩耗試験結果を示す図である。
【図3】陰極アークプラズマ方式イオンプレーティング
により作製されたCr−N−O系皮膜の熱処理温度と皮
膜硬さの関係を示す図である。
【図4】実施例1のスカッフ試験結果を示す図である。
【図5】実施例1の摩耗試験結果を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) F16J 9/00 - 9/28 C23C 14/00 - 14/58

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 クロム、窒素および酸素からなり、ビッ
    カース硬さが1000以上2000以下であるCr−N
    −O系皮膜を基体に被覆し、かつ前記クロム、窒素及び
    酸素の原子%比が、Cr:N:O=1:0.9〜0.
    1:0.1〜1.2の範囲であることを特徴とする潤滑
    油存在下で使用されるピストンリング。
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