JPH0727228A

JPH0727228A - 摺動部材およびＣｒＮ皮膜の被覆方法

Info

Publication number: JPH0727228A
Application number: JP19279593A
Authority: JP
Inventors: Seido Miyazaki; 誠道宮崎; Nobuyuki Yamashita; 信行山下; Shoji Tanaka; 昭二田中; Hiroto Fukutome; 弘人福留; Hiroshi Tamagaki; 浩玉垣
Original assignee: Kobe Steel Ltd; Teikoku Piston Ring Co Ltd
Current assignee: Kobe Steel Ltd; Teikoku Piston Ring Co Ltd
Priority date: 1993-07-07
Filing date: 1993-07-07
Publication date: 1995-01-27

Abstract

(57)【要約】【目的】摺動特性に優れるとともに、耐剥離性に優れ
た摺動部材およびＣｒＮ皮膜の被覆方法を提供する。【構成】ピストンリング１の外周面にＣｒＮ皮膜２を
被覆する。ＣｒＮ皮膜２はビッカース硬度で８００〜１
４００の硬さを有し、且つ、大きさ１μｍ以上のポアが
５〜１５％分散した組織を有している。このＣｒＮ皮膜
２は、金属Ｃｒを蒸発源とし、窒素圧力が１０〜３０ｍ
Ｔｏｒｒ、バイアス電圧が０〜３０Ｖでアークイオンプ
レーティングすることによって被覆できる。【効果】皮膜中に存在するポアが皮膜に作用する応力
を局所に限定し、緩和することにより、クラックが成長
・伝播せず、皮膜内での耐剥離性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は内燃機関に使用されるピ
ストンリング等の摺動部材に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、ピストンリングの摺動面の表面処
理としては、硬質クロムめっきや表面の窒化処理が行わ
れてきた。しかしながら、近年のエンジンの高出力化、
高性能化に伴い、ピストンリングの使用される条件はま
すます苛酷になってきており、いっそう高い耐摩耗性と
耐焼き付き性が要求されてきている。このような要求に
は硬質クロムめっきや表面窒化といった従来の表面処理
では対処しきれなくなりつつある。

【０００３】このような状況に対処するため、物理的蒸
着（ＰＶＤ）法を利用してピストンリングの外周面にＴ
ｉＮやクロム窒化物などの硬質皮膜を形成する技術が提
案されている（例えば特公平１−５２４７１号）。特に
クロム窒化物の皮膜はＴｉＮに比べて厚い皮膜を実現で
きることから、近年実用化の検討が盛んである。

【０００４】ここで「クロム窒化物」とは、クロムと窒
素の化合物（ＣｒＮ、Ｃｒ₂Ｎ）、ならびにＣｒＮ、Ｃ
ｒ₂Ｎ、および金属Ｃｒにおける共存物質（Ｃｒ＋Ｃｒ
₂Ｎ、Ｃｒ₂Ｎ＋ＣｒＮ）を指しており、今後Ｃｒ−Ｎ
と表記することもある。クロム窒化物（Ｃｒ−Ｎ）をＰ
ＶＤ法で形成する場合は、通常はＣｒを蒸発させて基板
上に皮膜として堆積させながら、周囲を窒素ガスの雰囲
気にすることで実現される。上記の各種皮膜組成は皮膜
形成条件（主として窒素ガスの圧力）の制御により調整
可能である。Ｃｒ−Ｎ皮膜の硬さも処理条件により、ビ
ッカース硬さ１０００〜２２００の範囲で各種の値が報
告されているが、通常健全な皮膜の硬さとしてはビッカ
ース硬度で１５００〜２０００の範囲が一般的である。

【０００５】ピストンリングの被覆用には、Ｃｒ−Ｎ皮
膜としてはＣｒＮ、Ｃｒ₂Ｎに加え、Ｃｒ＋Ｃｒ₂Ｎ、
Ｃｒ₂Ｎ＋ＣｒＮ等の皮膜が用いられており、適用事例
にそれぞれ効果が報告されている。例えば、特開平１−
１５６４６１号にはＣｒ₂Ｎ皮膜を１０〜５０μｍの厚
みでピストンリングに形成する方法が開示され、ビッカ
ース硬度で１５００〜２０００の硬さを有する皮膜によ
り優れた耐久性が実現される旨が示されている。また、
特開平１−１５９４４９号にはＣｒ₂ＮとＣｒＮを積層
した皮膜を形成したピストンリングが開示され、ビッカ
ース硬度で１６００〜２０００の硬さを有する皮膜によ
り優れた耐久性の実現が報告された。実開平４−８８６
１号には摺動内周面に硬質粒子が分散して埋設されたシ
リンダとの組み合わせにおいて、ＣｒＮをその範囲に含
むＣｒ（Ｃｘ，Ｎｙ）なる皮膜を形成したピストンリン
グが開示され、ビッカース硬度で１５００〜２６００の
範囲の皮膜により、前記シリンダとの組み合わせにおい
て優れた総合性能を発揮するとされる。また、ビッカー
ス硬度で１６００〜１８９０の硬さの金属クロムと窒化
クロムの複合皮膜を形成したピストンリングが特開昭６
２−１２０４７１号に開示されている。

【０００６】以上の事例を検討すると、高硬度（ビッカ
ース硬度で１５００〜２０００程度）のＣｒ−Ｎ皮膜の
被覆により、ピストンリングは高い耐摩耗性と耐焼き付
き性を実現でき、苛酷な運転状態にある内燃機関用に適
用されていることがわかる。

【０００７】しかしながら、このように優れた特性を有
するＣｒ−Ｎ皮膜においても、適用する内燃機関によっ
てはさらに苛酷な状況にさらされ、内燃機関の運転中に
ピストンリングの外周面を被覆するＣｒ−Ｎ皮膜が皮膜
内で剥離を引き起こして脱落し、外周面に穴状の欠陥が
多数点在する状況になるという問題を生じることがあっ
た。かかる内燃機関においては、耐摩耗性に関する要求
もきびしくＣｒ−Ｎのような耐摩耗性の優れた皮膜の被
覆は必須であり、耐摩耗性を犠牲にすることなくかかる
問題の発生しない皮膜によって被覆されたピストンリン
グの実現が要求されている。

【０００８】本発明の目的は、摺動特性に優れるととも
に、耐剥離性に優れた摺動部材およびＣｒＮ皮膜の被覆
方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の摺動部材の構成
は、ＣｒＮ皮膜が少なくとも摺動面に被覆されている摺
動部材において、前記ＣｒＮ皮膜がビッカース硬度で８
００〜１４００の硬さを有しており、且つ、大きさ１μ
ｍ以上のポアが５〜１５％分散した組織を有しているこ
とを特徴とする。

【００１０】また、本発明の上記摺動部材におけるＣｒ
Ｎ皮膜の被覆方法は、金属Ｃｒを蒸発源とし、窒素圧力
が１０〜３０ｍＴｏｒｒ、バイアス電圧が０〜３０Ｖで
イオンプレーティングすることを特徴とする。

【００１１】

【作用】上記摺動部材は苛酷な使用状況にある内燃機関
に適用されても、皮膜内での剥離現象が発生せず、しか
も優れた耐摩耗性を示す。

【００１２】このことは、発明者が行った実験で判明し
た以下の事実に基づいている。すなち、皮膜内での剥離
現象について説明すると、第１に、Ｃｒ−Ｎ皮膜の中で
はＣｒ₂Ｎ組成を多く含むものは剥離現象が発生しやす
く、ＣｒＮ組成ができるだけ多い皮膜が望ましい。

【００１３】さらに、同じＣｒＮ皮膜においてもその皮
膜硬さに関係して皮膜内の剥離現象は相違し、その硬さ
がビッカース硬度で１４００以下において優れた耐剥離
性が得られた。この硬さが低い皮膜はポア（空孔）を含
んだ組織を有しており、このポアはイオンプレーティン
グ時において比較的窒素ガス圧力が高く、バイアス電圧
が低い時に生じる。この条件によると、ＣｒＮ結晶が特
定方位に成長しやすく、このため内部にポアを残したま
ま皮膜が成長する傾向がある。皮膜中に存在するポア
は、皮膜に作用する応力を局所に限定し、緻密な皮膜の
場合に比べて緩和する作用があると考えられる。このた
め、クラックが成長・伝播せず、皮膜内での耐剥離性が
向上すると考えられる。

【００１４】一方で、皮膜の耐久性に関していうと、皮
膜をＣｒＮとした場合、意外なことであるがその硬さが
ビッカース硬度で８００〜１７００の範囲においてほと
んど耐摩耗性に差がなかった。

【００１５】以上の結果から、皮膜硬さはビッカース硬
度で８００〜１４００が好ましいことがわかる。そし
て、上記硬さの皮膜は大きさ１μｍ以上のポアが５〜１
５％分散した組織を有している。ＣｒＮ皮膜中のポアは
皮膜表面をラッピングした後、観察可能である。

【００１６】図８は、鋼製ピストンリングの表面を窒化
し、最表面の窒素濃度の高い化合物層を除去した後、Ｃ
ｒＮ皮膜をイオンプレーティングによって被覆した試料
の破面の６００倍のＳＥＭ写真である。図８の（ａ）の
試料の作製条件はバイアス電圧３Ｖ、窒素ガス圧力２０
ｍＴｏｒｒで、ＣｒＮ皮膜中にポアが存在し硬度が低い
本発明のものであり、図８の（ｂ）の試料の作製条件は
バイアス電圧３０Ｖ、窒素ガス圧力１５ｍＴｏｒｒで、
ＣｒＮ皮膜は緻密、健全であり、従来のものである。試
料（ａ）および（ｂ）のＣｒＮ皮膜の厚さはそれぞれ４
２μｍであった。

【００１７】

【実施例】図１は本発明の一実施例であるピストンリン
グの一部分を示す縦断面図である。本実施例におけるピ
ストンリング１は鋼、鋳鉄、チタンあるいはチタン合金
等で形成されている矩形断面リングである。ピストンリ
ング１の外周面にはアークイオンプレーティングによっ
てＣｒＮ皮膜２が被覆されている。ＣｒＮ皮膜２はビッ
カース硬度で８００〜１４００の硬さを有しており、且
つ、大きさ１μｍ以上のポアが５〜１５％分散した組織
を有している。ＣｒＮ皮膜２の膜厚は５〜１００μｍの
範囲が適当であり、１０〜５０μｍの範囲が特に好まし
い。

【００１８】アークイオンプレーティング法（真空アー
ク蒸着法）は真空アーク放電を利用して、蒸発源（陰
極）の皮膜材料を蒸気化、イオン化して、被コーティン
グ物の表面に皮膜を形成するものである。このアークイ
オンプレーティング法は蒸気のイオン化率が高く、緻密
で密着性に優れた皮膜が得られる特長がある。

【００１９】図２に基づいて、アークイオンプレーティ
ング装置の基本的構成を説明する。真空チャンバ１０内
に、皮膜を形成する材料からなる陰極（蒸発源）１１
と、皮膜が形成される被コーティング物１２が設置され
ている。陰極１１は真空チャンバ１０の外側に設置され
ているアーク供給源１３に接続されており、アーク供給
源１３には図示外の陽極が接続されている。被コーティ
ング物１２にはバイアス電圧供給源１４によって負のバ
イアス電圧が印加されるように構成されている。真空チ
ャンバ１０にはプロセスガスの供給源に接続されている
ガス入口１５と、ポンプに接続されている排気口１６と
が設けられている。

【００２０】したがって、真空チャンバ１０内におい
て、陰極１１と陽極との間でアーク放電が起こされる
と、アークは陰極１１の表面上にアークスポットを形成
し、陰極１１の表面上をランダムにかつ高速に移動す
る。アークスポットに集中するアーク電流（数十〜数百
Ａ）のエネルギーにより、陰極１１の材料は瞬時に蒸発
すると同時に金属イオン１７となり、真空中に飛び出
す。一方、バイアス電圧が被コーティング物１２に印加
されることにより、金属イオン１７が加速され、反応ガ
ス粒子１８とともに被コーティング物１２の表面に密着
し、緻密な皮膜が生成される。

【００２１】上記アークイオンプレーティング装置を使
用して、被コーティング１２としてのピストンリングに
ＣｒＮ皮膜を被覆することができる。

【００２２】皮膜の形成にあたっては、皮膜を被覆する
ピストンリングに加える負のバイアス電圧と皮膜形成中
の窒素ガスの圧力を調整することによって、各種の硬さ
を持ったＣｒＮ皮膜を被覆することができる。

【００２３】前述した皮膜内での剥離現象は詳細に観察
を行うと次のような特徴を有している。直径０．０５〜０．３ｍｍの穴状の欠陥が発生して
いるが、剥離が母材と皮膜の境界面ではなく、皮膜内部
で発生している。穴状の欠陥の周囲には摺動方向に対して直角にクラ
ックが発生している。

【００２４】この剥離現象に類似の現象はファンデアホ
ルスト（ＶＤＨ）摩耗試験で発生する。まず、このＶＤ
Ｈ摩耗試験を利用して、本発明の皮膜の特性を調査した
結果を説明する。

【００２５】ピストンリングに硬質皮膜をアークイオン
プレーティング法を用いて被覆して試料とした。皮膜の
形成にあたっては、皮膜を被覆するピストンリングに加
える負のバイアス電圧と皮膜形成中の窒素ガスの圧力を
調整することによって、各種の硬さを持ったＣｒＮ皮
膜、Ｃｒ₂Ｎ皮膜、およびＣｒＮとＣｒ₂Ｎとが共存し
ている皮膜を、それぞれピストンリングの外周面に５０
μｍ程度の厚みで形成した。

【００２６】表１には作成した試料の皮膜の種類とビッ
カース硬さを、処理条件のマトリックス上に示してあ
る。表１において、バイアス電圧の単位はＶ、Ｎ₂ガス
の圧力の単位はｍＴｏｒｒである。

【００２７】

【００２８】これらの各種の皮膜を被覆したピストンリ
ングに関して、ＶＤＨ摩耗試験を実施した。ＶＤＨ摩耗
試験は図３に示されているように、潤滑条件下で回転す
るロータ２０の外周面に試料２１のピストンリングを荷
重Ｐで押し付けることで実施した。ロータ材はシリンダ
ボア材に相当する鋳鉄とし、潤滑剤としてはディーゼル
エンジン用オイル（商品名日石ハイディーゼル１０Ｗ）
を供給しながら、摺動速度４．０〜５．５ｍ／秒の４水
準、荷重３〜５ポンドの３水準のマトリックス（表２参
照）に対して、６０秒間の試験を実施した。

【００２９】

【００３０】試験実施後の試料の表面状態を光学顕微鏡
で観察し評価を行った。試験結果を表１と対応する形で
図４に示す。図４において、〇は良好、△はクラック発
生、×はクラックと皮膜内での剥離が発生していること
を示している。バイアス電圧の単位はＶ、Ｎ₂ガスの圧
力の単位はｍＴｏｒｒである。なお、図４のマトリック
ス上の一つの箇所における１２個の〇、△、あるいは×
は表２の試験条件のマトリックスに対応している。ま
た、表２における１２個の〇、△、×は、一例として、
図４のバイアス電圧０Ｖ、Ｎ₂ガス圧力１ｍＴｏｒｒに
おける試験結果を示しているものである。

【００３１】図４から、Ｃｒ₂Ｎを皮膜組成として含む
比較材は皮膜内での剥離の発生（表中記号×）が多く、
目的とする特性が得られていない。また、皮膜組成がＣ
ｒＮであっても、処理条件によって１４００を越えたビ
ッカース硬さを持つ比較材では、皮膜内での剥離現象が
発生しやすく、同じく問題があることがわかる。一方
で、本発明の１４００以下のビッカース硬さを有するピ
ストンリングでは、苛酷なＶＤＨ試験条件（高摺動速
度、高荷重）にあっても、皮膜表面にクラックは観察さ
れるが、皮膜内での剥離による穴状の欠陥の発生はな
く、目的とする特性が得られたことがわかる。

【００３２】次に、本発明の摺動部材にとって耐摩耗性
も重要な要素であるので、往復動摩擦摩耗試験により、
皮膜の耐摩耗性を評価した。評価にあたっては、ピン状
の試験片（８ｍｍφ）の球面（Ｒ１８ｍｍ）をなす端面
に前記と同様にアークイオンプレーティング法によって
各種の皮膜を形成して試料とし評価を行った。

【００３３】往復動摩耗試験での試験条件を以下に示
す。試験機：往復動摩擦試験機摩擦速度：１ｍ／ｓ試験時間：６０分荷重：３０ｋｇ下試片の材料：鋳鉄材（ＦＣ２５０）潤滑油：昭和シェル石油テトラオイル２

【００３４】往復動摩擦試験機は図５に示されているよ
うに、ピン状試験片３０の皮膜が形成されている端面が
下試片３１に荷重Ｐで押し付けられた状態で、下試片３
１がストローク５０ｍｍで往復動される。

【００３５】図６に往復動摩耗試験での試料および下試
片の摩耗量の試験結果を示す。この図からわかるよう
に、ＣｒＮ皮膜はビッカース硬さで８００〜１７００の
範囲で摩耗量に大きな差はなく、いずれも高い耐摩耗性
を示している。しかしながら、皮膜硬さがビッカース硬
さで７５４になると摩耗量が増加しており、耐摩耗性に
関する特性が低下していることがわかる。

【００３６】以上の２つの試験結果から、所定のＣｒＮ
皮膜を被覆した本発明におけるピストンリングは、耐摩
耗性の面および苛酷な摺動条件下で使用した場合の皮膜
内部での剥離特性の両面において優れた特性を持ってい
ることがわかる。

【００３７】図７は本発明の別の実施例であるピストン
リングを示している。このピストンリング１はステンレ
ス鋼から形成されており、外周面の母材表面に形成され
た窒化層３上に、上記実施例と同様にアークイオンプレ
ーティング法によって、ＣｒＮ皮膜を約５５μｍの厚さ
で被覆したものである。このときのバイアス電圧は３
Ｖ、窒素ガス圧力は１０ｍＴｏｒｒであった。なお、窒
化層３は、窒化処理後に最表面の窒素濃度の高い化合物
層を除去した。ＣｒＮ皮膜の形成後、外周面の最終仕上
加工を行い、仕上がりのＣｒＮ皮膜２の膜厚は５０μｍ
とした。ＣｒＮ皮膜２の硬さはビッカース硬度で１２５
８であった。窒化層３の厚さは７０μｍ、硬さはビッカ
ース硬度で１１００であった。

【００３８】また、バイアス電圧を３０Ｖとした以外は
上記と同様の条件でアークイオンプレーティングを行
い、ＣｒＮ皮膜が上記と同じ窒化層上に被覆されている
比較例のピストンリングを製作した。このピストンリン
グのＣｒＮ皮膜の厚さは５０μｍ、硬さはビッカース硬
度で１６２８であった。

【００３９】以上の２種類のピストンリングを同じディ
ーゼルエンジンに組み込み、４０００ｒｐｍの回転数で
３００時間の耐久試験を行い、試験後のピストンリング
の状態を調査した。比較例のピストンリングはシリンダ
ボアと摺動する外周面に、目視でも確認できる点状の欠
陥が確認され、拡大しての観察によると皮膜の途中から
皮膜が約０．１〜０．２ｍｍの大きさで脱落していた。
一方、実施例のピストンリングでは、目視による観察に
よると、比較例のピストンリングで観察されたような欠
陥は外周面に存在せず、健全であった。一方、皮膜の摩
耗量は、いずれのピストンリングも約６．０μｍ程度で
あり、耐摩耗性の面での相違はなかった。

【００４０】上記では、窒化層上にＣｒＮ皮膜を形成し
た具体例を一つ示したが、本発明は、窒化層上にＣｒＮ
皮膜を被覆する場合においても、ＣｒＮ皮膜はビッカー
ス硬度で８００〜１４００の硬さを有し、且つ、大きさ
１μｍ以上のポアが５〜１５％分散した組織を有してい
る。なお、窒化層は最表面の窒素濃度の高い化合物層が
除去された状態が好ましく、窒化層の硬さはビッカース
硬度で８００以上、厚さは１０〜９０μｍが好ましい。
ＣｒＮ皮膜の厚さは５〜１００μｍの範囲が適当であ
り、１０〜５０μｍの範囲が特に好ましい。

【００４１】上記のように窒化層上にＣｒＮ皮膜を被覆
すれば、ＣｒＮ皮膜が摩耗した場合でも、下地は耐摩耗
性の優れた窒化層であるため、さらに長寿命となる。

【００４２】以上の２つの実施例では、ＣｒＮ皮膜をピ
ストンリングの外周面に被覆した例を示したが、これに
限ることはなく、ＣｒＮ皮膜をピストンリングの外周面
と上下面あるいは外周面と上下面と内周面とに被覆する
ようにしてもよい。

【００４３】また、上記２つの実施例ではピストンリン
グにＣｒＮ皮膜を被覆した例を示したが、ＣｒＮ皮膜は
ピストンリングに被覆するに限らず、他の摺動部材、例
えば内燃機関の動弁系部品であるタペットやカム等の少
なくとも摺動面に被覆すれば有効である。

【００４４】以上の実施例では、ＣｒＮ皮膜の被覆は、
ＰＶＤ法の一種であるアークイオンプレーティング法に
よって実現されたが、この方法に限定されるものではな
く、ＰＶＤ法に属するＨＣＤ（ホロー・カソード・ディ
スチャージ）法等のイオンプレーティング法や反応性ス
パッタリング法などでも形成できる。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように本発明の摺動部材に
よれば、少なくとも摺動面に被覆されたＣｒＮ皮膜が、
ビッカース硬度で８００〜１４００の硬さを有してお
り、且つ、大きさ１μｍ以上のポアが５〜１５％分散し
た組織を有していることにより、摺動特性が優れるとと
もに、耐剥離性が優れている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例であるピストンリングの一部
分を示す縦断面図である。

【図２】アークイオンプレーティング装置の構成を説明
するための図である。

【図３】（ａ）はＶＤＨ摩耗試験の概要を示す一部断面
正面図、（ｂ）は同側面図である。

【図４】ＶＤＨ摩耗試験の結果を示す図である。

【図５】往復動摩耗試験の概要を示す一部断面正面図で
ある。

【図６】往復動摩耗試験の結果を示すグラフである。

【図７】本発明の別の実施例であるピストンリングの一
部分を示す縦断面図である。

【図８】鋼製ピストンリングの表面を窒化し、最表面の
窒素濃度の高い化合物層を除去した後、ＣｒＮ皮膜をイ
オンプレーティングによって被覆した試料の破面のＳＥ
Ｍ写真であり、（ａ）の試料は皮膜中にポアが存在し硬
度が低い本発明のものであり、（ｂ）の試料は皮膜が緻
密、健全である従来のものである。

【符号の説明】

１ピストンリング２ＣｒＮ皮膜３窒化層１０真空チャンバ１１陰極（蒸発源）１２被コーティング物１３アーク供給源１４バイアス電圧供給源１５ガス入口１６排気口１７金属イオン１８反応ガス粒子２０ロータ２１試料３０ピン状試験片３１下試片

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【手続補正書】

【提出日】平成６年１月１２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図８

【補正方法】変更

【補正内容】

【図８】鋼製ピストンリングの表面に形成された窒化層
とＣｒＮ皮膜の写真であり、（ａ）は皮膜中にポアが存
在し硬度が低い本発明のもの、（ｂ）は皮膜が緻密、健
全である従来のものである。

フロントページの続き (72)発明者田中昭二東京都中央区八重洲一丁目９番９号帝国ピストンリング株式会社内 (72)発明者福留弘人東京都中央区八重洲一丁目９番９号帝国ピストンリング株式会社内 (72)発明者玉垣浩兵庫県高砂市荒井町新浜２−３−１株式会社神戸製鋼所高砂製作所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ＣｒＮ皮膜が少なくとも摺動面に被覆さ
れている摺動部材において、前記ＣｒＮ皮膜がビッカー
ス硬度で８００〜１４００の硬さを有しており、且つ、
大きさ１μｍ以上のポアが５〜１５％分散した組織を有
していることを特徴とする摺動部材。
【請求項２】前記ＣｒＮ皮膜が被覆されている部材が
ピストンリングであり、ＣｒＮ皮膜が形成されている面
が外周面であることを特徴とする請求項１記載の摺動部
材。
【請求項３】前記ＣｒＮ皮膜が被覆されている部材が
ピストンリングであり、ＣｒＮ皮膜が形成されている面
が外周面と上下面であることを特徴とする請求項１記載
の摺動部材。
【請求項４】前記ＣｒＮ皮膜が被覆されている部材が
ピストンリングであり、ＣｒＮ皮膜が形成されている面
が外周面と上下面と内周面であることを特徴とする請求
項１記載の摺動部材。
【請求項５】前記ＣｒＮ皮膜の内側に窒化層が形成さ
れていることを特徴とする請求項１、２、３、あるいは
４記載の摺動部材。
【請求項６】金属Ｃｒを蒸発源とし、窒素圧力が１０
〜３０ｍＴｏｒｒ、バイアス電圧が０〜３０Ｖでイオン
プレーティングすることを特徴とする請求項１〜５のい
ずれかに記載の摺動部材におけるＣｒＮ皮膜の被覆方
法。