JP2007084840A - 高硬度材料、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基材表面に、下記式(1)で表される遷移金属窒化物に第3元素を置換添加して結晶構造を正方晶とした硬質被膜を形成することにより高硬度材料を得る。
MN (1)
(式中、Mは遷移金属を表す。)
好ましい遷移金属としてはクロムが挙げられ、第3元素としては16属又は17属の元素から選択されたもの、特に酸素を使用することが好ましい。また、硬質被膜中の第3元素の含有量は、硬質被膜を構成する全元素を基準として1〜40原子%程度とすることが好ましい。
【選択図】 図1
Description
窒化クロムはビッカース硬さが2000程度であり、例えば窒化クロム被膜でコーティングした切削工具では、切削時に発生する熱によって工具が変質するのを防止するために、潤滑油を用いた湿式切削が主に採用されている。しかしながら、このような湿式切削では、被切削物に付着した潤滑油を洗浄して除去する工程が必要となり、生産コストを高くするとともに、環境への影響が懸念されるといった問題点がある。
すなわち、本発明では次の1〜11の構成を採用する。
1.基材表面に、下記式(1)で表される遷移金属窒化物に第3元素を置換添加して結晶構造を正方晶とした硬質被膜を形成してなる高硬度材料。
MN (1)
(式中、Mは遷移金属を表す。)
2.式(1)において、Mがクロムであることを特徴とする1に記載の高硬度材料。
3.第3元素が16属又は17属の元素から選択されたものであることを特徴とする1又は2に記載の高硬度材料。
4.第3元素が酸素であることを特徴とする3に記載の高硬度材料。
5.前記硬質被膜中の第3元素の含有量が、硬質被膜を構成する全元素を基準として1〜40原子%であることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の高硬度材料。
6.前記硬質被膜の結晶構造における短軸(a)と長軸(c)の比が、1<c/a<1.5であることを特徴とする1〜5のいずれかに記載の高硬度材料。
7.前記硬質被膜の膜厚が0.1〜50μmであることを特徴とする1〜6のいずれかに記載の高硬度材料。
8.基材が金属、ガラス、セラミックス、プラスチックから選択されたものであることを特徴とする1〜7のいずれかに記載の高硬度材料。
9.密閉可能な反応室内に基材及び硬質被膜を形成する原料を対向させて配置し、アンモニアガス及び第3元素の存在下に前記硬質被膜を形成する原料にパルスレーザーを照射して、基材表面に硬質被膜を堆積させることを特徴とする1〜8のいずれかに記載の高硬度材料の製造方法。
10.前記硬質被膜を形成する原料が金属クロムであり、第3元素が酸素であることを特徴とする9に記載の高硬度材料の製造方法。
MN (1)
(式中、Mは遷移金属を表す。)
従来、上記式(1)で表される遷移金属の一窒化物の結晶構造としては、立方晶の結晶構造が知られているのみで、正方晶の結晶構造を有するものは知られていなかった。立方晶では、結晶構造を表すa,b,cの3軸の長さが等しく、全てが直交している立方体状の構造を有する(図4A参照)。これに対して、正方晶では3軸が直交し、a=b≠cで、立方体が縦に伸びた構造を有する。一般には、同長の2本をa軸、長さの異なる1本をc軸と表現する(図4B参照)。
正方晶の結晶構造が得られたことは、硬質被膜のX線回折でピークの回折角度から結晶面の面間隔を求め、面間隔から格子定数を計算することによって確認することができる。
例えば、CrNに酸素を置換固溶させた場合には、酸素含有量の増加に伴って硬質被膜のビッカース硬度は向上し、酸素含有量が10原子%程度以上のものでは、その結晶構造は主として正方晶に転換しているものと考えられる。この結晶構造における短軸(a)と長軸(c)の比は、1<c/a<1.5とすることが好ましく、1<c/a≦1.1とすることが特に好ましい。
本発明の硬質材料を形成する基材としては、鋼、鋳鉄、ステンレス鋼、シリコン、チタン或いはチタン合金等の金属材料や、ガラス、セラミック、プラスチック等の材料を、硬質材料の用途に応じて使用することができる。切削工具や摺動部材のように、強度及び耐久性を必要とする場合には、通常は金属材料が使用される。
図1は、本発明の硬質材料の製造に使用される装置の1例を示す模式図である。この装置1は、レーザー発生装置2、発生されたレーザーを集光するレンズ3及びウィンドウ4を備えた円筒形のチャンバー5、該チャンバー5を減圧にするポンプ6、及び該チャンバー5に置換ガスを供給する置換ガス供給源7により構成される。
基材8は、チャンバー5内に設けたヒーター(図示せず)により、基材の種類に応じた温度、例えば金属材料では100〜700℃程度、に加熱される。
このターゲットは、例えば図1にみられるように円板状に形成し、回転させながらレーザーを照射する。
レーザーの照射条件は、基板やターゲットの種類、硬質被膜の膜厚や用途等に応じて適宜選択することができるが、通常はパルス幅:1〜10ns、周波数:1〜300Hz、エネルギー密度:0.1〜30J/cm2、照射回数:6,000〜180,000回程度とすることが好ましい。
(実施例1)
図1の装置1内に、金属Crからなる直径5cm、厚さ5mmの円盤状のターゲット9と、縦3cm、横3cm、厚さ0.5mmのSi(100)基材8を10mmの間隔で対向配置した。ポンプ6でチャンバー5を3×10−6Torr以下の減圧とし、置換ガス供給源7からアンモニアガスを供給して、チャンバー5内を置換した。
基材8をヒーターで400℃に加熱し、レーザー発生装置2で発生させたNd:YAGレーザーの3倍波(355nm)をレンズ3で集光し、ウィンドウ4を通じて回転するターゲット9に照射することにより、基材8上に28原子%の酸素を含有する、膜厚1μmの窒化クロム被膜を堆積させた。レーザーは、繰り返し周波数10Hz、パルス幅7nsで1時間照射した(照射回数36,000回)。得られた被膜のX線回折結果を図2に示す。
実施例1において、チャンバー5内の酸素の分圧を調整することによって、基材表面に形成する被膜中の酸素の含有量を変化させた。得られた被膜の酸素含有量(被膜を構成する全元素を基準とした原子%)と、通常のビッカース硬度試験機により測定したビッカース硬度の関係を図3に示した。
図3によれば、酸素含有量の増加とともにビッカース硬度が向上することがわかる。
2 レーザー発生装置
3 レンズ
4 ウインドウ
5 チャンバー
6 ポンプ
7 置換ガス供給源
8 基材
9 ターゲット
Claims (10)
- 基材表面に、下記式(1)で表される遷移金属窒化物に第3元素を置換添加して結晶構造を正方晶とした硬質被膜を形成してなる高硬度材料。
MN (1)
(式中、Mは遷移金属を表す。) - 式(1)において、Mがクロムであることを特徴とする請求項1に記載の高硬度材料。
- 第3元素が16属又は17属の元素から選択されたものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の高硬度材料。
- 第3元素が酸素であることを特徴とする請求項3に記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜中の第3元素の含有量が、硬質被膜を構成する全元素を基準として1〜40原子%であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜の結晶構造における短軸(a)と長軸(c)の比が、1<c/a<1.5であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の高硬度材料。
- 前記硬質被膜の膜厚が0.1〜50μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の高硬度材料。
- 基材が金属、ガラス、セラミックス、プラスチックから選択されたものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の高硬度材料。
- 密閉可能な反応室内に基材及び硬質被膜を形成する原料を対向させて配置し、アンモニアガス及び第3元素の存在下に前記硬質被膜を形成する原料にパルスレーザーを照射して、基材表面に硬質被膜を堆積させることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の高硬度材料の製造方法。
- 前記硬質被膜を形成する原料が金属クロムであり、第3元素が酸素であることを特徴とする請求項9に記載の高硬度材料の製造方法。
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JP2005271530A JP2007084840A (ja) | 2005-09-20 | 2005-09-20 | 高硬度材料、及びその製造方法 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104805408A (zh) * | 2015-05-19 | 2015-07-29 | 上海井研精密工具有限公司 | 高硬度TiSiBN纳米复合结构保护性涂层及其制备方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03140461A (ja) * | 1989-10-20 | 1991-06-14 | Centre Stephanois Rech Mec Hydromec Frottement | クロム―窒素合金表面コーティング及びその形成方法 |
JPH0788359A (ja) * | 1986-10-27 | 1995-04-04 | Hitachi Ltd | 化合物膜の成膜方法及び成膜装置 |
JP2757974B2 (ja) * | 1992-07-17 | 1998-05-25 | 株式会社リケン | ピストンリング |
JP2005082878A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属オキシナイトライドの製造方法及び光触媒粒子 |
-
2005
- 2005-09-20 JP JP2005271530A patent/JP2007084840A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0788359A (ja) * | 1986-10-27 | 1995-04-04 | Hitachi Ltd | 化合物膜の成膜方法及び成膜装置 |
JPH03140461A (ja) * | 1989-10-20 | 1991-06-14 | Centre Stephanois Rech Mec Hydromec Frottement | クロム―窒素合金表面コーティング及びその形成方法 |
JP2757974B2 (ja) * | 1992-07-17 | 1998-05-25 | 株式会社リケン | ピストンリング |
JP2005082878A (ja) * | 2003-09-11 | 2005-03-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属オキシナイトライドの製造方法及び光触媒粒子 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104805408A (zh) * | 2015-05-19 | 2015-07-29 | 上海井研精密工具有限公司 | 高硬度TiSiBN纳米复合结构保护性涂层及其制备方法 |
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