JPH01165755A - 高温に敏感な製品を硬質層で被覆する方法および被覆製品 - Google Patents
高温に敏感な製品を硬質層で被覆する方法および被覆製品Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、一般に高温に敏感な製品を低い温度で被覆す
る方法、殊に少なくとも１つの金属炭化物からなる層を
得るのに適当な方法に関し、この場合本発明は、このよ
うな方法によって得られた製品にも関連する。
る方法、殊に少なくとも１つの金属炭化物からなる層を
得るのに適当な方法に関し、この場合本発明は、このよ
うな方法によって得られた製品にも関連する。
従来の技術
硬質であって耐摩耗性である表面を有する製品を得るた
めに種々の方法が公知であり、これらの方法の中のある
方法は広範に使用されている。最も耐摩耗性である材料
は、例えば炭化タングステン（ＷＣ）、炭化チタン（Ｔ
ｉＣ）および炭化クロム（Ｃｒ３Ｃ２）のような金属炭
化物である。よく知られた炭化タングステンは、粉末冶
金で製造されるコバルト（ｃｏ）との合金の形で使用さ
れ；それは、団塊の形をとりかつ被覆として使用するこ
とができない。他面、得るべき硬質の炭化物層を可能な
らしめる公知の被覆法が存在する。従って、材料を蒸気
相中で化学的に析出させる化学蒸着法またはＣＶＤ法を
使用するかまたは蒸気相の材料を物理的に析出させる物
理蒸着法またはＰＶＤ法を使用することにより金属また
はセラミック材料の製品に炭化チタンの硬質層を付着さ
せることができる。しかし、ＣＶＤ法は、８００ ’Ｃ
よりも高い温度を必要とし、かつＰＶＤ法によって処理
された製品は、３００°Ｃ〜４００°Ｃ程度の温度に達
する。炭化物を蒸着する他の方法は、溶融塩の雰囲気中
で８００ ’Ｃよりも高い温度で、特に電気化学的また
は“無電流”装置によって試みられた。上記の種々の方
法の主たる欠点は、包含される温度（これは、典型的に
は４００℃よりも高い）が高いことにあり、このことに
より、前記温度で変形しがちである材料、例えば銅もし
くはアルミニウム合金またはこのような温度で機械的性
質を失う材料、例えば硬質鋼は禁止されている。
めに種々の方法が公知であり、これらの方法の中のある
方法は広範に使用されている。最も耐摩耗性である材料
は、例えば炭化タングステン（ＷＣ）、炭化チタン（Ｔ
ｉＣ）および炭化クロム（Ｃｒ３Ｃ２）のような金属炭
化物である。よく知られた炭化タングステンは、粉末冶
金で製造されるコバルト（ｃｏ）との合金の形で使用さ
れ；それは、団塊の形をとりかつ被覆として使用するこ
とができない。他面、得るべき硬質の炭化物層を可能な
らしめる公知の被覆法が存在する。従って、材料を蒸気
相中で化学的に析出させる化学蒸着法またはＣＶＤ法を
使用するかまたは蒸気相の材料を物理的に析出させる物
理蒸着法またはＰＶＤ法を使用することにより金属また
はセラミック材料の製品に炭化チタンの硬質層を付着さ
せることができる。しかし、ＣＶＤ法は、８００ ’Ｃ
よりも高い温度を必要とし、かつＰＶＤ法によって処理
された製品は、３００°Ｃ〜４００°Ｃ程度の温度に達
する。炭化物を蒸着する他の方法は、溶融塩の雰囲気中
で８００ ’Ｃよりも高い温度で、特に電気化学的また
は“無電流”装置によって試みられた。上記の種々の方
法の主たる欠点は、包含される温度（これは、典型的に
は４００℃よりも高い）が高いことにあり、このことに
より、前記温度で変形しがちである材料、例えば銅もし
くはアルミニウム合金またはこのような温度で機械的性
質を失う材料、例えば硬質鋼は禁止されている。
発明を達成するための手段
従って、本発明の１つの目的は、硬質で耐摩耗性であり
かつ前記の欠点を有しない被覆を有する製品を得る方法
を提供することである。
かつ前記の欠点を有しない被覆を有する製品を得る方法
を提供することである。
本発明の池の目的は、双方硬質でありかつ製品の過剰な
温度上昇を包含しない層で製品を被覆する方法を提供す
ることである。
温度上昇を包含しない層で製品を被覆する方法を提供す
ることである。
本発明のもう１つの目的は、少なくとも１つの金属炭化
物を包含する硬質層で製品を被覆する方法を提供するこ
とである。
物を包含する硬質層で製品を被覆する方法を提供するこ
とである。
更に、本発明の他の目的は、少なくとも１つの金属炭化
物を包含する硬質被膜を有する製品を得ることである。
物を包含する硬質被膜を有する製品を得ることである。
本発明の特徴は、請求項１記載の対象および請求項２か
ら１０までのいずれか１項に記載の対象を形成する。
ら１０までのいずれか１項に記載の対象を形成する。
本発明の主たる利点は、既に機械加工されおよび／また
は処理された製品に製品の寸法特性および／または機織
的特性の如何なる実質的な変化もなしに炭化物を包含す
る硬質で薄手の被覆層を設けることか可能になるという
事実にある。このことは、原理的に製品の主体か低い温
度（これは、典型的には３００℃未満である）で全塗布
処理を通して残存するという事実に基づく。また、低い
融点を有する材料の使用も可能である。
は処理された製品に製品の寸法特性および／または機織
的特性の如何なる実質的な変化もなしに炭化物を包含す
る硬質で薄手の被覆層を設けることか可能になるという
事実にある。このことは、原理的に製品の主体か低い温
度（これは、典型的には３００℃未満である）で全塗布
処理を通して残存するという事実に基づく。また、低い
融点を有する材料の使用も可能である。
更に、本発明の目的、特徴および利点は、実施例による
特殊な構成の次の記載から明らかになるであろう：この
記載は、例示的なものにすぎない。
特殊な構成の次の記載から明らかになるであろう：この
記載は、例示的なものにすぎない。
実施例
例 １
本方法の第１工程は、電気メッキ装置によって硬質鋼を
ニッケル／タングステン（Ｎｉ−Ｗ）の合金層で被覆す
ることにある。この工程は、自体公知であり：その際に
使用された主なパラメーターの１例は、以下に記載され
ている：処理浴の組成： Ｎａ２Ｗ０．２Ｈ２０７０、
５９／ＱＮｉＳＯ４，６Ｈ２０６０９ＩＱ クエン酸 ９０ ９／（１ （ＮＨ４）２ｓＯ＋ ６０ ９／ρ水性Ｎ
Ｈ３、例えば６〈浴ｐＨ＜３ 浴温、 ７０°Ｃ析出時間
３０分間析出されたＮ１−Ｗ層の厚
さ ５μｍ本方法の第２工程は、析出層中に含有
されているタングステンに浸炭処理を実施することにあ
る。この処理は、処理すべき表面を浸炭雰囲気中でレー
ザービームを使用することにより掃引することによって
実施される。前記処理の条件の１例は、以下に記載され
ている： ＣＯ２レーザー ビームの直径 ４００μｍパルス幅
Ｑ 、 ｌ ｍ５ｅｃパルス周波数
２５０Ｈｚビームの掃引速度
１ＯＩＩＩＩＩｌ／５ｅｃ２つの掃引線間の距離
０．１ｍｍＣＨ４雰囲気の圧力 ０．５バ
ールこうして処理された製品の表面は、約２μｍの厚さ
でニッケルおよびタングステンの炭化物の組成を有する
ことが判明した。レーザー処理に対して異なるパラメー
ターは、塗布された層の実質的表面の重大な温度上昇が
包含される場合に、塗布された層の内部での全ての温度
上昇、殊に製品それ自体の温度上昇がなお少ないままで
あるように選択すべきであることが明らかとなる。この
ことは、殊に製品それ自体が処理の間に冷却される場合
か、第１の析出層が比較的に厚手である場合か、または
レーザービームの掃引速度が高い場合に行なわれる。し
かし、この種々のパラメーターは、選択される適用（例
えば、製品の材料の性質、またはその形状および寸法等
）に関連して定義されなければならない。
ニッケル／タングステン（Ｎｉ−Ｗ）の合金層で被覆す
ることにある。この工程は、自体公知であり：その際に
使用された主なパラメーターの１例は、以下に記載され
ている：処理浴の組成： Ｎａ２Ｗ０．２Ｈ２０７０、
５９／ＱＮｉＳＯ４，６Ｈ２０６０９ＩＱ クエン酸 ９０ ９／（１ （ＮＨ４）２ｓＯ＋ ６０ ９／ρ水性Ｎ
Ｈ３、例えば６〈浴ｐＨ＜３ 浴温、 ７０°Ｃ析出時間
３０分間析出されたＮ１−Ｗ層の厚
さ ５μｍ本方法の第２工程は、析出層中に含有
されているタングステンに浸炭処理を実施することにあ
る。この処理は、処理すべき表面を浸炭雰囲気中でレー
ザービームを使用することにより掃引することによって
実施される。前記処理の条件の１例は、以下に記載され
ている： ＣＯ２レーザー ビームの直径 ４００μｍパルス幅
Ｑ 、 ｌ ｍ５ｅｃパルス周波数
２５０Ｈｚビームの掃引速度
１ＯＩＩＩＩＩｌ／５ｅｃ２つの掃引線間の距離
０．１ｍｍＣＨ４雰囲気の圧力 ０．５バ
ールこうして処理された製品の表面は、約２μｍの厚さ
でニッケルおよびタングステンの炭化物の組成を有する
ことが判明した。レーザー処理に対して異なるパラメー
ターは、塗布された層の実質的表面の重大な温度上昇が
包含される場合に、塗布された層の内部での全ての温度
上昇、殊に製品それ自体の温度上昇がなお少ないままで
あるように選択すべきであることが明らかとなる。この
ことは、殊に製品それ自体が処理の間に冷却される場合
か、第１の析出層が比較的に厚手である場合か、または
レーザービームの掃引速度が高い場合に行なわれる。し
かし、この種々のパラメーターは、選択される適用（例
えば、製品の材料の性質、またはその形状および寸法等
）に関連して定義されなければならない。
例 ２
本方法の第１工程は、コバルト／タングステン（Ｃｏ−
Ｗ）合金の層を電気メッキにより析出させることによっ
て波膜を標準ゲージに塗布することにある。
Ｗ）合金の層を電気メッキにより析出させることによっ
て波膜を標準ゲージに塗布することにある。
処理浴の組成： Ｎａ３ＷＯ４，２Ｈ２０７０，５９／
ＱＣｏＳＯ４，７Ｈ２０６０９ＩＱ クエン酸 ９０ ｇ＃！ （ＮＨ４）２ＳＯ４６０９／Ｑ 水性ＮＨ３、例えば６〈浴ｐＨ＜ ８ 浴温： ７０°Ｃ析出されたＣ
ｏ−Ｗ層の厚さ ３μｍ本方法の第２段階は、
析出したＣ ｏ −Ｗ層上にコロイド状の黒鉛塗料を塗
布することあり、この場合この層の厚さは、あまり重要
ではない。次に、例えばレーザー処理を、例えば例１の
記載と同様に実施する。レーザー処理後、析出層は、極
めて高い耐摩耗性を有するコバルト／タングステン炭化
物の合金からなる。この最後に記載した層の厚さは、約
２μｍである。
ＱＣｏＳＯ４，７Ｈ２０６０９ＩＱ クエン酸 ９０ ｇ＃！ （ＮＨ４）２ＳＯ４６０９／Ｑ 水性ＮＨ３、例えば６〈浴ｐＨ＜ ８ 浴温： ７０°Ｃ析出されたＣ
ｏ−Ｗ層の厚さ ３μｍ本方法の第２段階は、
析出したＣ ｏ −Ｗ層上にコロイド状の黒鉛塗料を塗
布することあり、この場合この層の厚さは、あまり重要
ではない。次に、例えばレーザー処理を、例えば例１の
記載と同様に実施する。レーザー処理後、析出層は、極
めて高い耐摩耗性を有するコバルト／タングステン炭化
物の合金からなる。この最後に記載した層の厚さは、約
２μｍである。
前記例は、電気メッキ法のような低温法を使用すること
により、浸炭雰囲気中でレーザー処理の間に炭化物を得
ることができる元素を含有する第１層を析出することが
可能であることを示す。第１層には、タングステンをベ
ースとする合金、例えばタングステン／コバルト合金、
タングステン／ニッケル合金またはタングステン／鉄合
金、またはクロムをベースとする合金を使用することが
できる。また、合金元素の１つが炭化物を生じることが
できる池の合金も使用することができる。付加的に、第
１層の析出は、電気メッキ法とは別の方法によって実施
することができる。第１に重要なことは、使用される方
法で製品の性質または特徴が変化しうる水準を越えて処
理すべき製品の温度が上昇してはならないことにある。
により、浸炭雰囲気中でレーザー処理の間に炭化物を得
ることができる元素を含有する第１層を析出することが
可能であることを示す。第１層には、タングステンをベ
ースとする合金、例えばタングステン／コバルト合金、
タングステン／ニッケル合金またはタングステン／鉄合
金、またはクロムをベースとする合金を使用することが
できる。また、合金元素の１つが炭化物を生じることが
できる池の合金も使用することができる。付加的に、第
１層の析出は、電気メッキ法とは別の方法によって実施
することができる。第１に重要なことは、使用される方
法で製品の性質または特徴が変化しうる水準を越えて処
理すべき製品の温度が上昇してはならないことにある。
従って、第１層の析出は、蒸着法、スパッタリング法ま
たはイオンメッキ法によって実施することができる。前
記方法は、電気メッキ法よりも高価ではあるけれども、
一定の適用の場合には、有利である：例えば、イオンメ
ッキ法により、直接の析出を実施することができる。
たはイオンメッキ法によって実施することができる。前
記方法は、電気メッキ法よりも高価ではあるけれども、
一定の適用の場合には、有利である：例えば、イオンメ
ッキ法により、直接の析出を実施することができる。
本発明を種々の工業的分野に適用することかできるは、
容易に判断されるであろう。実施例を制限することがな
い場合には、標準ゲージ、ゲージ切削工具およびフェル
ールを使用する工具に適用することができる。
容易に判断されるであろう。実施例を制限することがな
い場合には、標準ゲージ、ゲージ切削工具およびフェル
ールを使用する工具に適用することができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、硬質層が耐摩耗性でありかつ少なくとも１つの金属
元素の炭化物を包含する、高温に敏感な製品を硬質層で
被覆する方法において、−該製品を金属元素の炭化物を
生じることができる少なくとも１つの金属元素を包含す
る層で被覆する第１工程；および −該層の表面を炭素を含有する雰囲気中でレーザービー
ムによって掃引し、この場合この掃引は、製品の温度上
昇が中位のままであるように実施される第２工程を包含
することを特徴とする、高温に敏感な製品を硬質層で被
覆する方法。 ２、第１工程を電気メッキにより実施する、請求項１記
載の方法。 ３、第１工程を蒸発により実施する、請求項１記載の方
法。 ４、第１工程をプラズマスパッタリングにより実施する
、請求項１記載の方法。 ５、第１工程をイオンメッキにより実施する、請求項１
記載の方法。 ６、浸炭雰囲気が炭素を包含する析出層からなる、請求
項１記載の方法。 ７、浸炭雰囲気が炭素を含有するガスからなる、請求項
１記載の方法。 ８、層がタングステンを含有する、請求項１記載の方法
。 ９、層がクロムを含有する、請求項１記載の方法。 １０、硬質の耐摩耗性層を有する被覆された製品におい
て、該層が請求項１から９までのいずれか１項に記載さ
れた方法によって得られた少なくとも１つの金属元素の
炭化物を包含することを特徴とする、被覆製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH3761/87-7 | 1987-09-29 | ||
| CH376187A CH674523A5 (ja) | 1987-09-29 | 1987-09-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01165755A true JPH01165755A (ja) | 1989-06-29 |
Family
ID=4262933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24120688A Pending JPH01165755A (ja) | 1987-09-29 | 1988-09-28 | 高温に敏感な製品を硬質層で被覆する方法および被覆製品 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0310560A3 (ja) |
| JP (1) | JPH01165755A (ja) |
| CH (1) | CH674523A5 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005248324A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-09-15 | Honda Motor Co Ltd | 金属材表面処理方法 |
| JP2005256165A (ja) * | 2004-02-09 | 2005-09-22 | Honda Motor Co Ltd | 不動態膜除去方法 |
| US7425093B2 (en) * | 2003-07-16 | 2008-09-16 | Cabot Corporation | Thermography test method and apparatus for bonding evaluation in sputtering targets |
| US7993497B2 (en) * | 2005-11-21 | 2011-08-09 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Magnetic disk and magnetic disk manufacturing method |
| US8414710B2 (en) | 2004-02-04 | 2013-04-09 | Honda Motor Co., Ltd. | Method for surface treatment of metal material |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2169318A (en) * | 1985-01-04 | 1986-07-09 | Rolls Royce | Metal surface hardening by carbide formation |
-
1987
- 1987-09-29 CH CH376187A patent/CH674523A5/fr not_active IP Right Cessation
-
1988
- 1988-09-26 EP EP88810659A patent/EP0310560A3/fr not_active Withdrawn
- 1988-09-28 JP JP24120688A patent/JPH01165755A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7425093B2 (en) * | 2003-07-16 | 2008-09-16 | Cabot Corporation | Thermography test method and apparatus for bonding evaluation in sputtering targets |
| JP2005248324A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-09-15 | Honda Motor Co Ltd | 金属材表面処理方法 |
| JP4494995B2 (ja) * | 2004-02-04 | 2010-06-30 | 本田技研工業株式会社 | 金属材表面処理方法 |
| US8414710B2 (en) | 2004-02-04 | 2013-04-09 | Honda Motor Co., Ltd. | Method for surface treatment of metal material |
| JP2005256165A (ja) * | 2004-02-09 | 2005-09-22 | Honda Motor Co Ltd | 不動態膜除去方法 |
| JP4494996B2 (ja) * | 2004-02-09 | 2010-06-30 | 本田技研工業株式会社 | 不動態膜除去方法 |
| US7993497B2 (en) * | 2005-11-21 | 2011-08-09 | Wd Media (Singapore) Pte. Ltd. | Magnetic disk and magnetic disk manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0310560A2 (fr) | 1989-04-05 |
| CH674523A5 (ja) | 1990-06-15 |
| EP0310560A3 (fr) | 1989-12-06 |
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