JP2756963B2 - 新規な４，４−ジメチルテトラヒドロ−１−ピロン誘導体、その製造法及びピレスリノイド化合物の合成への使用 - Google Patents
新規な４，４−ジメチルテトラヒドロ−１−ピロン誘導体、その製造法及びピレスリノイド化合物の合成への使用Info
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- JP2756963B2 JP2756963B2 JP63001419A JP141988A JP2756963B2 JP 2756963 B2 JP2756963 B2 JP 2756963B2 JP 63001419 A JP63001419 A JP 63001419A JP 141988 A JP141988 A JP 141988A JP 2756963 B2 JP2756963 B2 JP 2756963B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D493/00—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
- C07D493/02—Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D493/04—Ortho-condensed systems
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- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D307/93—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with a ring other than six-membered
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な4,4−ジメチルテトラヒドロ−１−
ピロン誘導体、その製造法及びピレスリノイド化合物の
合成への使用に関する。
ピロン誘導体、その製造法及びピレスリノイド化合物の
合成への使用に関する。
しかして、本発明の主題は、新規化合物としてのＤ、
Ｌ及びDL形の次式（Ｉ） の化合物並びにこれら各種の形の混合物にある。
Ｌ及びDL形の次式（Ｉ） の化合物並びにこれら各種の形の混合物にある。
式（Ｉ）の化合物は、Ｄ又はＬ形で又はDL形で存在で
きる。
きる。
本発明の好ましい化合物としては、DL形の式（Ｉ）の
化合物があげられる。
化合物があげられる。
また、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物を製造する
方法であつて、次式（II） の化合物にエポキシ化剤を作用させて式（Ｉ）の化合物
を得、要すればこの化合物をそのエナンチオマーのそれ
ぞれに分離することを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製
造法にある。
方法であつて、次式（II） の化合物にエポキシ化剤を作用させて式（Ｉ）の化合物
を得、要すればこの化合物をそのエナンチオマーのそれ
ぞれに分離することを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製
造法にある。
エポキシ化剤としては、過酢酸、トリフルオル過過
酸、過フタル酸、ｐ−ニトロ過安息香酸、ｍ−クロル過
安息香酸、モノ過樟脳酸のような過酸、又はアルカリ性
溶液中での過酸化水素、又はヘキサフルオルアセトンヒ
ドロペルオキシド、生化学的エポキシ化剤、単離された
酵素又は生化学的経路を伴なうものなどがあげられる。
酸、過フタル酸、ｐ−ニトロ過安息香酸、ｍ−クロル過
安息香酸、モノ過樟脳酸のような過酸、又はアルカリ性
溶液中での過酸化水素、又はヘキサフルオルアセトンヒ
ドロペルオキシド、生化学的エポキシ化剤、単離された
酵素又は生化学的経路を伴なうものなどがあげられる。
したがつて、さらに詳しくは、本発明は、エポキシ化
剤が無機若しくは有機過酸、又は過酸化水素単独若しく
は酸素原子を移動させることができる酸化剤の存在下で
の過酸化水素、又は単離された生化学剤（酵素）若しく
は微生物酸化を伴なう複雑な媒質中の生化学剤であるこ
とを特徴とする製造法にある。
剤が無機若しくは有機過酸、又は過酸化水素単独若しく
は酸素原子を移動させることができる酸化剤の存在下で
の過酸化水素、又は単離された生化学剤（酵素）若しく
は微生物酸化を伴なう複雑な媒質中の生化学剤であるこ
とを特徴とする製造法にある。
好ましいエポキシ化剤としては、ｍ−クロル過安息香
酸があげられる。
酸があげられる。
また、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物を製造する
方法であつて、次式（II） の化合物に金属触媒及びキラルな試剤の存在下にエポキ
シ化剤を作用させて次式（IA） の（5R,6S）−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−
２−ピロンと次式（IB） の光学的対掌体、即ち、（5S,6R）−エポキシ−4,4−ジ
メチルテトラヒドロ−２−ピロンとの非等分子比にある
混合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造
法にある。
方法であつて、次式（II） の化合物に金属触媒及びキラルな試剤の存在下にエポキ
シ化剤を作用させて次式（IA） の（5R,6S）−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−
２−ピロンと次式（IB） の光学的対掌体、即ち、（5S,6R）−エポキシ−4,4−ジ
メチルテトラヒドロ−２−ピロンとの非等分子比にある
混合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造
法にある。
上記の製造法ではキラルな試剤によつて式（IA）又は
（IB）の化合物が優先的に得られる。
（IB）の化合物が優先的に得られる。
特に、本発明の主題は、金属触媒がモリブデンヘキサ
カルボニルである前記製造法にある。
カルボニルである前記製造法にある。
チタン、バナジウム、セレン又はオスミウムの誘導体
も金属触媒として用いることができる。
も金属触媒として用いることができる。
さらに詳しくは、本発明の主題は、キラルな試剤がＬ
（＋）−又はＤ（−）−酒石酸ジアルキル（ここでアル
キル基は１〜６個の炭素原子を含有する）である前記の
製造法にある。
（＋）−又はＤ（−）−酒石酸ジアルキル（ここでアル
キル基は１〜６個の炭素原子を含有する）である前記の
製造法にある。
キラルな試剤としては、Ｌ（＋）−又はＤ（−）−酒
石酸ジイソプロピル、或るいはＬ（＋）−又はＤ（−）
−酒石酸ジエチルがあげられる。
石酸ジイソプロピル、或るいはＬ（＋）−又はＤ（−）
−酒石酸ジエチルがあげられる。
好ましくは具体例としては、エポキシ化がＬ（＋）−
酒石酸ジエチル又はモリブデンヘキサカルボニルの存在
下で行われる製造法があげられる。
酒石酸ジエチル又はモリブデンヘキサカルボニルの存在
下で行われる製造法があげられる。
好ましいエポキシ化剤としては、ｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシドがあげられる。また、前記したようなエポキ
シ化剤から選ばれる他のエポキシ化剤、例えば過酸化水
素又は過酸を用いることもできる。
ルオキシドがあげられる。また、前記したようなエポキ
シ化剤から選ばれる他のエポキシ化剤、例えば過酸化水
素又は過酸を用いることもできる。
前記の方法によれば、共役もしていないしまたα−位
置でヒドロキシル化もされていない二重結合のエナンチ
オマー選択的エポキシ化を達成することができる。
置でヒドロキシル化もされていない二重結合のエナンチ
オマー選択的エポキシ化を達成することができる。
式（Ｉ）の化合物は、特に、フランス国特許第1,580,
474号並びにヨーロッパ特許第0,023,454号及び同0,024,
241号に記載された次式（VI） の化合物の合成に用いることができる。
474号並びにヨーロッパ特許第0,023,454号及び同0,024,
241号に記載された次式（VI） の化合物の合成に用いることができる。
しかして、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物に次式
（III） Ｒ−OH （III） （ここでＲは１個以上の官能基で置換されていてよくま
たヘテロ原子を含有していてもよい線状、分岐状若しく
は環状のアルキル基を表わし、又はＲは18個までの炭素
原子を含有するアラルキル基を表わし、又はＲは14個ま
での炭素原子を含有するアリール基を表わす） のアルコールを作用させて対応する次式（IV） の化合物を得、この化合物に次式 Ｚ−Ｘ 〔ここでＸはハロゲン原子を表わし、Ｚは基R1A（ここ
でR1は１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基を表わし、Ａは−SO2−
基を表わす）又は次式 （ここでR2及びR3は同一又は異なっていてよく、１〜８
個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす） の基を表わす〕 の化合物を作用させて次式（Ｖ） の化合物を得、この化合物に塩基性試剤を作用させて次
式（VI） （ここでＲは前記したものと同じ意味を有する） の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物を式
（VI）の化合物の製造に使用する方法にある。
（III） Ｒ−OH （III） （ここでＲは１個以上の官能基で置換されていてよくま
たヘテロ原子を含有していてもよい線状、分岐状若しく
は環状のアルキル基を表わし、又はＲは18個までの炭素
原子を含有するアラルキル基を表わし、又はＲは14個ま
での炭素原子を含有するアリール基を表わす） のアルコールを作用させて対応する次式（IV） の化合物を得、この化合物に次式 Ｚ−Ｘ 〔ここでＸはハロゲン原子を表わし、Ｚは基R1A（ここ
でR1は１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基を表わし、Ａは−SO2−
基を表わす）又は次式 （ここでR2及びR3は同一又は異なっていてよく、１〜８
個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす） の基を表わす〕 の化合物を作用させて次式（Ｖ） の化合物を得、この化合物に塩基性試剤を作用させて次
式（VI） （ここでＲは前記したものと同じ意味を有する） の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物を式
（VI）の化合物の製造に使用する方法にある。
Ｒがアルキル基を表わすときは、それは好ましくはメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、シクロプ
ロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、ｎ−
ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メンチル
又は1,1−ジメチルアリル基である。このアルキル基の
置換基である官能基とは、好ましくはハロゲン原子、OH
若しくはSH基、OR′若しくはSR′基（Ｒ′は１〜８個の
炭素原子を含有するアルキル基を表わす）、NO2基、 は同一又は異なつていてよく、水素原子又は１〜８個の
炭素原子を含有するアルキル基を表わす）、−Ｃ＝Ｎ−
基、PO4H2、又はCO alk′１、SO2 alk′２若しくはSO3
alk′３（alk′１、alk′２又はalk′３は１〜18個の炭
素原子を有するアルキル基を表わす）を意味する。
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、シクロプ
ロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロブチル、ｎ−
ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メンチル
又は1,1−ジメチルアリル基である。このアルキル基の
置換基である官能基とは、好ましくはハロゲン原子、OH
若しくはSH基、OR′若しくはSR′基（Ｒ′は１〜８個の
炭素原子を含有するアルキル基を表わす）、NO2基、 は同一又は異なつていてよく、水素原子又は１〜８個の
炭素原子を含有するアルキル基を表わす）、−Ｃ＝Ｎ−
基、PO4H2、又はCO alk′１、SO2 alk′２若しくはSO3
alk′３（alk′１、alk′２又はalk′３は１〜18個の炭
素原子を有するアルキル基を表わす）を意味する。
Ｒがヘテロ原子で中断されたアルキル基を表わすとき
は、それは好ましくはCH2OCH3、（CH2）2OCH3、CH2CH2O
CH2CH3、 基である。
は、それは好ましくはCH2OCH3、（CH2）2OCH3、CH2CH2O
CH2CH3、 基である。
Ｒがアラルキル基を表わすときは、それは、好ましく
はベンジル基である。
はベンジル基である。
Ｒがアリール基を表わすときは、それは好ましくはフ
エニル基である。
エニル基である。
Ｘは好ましくは塩素又は臭素原子を表わす。
Ｚの定義において、R1、R2及びR3は、好ましくはメチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル
若しくはｎ−ブチル基、又は１個以上のアルキル基で置
換されていてよいフエニル基を表わす。
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル
若しくはｎ−ブチル基、又は１個以上のアルキル基で置
換されていてよいフエニル基を表わす。
式（Ｖ）の化合物に作用させる塩基性試剤としては、
水素化金属、アルカリ金属又はアルカリ土金属アルコラ
ート、有機金属誘導体、水酸化アルカリ金属又はアルカ
リ土金属、炭酸アルカリ金属又はアルカリ土金属及び第
三アミドがあげられる。
水素化金属、アルカリ金属又はアルカリ土金属アルコラ
ート、有機金属誘導体、水酸化アルカリ金属又はアルカ
リ土金属、炭酸アルカリ金属又はアルカリ土金属及び第
三アミドがあげられる。
好ましい塩基性試剤としては、水酸化ナトリウム又は
水酸化カリウムがあげられる。
水酸化カリウムがあげられる。
さらに特定すれば、本発明の主題は、式（Ｉ）の化合
物がラセミ体であり、式（IV）の化合物がラセミ体であ
つて基RO（Ｒは前記の通りである）及びOHがtrans位置
にあるものであり、式（Ｖ）の化合物がラセミ体であつ
て基ZO（Ｚは前記の通りである）及びORがtrans位置に
あるものであり、そして得られる式（IV）の化合物がラ
セミ体であることを特徴とする方法にある。
物がラセミ体であり、式（IV）の化合物がラセミ体であ
つて基RO（Ｒは前記の通りである）及びOHがtrans位置
にあるものであり、式（Ｖ）の化合物がラセミ体であつ
て基ZO（Ｚは前記の通りである）及びORがtrans位置に
あるものであり、そして得られる式（IV）の化合物がラ
セミ体であることを特徴とする方法にある。
特に、本発明の主題は、Ｒがメチル、エチル又はｔ−
ブチル基を表わすことを特徴とする方法並びにＺが−SO
2CH3基を表わすことを特徴とする方法にある。
ブチル基を表わすことを特徴とする方法並びにＺが−SO
2CH3基を表わすことを特徴とする方法にある。
また、本発明の主題は、次式 （1R）−cis−3,3−ジメチル−２−（ジヒドロキシメチ
ル）−１−シクロプロパンカルボン酸のラクトン（化合
物Ｐ）のエナンチオマー選択的製造を特徴とする方法に
ある。化合物Ｐは生物活性ピレスリノイドの合成に用い
られる（例えば、フランス国特許第1,580,474号参
照）。
ル）−１−シクロプロパンカルボン酸のラクトン（化合
物Ｐ）のエナンチオマー選択的製造を特徴とする方法に
ある。化合物Ｐは生物活性ピレスリノイドの合成に用い
られる（例えば、フランス国特許第1,580,474号参
照）。
化合物Ｐの製造は次式によつて要約できる。
〔実施例〕 以下の実施例は本発明を例示するものであつて、本発
明を何ら制限するものではない。
明を何ら制限するものではない。
例1:ラセミ形の5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒ
ドロ−２−ピロン 25.2gの4,4−ジメチル−3,4−ジヒドロ−α−ピロン
の溶液に０℃で43.16gのｍ−クロル過安息香酸を加え
る。反応混合物を３時間かきまぜ、温度を室温まで上昇
させる。得られた沈殿を過し、塩化メチレンでペース
ト状となし、液をチオ硫酸ナトリウム溶液で、次いで
重炭酸ナトリウム飽和溶液で洗い、最後に水洗する。有
機相を乾燥し、減圧下に蒸発乾固する。これにより28.5
gの粗生成物を回収した。このものをシリカでクロマト
グラフイーし、ヘキサンとイソプロピルエーテルとの混
合物で溶離することによつて精製し23.08gの所望化合物
を得た。融点約22℃。
ドロ−２−ピロン 25.2gの4,4−ジメチル−3,4−ジヒドロ−α−ピロン
の溶液に０℃で43.16gのｍ−クロル過安息香酸を加え
る。反応混合物を３時間かきまぜ、温度を室温まで上昇
させる。得られた沈殿を過し、塩化メチレンでペース
ト状となし、液をチオ硫酸ナトリウム溶液で、次いで
重炭酸ナトリウム飽和溶液で洗い、最後に水洗する。有
機相を乾燥し、減圧下に蒸発乾固する。これにより28.5
gの粗生成物を回収した。このものをシリカでクロマト
グラフイーし、ヘキサンとイソプロピルエーテルとの混
合物で溶離することによつて精製し23.08gの所望化合物
を得た。融点約22℃。
NMRスペクトル、CDCl3 gem−メチルのプロトン 1.13−1.26ppm ３位置のプロトン 2.03−2.75ppm ６位置のプロトン 5.22−5.27ppm 他のプロトン（５位置） 2.98−3.05ppm 例2:（5R,6S）−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ
−２−ピロン（化合物IA）及び（5S,6R）−エポキシ−
4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン（化合物IB） 2.52gの4,4−ジメチル−3,4−ジヒドロ−α−ピロ
ン、25ccのトルエン（シリポライト上に貯蔵した）、4.
12gのＬ（＋）−酒石酸ジエチル及び110mgのモリブデン
ヘキサカルボニルを含有する溶液を０℃に冷却する。次
いで25ccの2.9Mt−ブチルヒドロペルオキシドトルエン
溶液を０℃で加える。反応混合物を周囲温度に戻し、20
日間かきまぜ続ける。反応混合物を10gの酒石酸、25gの
硫酸第二鉄及び100ccの水よりなる溶液中に注ぐ。トル
エンで洗浄し、混合物を15℃〜20℃で１時間かきまぜ
る。沈降させ、生成物をトルエンで抽出し、抽出物を水
洗し、乾燥し、溶媒の除去が完全となるまで蒸留する。
得られた油状物をクロマトグラフイーし、ヘキサン／イ
ソプロピルエーテル（1:1）混合物で溶離する。Rf＝0.1
5を有する生成物を単離した。溶媒を蒸発させた後、436
mgの生成物を回収し、これを再びクロマトグラフイー
し、ヘキサン／酢酸エチル（85:15）混合物で溶離す
る。Rf＝0.2を有する生成物を単離し、溶媒を真空下に
除去し、232mgの所望生成物を回収した。融点22℃。
〔α〕Ｄ＝−33゜±２゜（ｃ＝0.6％トルエン）。
−２−ピロン（化合物IA）及び（5S,6R）−エポキシ−
4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン（化合物IB） 2.52gの4,4−ジメチル−3,4−ジヒドロ−α−ピロ
ン、25ccのトルエン（シリポライト上に貯蔵した）、4.
12gのＬ（＋）−酒石酸ジエチル及び110mgのモリブデン
ヘキサカルボニルを含有する溶液を０℃に冷却する。次
いで25ccの2.9Mt−ブチルヒドロペルオキシドトルエン
溶液を０℃で加える。反応混合物を周囲温度に戻し、20
日間かきまぜ続ける。反応混合物を10gの酒石酸、25gの
硫酸第二鉄及び100ccの水よりなる溶液中に注ぐ。トル
エンで洗浄し、混合物を15℃〜20℃で１時間かきまぜ
る。沈降させ、生成物をトルエンで抽出し、抽出物を水
洗し、乾燥し、溶媒の除去が完全となるまで蒸留する。
得られた油状物をクロマトグラフイーし、ヘキサン／イ
ソプロピルエーテル（1:1）混合物で溶離する。Rf＝0.1
5を有する生成物を単離した。溶媒を蒸発させた後、436
mgの生成物を回収し、これを再びクロマトグラフイー
し、ヘキサン／酢酸エチル（85:15）混合物で溶離す
る。Rf＝0.2を有する生成物を単離し、溶媒を真空下に
除去し、232mgの所望生成物を回収した。融点22℃。
〔α〕Ｄ＝−33゜±２゜（ｃ＝0.6％トルエン）。
IA/IBの比は3:2である。
例３ Ｄ（−）−酒石酸ジエチルを用いて例２と同じ態様で
実施することによつてIA/IB＝2.3である所期化合物の混
合物を得た。
実施することによつてIA/IB＝2.3である所期化合物の混
合物を得た。
例４ Ｌ（＋）−酒石酸ジエチルの代りにＬ（＋）−酒石酸
ジイソプロピルを用いることを除いて、例２と同じ態様
で実施することによつて例２と同じ結果を得た。
ジイソプロピルを用いることを除いて、例２と同じ態様
で実施することによつて例２と同じ結果を得た。
例２、３及び４において、エナンチオマー純度は、20
％のトリス〔３−（トリフルオルメチルヒドロキシメチ
レン）−（＋）−カルホラト〕ユーロピウムIII、Eu（t
fc）３の存在下にNMRにより評価した。
％のトリス〔３−（トリフルオルメチルヒドロキシメチ
レン）−（＋）−カルホラト〕ユーロピウムIII、Eu（t
fc）３の存在下にNMRにより評価した。
CDCl3中の振動数（ppm） 応用例1:DL−６−メトキシ−５−ヒドロキシ−4,4−ジ
メチルテトラヒドロ−２−ピロン 1.42gの5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ
−２−ピロン（mp22℃）、14ccの塩化メチレン及び32
0mgのメタノールを含有する溶液に１滴のｐ−トルエン
スルホン酸を15℃で加える。混合物を３時間30分かきま
ぜて温度を−10℃に上昇させ、0.4ccのメタノールを加
え、混合物を−10℃で16時間かきまぜ、40.4ccのメタノ
ールと少量のｐ−トルエンスルホン酸を加える。この混
合物を48時間かきまぜて室温に戻す。沈降させ、有機相
を重炭酸ナトリウム飽和溶液で洗い、次いで水洗し、乾
燥し、減圧下に蒸留乾固する。しかして、1.45gの粗生
成物を回収し、これをシリカでクロマトグラフイーし、
ヘキサン／酢酸エチル（1:1）混合物で溶離する。1.42g
の所望化合物を得た。融点72℃。Rf＝0.20。
メチルテトラヒドロ−２−ピロン 1.42gの5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ
−２−ピロン（mp22℃）、14ccの塩化メチレン及び32
0mgのメタノールを含有する溶液に１滴のｐ−トルエン
スルホン酸を15℃で加える。混合物を３時間30分かきま
ぜて温度を−10℃に上昇させ、0.4ccのメタノールを加
え、混合物を−10℃で16時間かきまぜ、40.4ccのメタノ
ールと少量のｐ−トルエンスルホン酸を加える。この混
合物を48時間かきまぜて室温に戻す。沈降させ、有機相
を重炭酸ナトリウム飽和溶液で洗い、次いで水洗し、乾
燥し、減圧下に蒸留乾固する。しかして、1.45gの粗生
成物を回収し、これをシリカでクロマトグラフイーし、
ヘキサン／酢酸エチル（1:1）混合物で溶離する。1.42g
の所望化合物を得た。融点72℃。Rf＝0.20。
NMRスペクトル、CDCl3 OCH3のＨ 3.6ppm gem−メチルのプロトン 1.06−1.1ppm ３位置のプロトン 2.2−2.4ppm 2.5−2.77ppm ６位置のプロトン 4.95−5.06ppm ５位置のプロトン 3.4−3.5ppm 応用例2:6,6−ジメチル−４−（１−メチルエトキシ）
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン 工程A:DL−６−（１−メチルエトキシ）−５−ヒドロキ
シ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン 7gの5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２
−ピロン、35ccの１−メチルエタノール及び350mgのｐ
−トルエンスルホン酸を室温で23時間かきまぜ続ける。
反応混合物を水で希釈し、塩化メチレンで抽出し、抽出
物を重炭酸ナトリウム飽和水溶液で洗い、減圧下に蒸留
乾固する。このようにして9.18gの粗製の所望化合物を
得、これをシリカでクロマトグラフイーし、ヘキサン／
酢酸エチル混合物で溶離することによつて精製する。2.
597gの所望化合物を得た。融点50℃。
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン 工程A:DL−６−（１−メチルエトキシ）−５−ヒドロキ
シ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン 7gの5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２
−ピロン、35ccの１−メチルエタノール及び350mgのｐ
−トルエンスルホン酸を室温で23時間かきまぜ続ける。
反応混合物を水で希釈し、塩化メチレンで抽出し、抽出
物を重炭酸ナトリウム飽和水溶液で洗い、減圧下に蒸留
乾固する。このようにして9.18gの粗製の所望化合物を
得、これをシリカでクロマトグラフイーし、ヘキサン／
酢酸エチル混合物で溶離することによつて精製する。2.
597gの所望化合物を得た。融点50℃。
NMRのスペクトル、CDCl3 メチルのプロトン 1.06〜1.31ppm ３位置炭素のプロトン 2.38〜2.41ppm ５位置炭素のプロトン 3.4 〜3.5 ppm ６位置炭素のプロトン 5.1 〜5.2 ppm 工程B:6−（１−メチルエトキシ）−５−メチルスルホ
ニルオキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン 1.556gの６−（１−メチルエトキシ）−５−ヒドロキ
シ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン、7.5ccの
ピリジン及び1ccの塩化メタンスルニルを３時間かきま
ぜ続ける。反応混合物を1N塩酸で希釈し、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、減圧下に蒸留乾固
する。2.096gの所望化合物を得た。融点75℃。
ニルオキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン 1.556gの６−（１−メチルエトキシ）−５−ヒドロキ
シ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン、7.5ccの
ピリジン及び1ccの塩化メタンスルニルを３時間かきま
ぜ続ける。反応混合物を1N塩酸で希釈し、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、減圧下に蒸留乾固
する。2.096gの所望化合物を得た。融点75℃。
NMRスペクトル、CDCl3 gem−メチルのプロトン 1.06〜1.31ppm ３位置炭素のプロトン 2.38〜2.41ppm ５位置炭素のプロトン 3.4 〜3.5 ppm ６位置炭素のプロトン 5.1 〜5.2 ppm メチルエトキシ基のメチルのプロトン1.23及び1.27pp
m １−メチルエトキシ基の１位置炭素のプロトン4.14pp
m 工程C:6,6−ジメチル−４−（１−メチルエトキシ）−
３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン、ラ
セミ形 1.94gの６−（１−メチルエトキシ）−５−メチルス
ルホニルオキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピ
ロン、10容の塩化メチレン、2.5重量％の塩化トリエチ
ルブチルアンモニウム及び５容の50％濃度水酸化ナトリ
ウム溶液を含有する混合物をかきまぜ続ける。反応の進
展をTLCにより追跡する。反応が完了したならば、反応
混合物を塩水溶液で希釈し、塩化メチレンで抽出し、抽
出物を塩水溶液で洗う。抽出物を乾燥し、溶媒が完全に
除去されるまで減圧蒸留する。残留物をシリカでクロマ
トグラフイーし、ヘキサン／酢酸エチル（1:1）混合物
で溶離する。908mgの所望混合物を得た。融点約50℃。
m １−メチルエトキシ基の１位置炭素のプロトン4.14pp
m 工程C:6,6−ジメチル−４−（１−メチルエトキシ）−
３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン、ラ
セミ形 1.94gの６−（１−メチルエトキシ）−５−メチルス
ルホニルオキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピ
ロン、10容の塩化メチレン、2.5重量％の塩化トリエチ
ルブチルアンモニウム及び５容の50％濃度水酸化ナトリ
ウム溶液を含有する混合物をかきまぜ続ける。反応の進
展をTLCにより追跡する。反応が完了したならば、反応
混合物を塩水溶液で希釈し、塩化メチレンで抽出し、抽
出物を塩水溶液で洗う。抽出物を乾燥し、溶媒が完全に
除去されるまで減圧蒸留する。残留物をシリカでクロマ
トグラフイーし、ヘキサン／酢酸エチル（1:1）混合物
で溶離する。908mgの所望混合物を得た。融点約50℃。
NMRスペクトル、CDCl3 gem−メチルのプロトン 1.17〜1.2 ppm ヘキサンの１及び５位置のプロトン 2.02ppm １−メチルエトキシ基を持つ炭素のプロトン5.27ppm
エトキシ基の１位置炭素のプロトン 3.82−4.21ppm 応用例3:6,6−ジメチル−４−（1,1−ジメチルエトキ
シ）−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オ
ン 工程A:6−（1,1−ジメチルエトキシ）−５−ヒドロキシ
−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン 500mgの5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ
ピリジン、5ccの1,1−ジメチルエタノール及び2.5mgの
ｐ−トルエンスルホン酸を室温で41時間かきまぜる。1c
cのピリジンを加え、混合物を溶媒が完全に除去される
まで減圧蒸留する。このようにして得られた生成物は、
さらに処理することなく次の工程に用いる。
エトキシ基の１位置炭素のプロトン 3.82−4.21ppm 応用例3:6,6−ジメチル−４−（1,1−ジメチルエトキ
シ）−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オ
ン 工程A:6−（1,1−ジメチルエトキシ）−５−ヒドロキシ
−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロン 500mgの5,6−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ
ピリジン、5ccの1,1−ジメチルエタノール及び2.5mgの
ｐ−トルエンスルホン酸を室温で41時間かきまぜる。1c
cのピリジンを加え、混合物を溶媒が完全に除去される
まで減圧蒸留する。このようにして得られた生成物は、
さらに処理することなく次の工程に用いる。
工程B:6−（1,1−ジメチルエトキシ）−５−メチルスル
ホニルオキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロ
ン 工程Ａで得た生成物に5ccのピリジンと1ccの塩化メタ
ンスルホニルを加える。反応混合物を３時間30分かきま
ぜ続ける。次いでこれを1N塩酸で希釈し、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、得られた生成物を
減圧蒸留する。このようにして677mgの所望化合物を粗
製で得、これをシリカでクロマトグラフイーし、ヘキサ
ン／酢酸エチル（7:3）混合物で溶離することによつて
精製する。410mgの所望化合物を得た。融点64℃。
ホニルオキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−２−ピロ
ン 工程Ａで得た生成物に5ccのピリジンと1ccの塩化メタ
ンスルホニルを加える。反応混合物を３時間30分かきま
ぜ続ける。次いでこれを1N塩酸で希釈し、塩化メチレン
で抽出し、抽出物を水洗し、乾燥し、得られた生成物を
減圧蒸留する。このようにして677mgの所望化合物を粗
製で得、これをシリカでクロマトグラフイーし、ヘキサ
ン／酢酸エチル（7:3）混合物で溶離することによつて
精製する。410mgの所望化合物を得た。融点64℃。
NMRスペクトル、CDCl3 gem−メチルのプロトン 1.06〜1.20ppm ３位置炭素のプロトン 2.23〜2.56ppm ６位置炭素のプロトン 5.58ppm ５位置炭素のプロトン 4.5 ppm OSO2CH3基のメチルのプロトン 3.13ppm 工程C:6,6−ジメチル−４−（1,1−ジメチルエトキシ）
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン 例２の6,6−ジメチル−４−（１−メチルエトキシ）
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンの
製造と同じ方法により、100mgの対応1,1−ジメチルエト
キシ化合物より出発して実施することによつて、52mgの
所望化合物を得た。融点115℃。
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オン 例２の6,6−ジメチル−４−（１−メチルエトキシ）
−３−オキサビシクロ〔3.1.0〕ヘキサン−２−オンの
製造と同じ方法により、100mgの対応1,1−ジメチルエト
キシ化合物より出発して実施することによつて、52mgの
所望化合物を得た。融点115℃。
NMRスペクトル、CDCl3 gem−メチルのプロトン 1.14〜1.19ppm シクロプロパンの１及び３位置炭素のプロトン2.23〜
2.56ppm 1,1−ジメチルエトキシ基を持つ炭素のプロトン5.36p
pm 1,1−ジメチルエトキシ基のメチルのプロトン1.3 ppm
2.56ppm 1,1−ジメチルエトキシ基を持つ炭素のプロトン5.36p
pm 1,1−ジメチルエトキシ基のメチルのプロトン1.3 ppm
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07D 493/00 - 493/22 C07D 309/00 - 309/40
Claims (7)
- 【請求項１】新規な次式（Ｉ） の化合物。
- 【請求項２】請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物を製造
する方法であって、次式（II） の化合物にエポキシ化剤を作用させて式（Ｉ）の化合物
を得、要すればこの化合物をそのエナンチオマーのそれ
ぞれに分離することを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製
造法。 - 【請求項３】エポキシ化剤が無機若しくは有機過酸、又
は過酸化水素単独、又は酸素原子を移動させることがで
きる酸化剤の存在下での過酸化水素、又は単離された生
化学剤若しくは微生物酸化を伴なう複雑な媒質中の生化
学剤であることを特徴とする請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物を製造
する方法であって、次式（II） の化合物に金属触媒及びキラルな試剤の存在下にエポキ
シ化剤を作用させて次式（IA） の（5R,6S）−エポキシ−4,4−ジメチルテトラヒドロ−
２−ピロンと次式（IB） の光学的対掌体、即ち、（5S,6R）−エポキシ−4,4−ジ
メチルテトラヒドロ−２−ピロンとの非等分子比にある
混合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物の製造
法。 - 【請求項５】金属触媒がモリブデンヘキサカルボニルで
あり、キラルな試剤がＬ（＋）−又はＤ（−）−酒石酸
ジアルキルであり、エポキシ化剤がｔ−ブチルヒドロペ
ルオキシドであることを特徴とする請求項４記載の製造
法。 - 【請求項６】請求項１に記載の式（Ｉ）の化合物に次式
（III） Ｒ−OH （III） （ここでＲは１個以上の官能基で置換されていてよく、
またヘテロ原子を含有していてもよい線状、分岐状若し
くは環状のアルキル基を表わし、又はＲは18個までの炭
素原子を含有するアラルキル基を表わし、又はＲは14個
までの炭素原子を含有するアリール基を表わす。） のアルコールを作用させて対応する次式（IV） の化合物を得、この化合物に次式 Ｚ−Ｘ 〔ここでＸはハロゲン原子を表わし、Ｚは基R1A（ここ
でR1は１〜８個の炭素原子を含有するアルキル基又は置
換されていてもよいアリール基を表わし、Ａは−SO2−
基を表わす。）又は次式 （ここでR2及びR3は同一又は異なっていてよく、１〜８
個の炭素原子を含有するアルキル基を表わす。） の基を表わす。〕 の化合物を作用させて次式（Ｖ） の化合物を得、この化合物に塩基性試剤を作用させて次
式（VI） （ここでＲは前記したものと同じ意味を有する。） の化合物を得ることを特徴とする式（Ｉ）の化合物を式
（VI）の化合物の製造に使用する方法。 - 【請求項７】式（Ｉ）の化合物がラセミ体であり、式
（IV）の化合物がラセミ体であって基RO（ここでＲは前
記の通りである。）及びOHがトランス位置にあるもので
あり、式（Ｖ）の化合物がラセミ体であって基ZO（ここ
でＺは前記の通りである。）及びORがトランス位置にあ
るものであり、そして得られる式（VI）の化合物がラセ
ミ体であることを特徴とする請求項６記載の方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8700150A FR2609466B1 (fr) | 1987-01-09 | 1987-01-09 | Nouveaux derives de la 4,4-dimethyl tetrahydro pyr-2-one, leur procede de preparation et leur application a la synthese de produits pyrethrinoides |
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| FR878710792A FR2618781B2 (fr) | 1987-01-09 | 1987-07-30 | Procede de preparation de derives de la 4,4-dimethyl tetrahydro pyr-2-one |
| FR87-10792 | 1987-07-30 |
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-
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