JP2754445B2 - シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法 - Google Patents
シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法Info
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Description
ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法に関する。
熱性、耐薬品性、機械的強度及び電気的特性に優れてい
ることから、各方面で例えば高温で使用するフィルム、
電線被覆、接着剤、塗料、積層品等に使用されている。
また、一方ではこれらの特性を生かしつつ、その汎用性
を広げるために種々のイミド系樹脂の開発が広く進めら
れている。
イミド樹脂は、上記のように耐熱性、耐薬品性、機械的
強度及び電気的特性に優れているため、高温で使用する
フィルム、電線被覆、接着剤、塗料、積層品等に非常に
有用である。しかしながら、テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミンから合成されるような従来公知の代表
的なポリイミド樹脂は、不溶不融であるため、その製造
に際しては、先ず、テトラカルボン酸二無水物と芳香族
ジアミンとの反応によって有機溶剤可溶なポリアミック
酸を合成し、得られたポリアミック酸を用いて、延伸、
塗膜形成、その他の成形処理を施した後、高温に加熱し
てイミド化する方法が採られている。この方法は、成形
後の高温加熱処理を必要とするため、用途上の制約を受
けるなどの不利を生じる場合がある。
溶解可能で塗膜形成能を有するシロキサン変性ポリアミ
ドイミド樹脂およびその製造方法を提供することにあ
る。
ポリアミドイミド樹脂は、下記式(I−1)で示される
重量平均分子量800〜30,000のポリアミドイミ
ド構造単位と、下記式(I−2)で示される重量平均分
子量500〜15,000のポリシロキサンイミド構造
単位とが、ポリアミドイミド構造単位0.1〜99.9
%、ポリシロキサンイミド構造単位99.9〜0.1%
の重量割合で不規則に配列してなるものであって、重量
平均分子量1,000〜50,000を有するものであ
る。
基を表わし、
ン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を表わ
し、Xは直接結合、C1 〜C6 の直鎖または分岐鎖状ア
ルキレン基、
レン基または−C(CF3 )2 −を表わし、Alk1 お
よびAlk2 は、C1 〜C6 の直鎖または分岐鎖状アル
キレン基を表わし、Alk3 はC1 〜C12の直鎖または
分岐鎖状アルキレン基を表わす。)A2 はC2 〜C12の
アルキレン基またはアルケニレン基、環状アルキレン
基、フェニレン基、ナフチレン基または下記式で示され
る基を表わし、
−、−SO2 −、−CO−または、−C(CF3 )2 −
を表わす。)A3 は、低級アルキレン基または下記式で
示される基を表わし、
は、下記式(1′)〜(3′)で示される4価の基を表
わし、
鎖状アルキレン基、−O−、−SO2 −または−CO−
を表わす。)mは2〜5の整数を表わし、nは1〜50
の整数を表わす。〕なお、本願明細書において、用語
「低級」は、「炭素数3以下」のものを意味する。した
がって、例えば、低級アルキル基はC1 〜C 3 のアルキ
ル基を意味し、低級アルコキシ基はC1 〜C 3 のアルコ
キシ基を意味し、低級アルキレン基はC1 〜C 3 のアル
キレン基を意味する。
樹脂は、下記式(II)で示される両末端にアミノ基を有
する重量平均分子量500〜15,000のポリアミド
と、下記式(III )で示される両末端にアミノ基を有す
る重量平均分子量200〜7,000のポリシロキサン
と、下記式(IV)で示されるテトラカルボン酸二無水物
とを、有機溶剤中で重縮合させ、得られたポリアミック
酸を閉環によってイミド化することにより製造すること
ができる。
ぞれ上記式(I−1)および式(I−2)におけるもの
と同意義を有する。)
発明において、シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂を
製造するための原料物質である式(II)で示される両末
端にアミノ基を有するポリアミドは、下記式(V)で示
されるジアミン化合物と下記式(VII )で示されるジカ
ルボン酸化合物を重縮合させる公知の方法により得るこ
とができる。 H2 N−A1 −NH2 (V) HOOC−A2 −COOH (VII ) (式中、A1 およびA2 は、前記と同意義を有する。)
しては、例えば下記の化合物があげられる。N,N′−
ビス(2−アミノフェニル)イソフタルアミド、N,
N′−ビス(3−アミノフェニル)イソフタルアミド、
N,N′−ビス(4−アミノフェニル)イソフタルアミ
ド、N,N′−ビス(2−アミノフェニル)テルフタル
アミド、N,N′−ビス(3−アミノフェニル)テレフ
タルアミド、N,N′−ビス(4−アミノフェニル)テ
レフタルアミド、N,N′−ビス(2−アミノフェニ
ル)フタルアミド、N,N′−ビス(3−アミノフェニ
ル)フタルアミド、N,N′−ビス(4−アミノフェニ
ル)フタルアミド、N,N′−ビス(4−アミノ−3,
5−ジメルフェニル)イソフタルアミド、N,N′−ビ
ス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル)テレフタ
ルアミド、N,N′−ビス(4−アミノ−3,5−ジメ
チルフェニル)フタルアミド、N,N′−ビス(4−ア
ミノ−n−ブチル)ジイソフタルアミド、N,N′−ビ
ス(4−アミノ−n−ヘキシル)イソフタルアミド、
N,N′−ビス(4−アミノ−n−ドデシル)イソフタ
ルアミド、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジ
アミン、メタトリレンジアミン、4,4′−ジアミノジ
フェニルエーテル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、4,4′−ジアミノジフェニルチオエーテル、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノフェニルチオエー
テル、3,3′−ジエトキシ−4,4′−ジアミノジフ
ェニルチオエーテル、3,3′−ジアミノジフェニルチ
オエーテル、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン
3,3′−ジアミノジフェニルメタン、4,4′−ジア
ミノジフェニルメタン、3,3′−ジメトキシ−4,
4′−ジアミノジフェニルメタン、2,2′−ビス(4
−アミノフェニル)プロパン、2,2′−ビス(3−ア
ミノフェニル)プロパン、4,4′−ジアミノフェニル
スルホキシド、4,4′−ジアミノフェニルスルホン、
3,3′−ジアミノジフェニルスルホン、ベンチジン、
3,3′−ジメチルベンチジン、3,3′−ジメトキシ
ベンチジン、3,3′−ジアミノビフェニル、2,2−
ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパ
ン、2,2−ビス〔3−メチル−4−(アミノフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−クロロ−
4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、
2,2−ビス〔3,5−ジメチル−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル〕プロパン、1,1−ビス〔4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル〕エタン、1,1−
ビス〔3−クロロ−4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エタン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕メタン、ビス〔3−メチル−4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル〕メタン、ヘキサメチレンジアミ
ン、ヘプタメチレンジアミン、テトラメアチレンジアミ
ン、p−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、3
−メチルヘプタメチレンジアミン、1,3−ビス(4−
アミノフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス(4−アミ
ノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオ
ロプロパン、4,4′−〔1,4−フェニレンビス(1
−メチルエチリデン)〕ビスアニリン、4,4′−
〔1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデン)〕
ビスアニリン、4,4′−〔1,4−フェニレンビス
(1−メチルエチリデン)〕ビス(2,6−ジメチルビ
スアニリン)等。
ン酸化合物としては、例えば下記の化合物があげられ
る。コハク酸、フマル酸、グルタル酸、アジピン酸、ピ
メリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウ
ンデカン二酸、ドデカン二酸、1,3−シクロヘキサン
ジカルボン酸、イソフタル酸、4,4′−ビフェニルジ
カルボン酸、3,3′−メチレン二安息香酸、4,4′
−メチレン二安息香酸、4,4′−オキシ二安息香酸、
4,4′−スルホニル二安息香酸、4,4′−チオ二安
息香酸、3,3′−カルボニル二安息香酸、4,4′−
カルボニル二安息香酸、1,4−ナフタレンジカルボン
酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタ
レンジカルボン酸、2,2−ビス(4−カルボキシフェ
ニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパ
ン等。
式(VII )で示されるジカルボン酸化合物との重縮合
は、縮合剤を加え溶媒中で行うのが好ましい。溶媒とし
ては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、アセトニトリル、ピリジン、テトラヒドロフ
ラン、無水酢酸、ジクロロメタン、ヘキサン、シクロヘ
キサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリド
ン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等が用いられる。
力を増加させるために、また、副反応を抑制するため
に、塩化リチウム、塩化カルシウムに代表される無機塩
類を反応系に添加することもできる。
亜リン酸ジフェニル、亜リン酸トリ−o−トリル、亜リ
ン酸ジ−o−トリル、亜リン酸トリ−m−トリル、亜リ
ン酸ジ−m−トリル、亜リン酸トリ−p−トリル、亜リ
ン酸ジ−p−トリル、亜リン酸ジ−o−クロロフェニ
ル、亜リン酸トリ−p−クロロフェニル、亜リン酸ジ−
p−クロロフェニル、ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド、リン酸トリフェニル、ホスホン酸ジフェニル等が用
いられる。上記重縮合反応の反応温度は、60〜150
℃の範囲が好ましく、反応時間は通常、数分乃至24時
間で行う。場合によっては、反応溶液を高温に加熱した
り、あるいは、生成する水を除去して、平衡を生成系に
ずらす反応条件としてもよい。
れる両末端にアミノ基を有するポリアミドのうち、平均
重合度mが2〜5であって、重量平均分子量が500〜
15,000、好ましくは、500〜10,000の範
囲にあるものが使用される。
(III )で示される両末端にアミノ基を有するポリシロ
キサンとしては、1,3−ビス(3−アミノプロピル)
−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、α,ω
−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシロキサ
ン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシメチル)−
1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、α,ω−
ビス(3−アミノフェノキシメチル)ポリジメチルシロ
キサン、1,3,−ビス(2−(3−アミノフェノキ
シ)エチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン、α,ω−ビス(2−(3−アミノフェノキシ)エ
チル)ポリジメチルシロキサン、1,3−ビス(3−
(3−アミノフェノキシ)プロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン、α,ω−ビス(3−(3
−アミノフェノキシ)プロピル)ポリジメチルシロキサ
ン等があげられる。本発明において、上記両末端にアミ
ノ基を有するポリシロキサンは、平均重合度nが1〜5
0、好ましくは1〜30であって、平均分子量が200
〜7,000、好ましくは、200〜4,000の範囲
にあるものが使用される。
されるテトラカルボン酸二無水物誘導体としては、例え
ばピロメリット酸二無水物、2,3,6,7−ナフタリ
ンテトラカルボン酸二無水物、3,4,3′,4′−ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,2′,
3′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水
物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二
無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)プロパン二無水物、3,4,3′,4′−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボ
ン酸二無水物、4,4′−ビフタル酸二無水物等があげ
られる。
樹脂を得るためには、上記式(II)で示される両末端に
アミノ基を有するポリアミドと、上記式(III )で示さ
れる両末端にアミノ基を有するポリシロキサンと、上記
式(IV)で示されるテトラカルボン酸二無水物誘導体と
を、−20〜150℃好ましくは0〜60℃の温度で数
十分間乃至数日間反応させて、ポリアミック酸を生成さ
せ、更にイミド化することにより製造することができ
る。
とする生成物における上記式(I−1)および(I−
2)で示される構造単位の重量比に応じて、上記の範囲
において適宜設定することができ、好ましくは式(I−
1)で示される構造単位が1〜99重量%、式(I−
2)で示される構造単位が99〜1重量%の比率で配合
して反応させる。不活性極性有機溶媒としては、例え
ば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチル
アセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチ
ルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチ
ル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルリ
ン酸トリアミド等があげられる。
閉環させる方法及び脱水閉環触媒を用いて化学的に閉環
させる方法があげられる。加熱により脱水閉環させる場
合、反応温度は150〜400℃、好ましくは180〜
350℃であり、時間は30秒間乃至10時間、好まし
くは5分間乃至5時間である。また、脱水閉環触媒を用
いる場合、反応温度は0〜180℃、好ましくは10〜
80℃であり、反応時間は数十分間乃至数日間、好まし
くは2時間〜12時間である。脱水閉環触媒としては、
酢酸、プロピオン酸、酪酸、安息香酸等の酸無水物があ
げられる。環化反応を促進する化合物としてピリジン等
を併用することが好ましい。脱水閉環触媒の使用量は、
ジアミンの総量に対して200モル%以上好ましくは3
00〜1000モル%である。環化反応を促進する化合
物の使用量は、ジアミンの総量に対して150〜500
モル%である。
リアミドイミド樹脂は、重縮合終了後、単離後、有機溶
媒、水、または有機溶媒と水の混合物で洗浄してもよ
く、それによって触媒に由来する無機陽イオン、無機陰
イオンおよび有機酸の含有量を低減することができる。
ルケトン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、
メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノ
ール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、酢酸メ
チル、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等があげ
られる。
サン変性ポリアミドイミド樹脂は、重量平均分子量が
1,000〜50,000、好ましくは1,000〜3
5,000の範囲内である。重量平均分子量が1,00
0よりも低い場合には、耐熱性が低くなり、50,00
0よりも高い場合には、有機溶剤への溶解性が損なわれ
る。また、その中に含まれる式(I−1)で示されるポ
リアミドイミド構造単位の重量平均分子量は、800〜
30,000であり、また、式(I−2)で示されるポ
リシロキサンイミド構造単位の重量平均分子量は、50
0〜15,000である。
の測定は次の条件で行った値である。装置:昭和電工社
製;GPC System−11、インテグレーター:
システムインスツルメント社製;Sic Labcha
rt180、カラム:昭和電工社製;Shodex K
D−80M、カラム温度:40℃、溶離液:0.1wt
%LiBr含有N−メチル−2−ピロリドン、溶離液流
量:0.5ml/min、試料濃度:0.2wt%、S
tandard:ポリスチレン。
イミド樹脂において、式(I−1)で示されるポリアミ
ドイミド構造単位と、式(I−2)で示されるポリシロ
キサンイミド構造単位との割合は、重量割合で前者が
0.1〜99.9%、好ましくは1〜99%であり、後
者が99.9〜0.1%、好ましくは99〜1%であ
る。前者が0.1%よりも低い場合には、耐熱性が損な
われ、また、99.9%よりも高い場合には、溶媒溶解
性が損なわれる。
樹脂は、有機溶剤に可溶であり、具体的には、N,N−
ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、
o−,m−およびp−クレゾール、ピリジン、テトラヒ
ドロフラン、N,N−ジメチルアセタミド、メチルエチ
ルケトン、アセトン、トルエン、キシレン、グリシジル
エーテル等に可溶である。
イミド樹脂は、被膜性を有するため、それ単独でも使用
することができるが、マレイミド基を2以上含む化合物
とジアミン化合物とを併用した樹脂組成物の状態で使用
することもできる。
イミド樹脂を使用した樹脂組成物について説明する。こ
の樹脂組成物は、上記のシロキサン変性ポリアミドイミ
ド樹脂と、下記式(VI)で示されるマレイミド基を2以
上含む化合物と、下記式(V)で示されるジアミン化合
物または下記式(III )で示される両末端にアミノ基を
有するポリシロキサンとから構成される。
義を有する。)マレイミド基を2以上含む化合物(以
下、ビスマレイミド化合物という。)としては、下記の
構造式を有するものを使用することができる。
変性ポリアミドイミド樹脂とビスマレイミドとジアミン
類(ジアミン化合物または両末端にアミノ基を有するポ
リシロキサン)の比率は、固形分換算でビスマレイミド
とジアミン類の総和が1重量部に対して、シロキサン変
性ポリアミドイミド樹脂が0.01〜1000重量部の
範囲にあり、好ましくは0.1〜100重量部の範囲で
ある。シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂が0.01
重量部よりも少なくなると、成膜性が低下し、また、1
000重量部よりも多くなると耐熱性を向上させること
ができない。また、ビスマレイミドとジアミン化合物の
比率は、ジアミン化合物のアミン当量1モル当量に対し
てビスマレイミドのマレイミド当量が少なくとも1モル
当量存在することが必要であり、好ましくは、1モル当
量よりも多く、100モル当量よりも少ない範囲になる
量である。ビスマレイミドのマレイミド当量が1モル当
量以下になると、混合に際してゲル化するために、樹脂
組成物を調製することができなく、また、100モル当
量よりも多くなると、成膜性が劣化する。
脂とビスマレイミドとジアミン化合物または両末端にア
ミノ基を有するポリシロキサンの混合は、溶媒中で行う
ことが好ましい。溶媒としては、例えば、N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メ
チルピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジ
ノン、ジメチルスホキシド、ヘキサメチルホスホリック
トリアミド、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロ
パノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、酢
酸メチル、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等が
あげられる。必要に応じて、ビスマレイミドとジアミン
化合物または両末端にアミノ基を有するポリシロキサン
の付加反応を促進させるために、また、ビスマレイミド
の自己架橋反応を促進させるために、ジアザビシクロ−
オクタン、有機過酸化物類、イミダゾール類、トリフェ
ニルホスフィン類等の反応促進剤を添加することもでき
る。
了後、単離し、その後、有機溶媒、水または有機溶媒と
水の混合物で洗浄してもよい。有機溶媒としては、アセ
トン、メチルエチルケトン、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトニトリル、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロエタン、トリクロ
ロエタン等があげられる。
であり、また、ビスマレイミドとジアミンとが常温また
はそれ以上の温度で反応し、さらに200℃程度の温度
に加熱すると、過剰に存在するビスマレイミドのマレイ
ミド基同士が反応して硬化し、シロキサン変性ポリアミ
ドイミド樹脂単独の場合よりも耐熱性の高い樹脂状物が
形成される。したがって、本発明の樹脂組成物を適当な
有機溶剤に溶解し、基体等に塗布すると、加熱により硬
化する接着性の耐熱性の高い被膜が形成される。
(0.6モル)、イソフタル酸74.7g(0.45モ
ル)、ピリジン135g、亜リン酸トリフェニル279
g(0.9モル)、塩化リチウム15.3g(0.36
モル)、塩化カルシウム44.1g(0.4モル)のN
−メチル−2−ピロリドン5リットル混合溶液を100
℃で4時間撹拌した。放冷後、重合体溶液をメタノール
5リットル中に注入し、室温で1時間撹拌し、析出した
固形物を濾別後、濾過物をメタノールを用いて洗浄し、
乾燥した。(重合度m=3、重量平均分子量:120
0)
ラカルボン酸二無水物656g(2.05モル)のN−
メチル−2−ピロリドン5.4リットル溶液に、氷冷
下、得られた固形物と1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン716g(1.9モル)を交互数回に分けて添加し
た。添加後、窒素雰囲気下、氷冷下で1時間、室温で4
時間反応させて、ポリアミック酸溶液を得た。このポリ
アミック酸溶液にピリジン486g(6.15モル)と
無水酢酸628g(6.15モル)を加え、80℃で3
時間加熱し、脱水環化反応を行った。放冷後、重合体溶
液を、大量のメタノール中に注ぎ入れた。析出した固体
を濾別し、濾過物をメタノールを用いて加熱洗浄、乾燥
し、重量平均分子量12,000(NMP−GPC、ポ
リスチレン換算)の重合体を得た。
70cm-1および1730cm-1にイミド結合による吸
収が認められ、1660cm-1にアミド結合によるカル
ボニル基の吸収が認められ、1000cm-1〜1100
cm-1にシロキサン結合による吸収が認められた。これ
らの結果より、このものは下記に示す構造単位(A)と
構造単位(B)とが1.9:7.2の重量比でランダム
に結合したシロキサン変性ポリアミドイミドであること
が確認された。
ル120.2g(0.6モル)を2,2−ビス(4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン246.
3g(0.6モル)に代え、重量平均分子量2,000
(重合度m=3)のポリアミドを合成した。その他は実
施例1と同様に操作して重量平均分子量13,000
(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得
た。このものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロ
キサンイミド構造単位とが3.2:7.2の重量比で縮
重合した構造を有しているものであった。IR分析の結
果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認され
た。
ル120.2g(0.6モル)を4,4′−(1,3−
フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビスアニリ
ン206.4g(0.6モル)に代え、重量平均分子量
1750(重合度m=3)のポリアミドを合成した。そ
の他は実施例1と同様に操作して重量平均分子量12,
000(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体
を得た。このものは、ポリアミドイミド構造単位とポリ
シロキサンイミド構造単位とが2.8:7.2の重量比
で縮重合した構造を有しているものであった。IR分析
の結果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認
された。
モル)をテレフタル酸74.7g(0.45モル)に代
え、重量平均分子量1,200(重合度m=3)のポリ
アミドを合成した。その他は実施例1と同様に操作して
重量平均分子量9,000(NMP−GPC、ポリスチ
レン換算)の重合体を得た。このものは、ポリアミドイ
ミド構造単位とポリシロキサンイミド構造単位とが1.
9:7.2の重量比で縮重合した構造を有しているもの
であった。IR分析の結果、実施例1の場合と同様の吸
収スペクトルが確認された。
シメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン716g(1.9モル)を1,3−ビス(3−アミノ
プロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン716g(2.9モル)に、3,3′,4,4′−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物656g(2.
05モル)を976g(3.05モル)に代え、その他
は実施例1と同様に操作して重量平均分子量13,00
0(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得
た。このものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロ
キサンイミド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮
重合した構造を有しているものであった。IR分析の結
果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認され
た。
シメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン716g(1.9モル)をα,ω−ビス(3−アミノ
プロピル)ポリジメチルシロキサン(重合度n=約4)
716g(1.4モル)に、3,3′,4,4′−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物656g(2.0
5モル)を496g(1.55モル)に代え、その他は
実施例1と同様に操作して分子量13,000(NMP
−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得た。このも
のは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロキサンイミ
ド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮重合した構
造を有しているものであった。IR分析の結果、実施例
1の場合と同様の吸収スペクトルが確認された。
シメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン716g(1.9モル)をα,ω−ビス(3−アミノ
プロピル)ポリジメチルシロキサン(重合度n=約8)
716g(0.9モル)に、3,3′,4,4′−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸二無水物656g(2.0
5モル)を336g(1.05モル)に代え、その他は
実施例1と同様に操作して重量平均分子量13,000
(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得
た。このものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロ
キサンイミド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮
重合した構造を有しているものであった。IR分析の結
果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認され
た。
テル120.2g(0.6モル)を2,2−ビス(4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン246.
3g(0.6モル)に代えて、重量平均分子量2,00
0(重合度m=3)のポリアミドを合成し、また、1,
3−ビス(3−アミノフェノキシメチル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン716g(1.9モ
ル)を1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,
3,3−テトラメチルジシロキサン716g(2.9モ
ル)に、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物656g(2.05モル)を976g
(3.05モル)に代え、その他は実施例1と同様に操
作して重量平均分子量11,000(NMP−GPC、
ポリスチレン換算)の重合体を得た。このものは、ポリ
アミドイミド構造単位とポリシロキサンイミド構造単位
とが3.2:7.2の重量比で縮重合した構造を有して
いるものであった。IR分析の結果、実施例1の場合と
同様の吸収スペクトルが確認された。
テル120.2g(0.6モル)を4,4′−(1,3
−フェニレンビス(1−メチルエチリデン))ビスアニ
リン206.4g(0.6モル)に代えて、重量平均分
子量1,750(重合度m=3)のポリアミドを合成し
た。また、1,3−ビス(3−アミノフェノキシメチ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン71
6g(1.9モル)を1,3−ビス(3−アミノプロピ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン71
6g(2.9モル)に、3,3′,4,4′−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物656g(2.05モ
ル)を976g(3.05モル)に代え、その他は実施
例1と同様に操作して重量平均分子量13,000(N
MP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得た。こ
のものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロキサン
イミド構造単位とが2.8:7.2の重量比で縮重合し
た構造を有しているものであった。IR分析の結果、実
施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認された。
テル120.2g(0.6モル)を1,6−ジアミノn
−ヘキサン69.6g(0.6モル)に代えて、重量平
均分子量850(重合度m=3)のポリアミドを合成
し、また、1,3−ビス(3−アミノフェノキシメチ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン71
6g(1.9モル)を1,3−ビス(3−アミノプロピ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン71
6g(2.9モル)に、3,3′,4,4′−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物656g(2.05モ
ル)を976g(3.05モル)に代え、その他は実施
例1と同様に操作して重量平均分子量9,000(NM
P−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得た。この
ものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロキサンイ
ミド構造単位とが1.5:7.2の重量比で縮重合した
構造を有しているものであった。IR分析の結果、実施
例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認された。
ンテトラカルボン酸二無水物656g(2.05モル)
を3,3′,4,4′−ビフェニルテトラカルボン酸二
無水物603g(2.05モル)に代え、その他は実施
例1と同様に操作して重量平均分子量7,000(NM
P−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得た。この
ものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロキサンイ
ミド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮重合した
構造を有しているものであった。IR分析の結果、実施
例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認された。
二無水物656g(2.05モル)をピロメリット酸二
無水物451g(2.05モル)に代え、その他は実施
例1と同様に操作して重量平均分子量15,000(N
MP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得た。こ
のものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロキサン
イミド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮重合し
た構造を有しているものであった。IR分析の結果、実
施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認された。
ジメチルアセトアミド5.4リットルに代え、その他は
実施例1と同様に操作して重量平均分子量13,500
(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得
た。このものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロ
キサンイミド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮
重合した構造を有しているものであった。IR分析の結
果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認され
た。
ジメチルホルムアミド5.4リットルに代え、その他は
実施例1と同様に操作して重量平均分子量13,000
(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重合体を得
た。このものは、ポリアミドイミド構造単位とポリシロ
キサンイミド構造単位とが1.9:7.2の重量比で縮
重合した構造を有しているものであった。IR分析の結
果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが確認され
た。
モル)を83g(0.5モル)に代えて、重量平均分子
量1,850(重合度m=5)のポリアミドを合成し
た。また、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物656g(2.05モル)を992
g(3.1モル)に、1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン716g(1.9モル)を740g(2モル)に代
え、その他は実施例1と同様に操作して重量平均分子量
14,000 (NMP−GPC、ポリスチレン換算)
の重合体を得た。このものは、ポリアミドイミド構造単
位とポリシロキサンイミド構造単位とが2.0:7.4
の重量比で縮重合した構造を有しているものであった。
IR分析の結果、実施例1の場合と同様の吸収スペクト
ルが確認された。
モル)を80g(0.48モル)に代えて、重量平均分
子量1,500(重合度m=4)のポリアミドを合成し
た。また、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物656g(2.05モル)を534
g(1.67モル)に、1,3−ビス(3−アミノフェ
ノキシメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロ
キサン716g(1.9モル)を584g(1.55モ
ル)に代え、その他は実施例1と同様に操作して重量平
均分子量14,000(NMP−GPC、ポリスチレン
換算)の重合体を得た。このものは、ポリアミドイミド
構造単位とポリシロキサンイミド構造単位とが2.0:
5.8の重量比で縮重合した構造を有しているものであ
った。IR分析の結果、実施例1の場合と同様の吸収ス
ペクトルが確認された。
モル)を66g(0.4モル)に代えて、重量平均分子
量850(重合度m=2)のポリアミドを合成した。ま
た、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物656g(2.05モル)を480g
(1.5モル)に、1,3−ビス(3−アミノフェノキ
シメチル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサ
ン716g(1.9モル)を506g(1.3モル)に
代え、その他は実施例1と同様に操作して重量平均分子
量12,000(NMP−GPC、ポリスチレン換算)
の重合体を得た。このものは、ポリアミドイミド構造単
位とポリシロキサンイミド構造単位とが1.8:4.8
の重量比で縮重合した構造を有しているものであった。
IR分析の結果、実施例1の場合と同様の吸収スペクト
ルが確認された。
二無水物656g(2.05モル)を1424g(4.
45モル)に、1,3−ビス(3−アミノフェノキシメ
チル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン7
16g(1.9モル)を1611g(4.3モル)に代
え、その他は実施例1と同様に操作して重量平均分子量
12,500(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の
重合体を得た。このものは、ポリアミドイミド構造単位
とポリシロキサンイミド構造単位とが1.9:16.1
の重量比で縮重合した構造を有しているものであった。
IR分析の結果、実施例1の場合と同様の吸収スペクト
ルが確認された。
二無水物656g(2.05モル)を400g(1.2
5モル)に、1,3−ビス(3−アミノフェノキシメチ
ル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン71
6g(1.9モル)を418g(1.1モル)に代え、
その他は実施例1と同様に操作して重量平均分子量1
3,000(NMP−GPC、ポリスチレン換算)の重
合体を得た。このものは、ポリアミドイミド構造単位と
ポリシロキサンイミド構造単位とが1.9:4.2の重
量比で縮重合した構造を有しているものであった。IR
分析の結果、実施例1の場合と同様の吸収スペクトルが
確認された。
物(b)(MB8000、三菱石油化学社製)13.9
gのN,N−ジメチルホルムアミド150g混合溶液に
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン6.1gを添加して、樹脂
組成物を得た。得られた樹脂組成物を厚さ50μmのポ
リイミドフィルムの上に塗布し、150℃で1分間加熱
することにより、半硬化状の接着性皮膜を有する接着テ
ープが得られた。この接着テープから、幅2mm、長さ
10mmの小片を作り、リードフレームのリードピン固
定用接着テープとした。この接着テープ小片を使用して
リードフレームのリードピン間を固定した。このリード
フレームに半導体を搭載して半導体をリードフレームに
固定した後、リードフレームのリードピンと半導体端子
とを接合し、エポキシ樹脂にて封止して、半導体パッケ
ージを得、サンプルとした。このサンプルについて、プ
レッシャークッカーテストを実施したところ、電流リー
クの初期値が10-15 アンペアであり、500時間経過
した後も10-13 アンペアに変化したのみで、半導体装
置に良好な信頼性を与えることが確認された。
(BMI−S、三井東圧化学社製)11.8gに、1,
3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テ
トラメチルジシロキサン6.1gを8.2gに代え、そ
の他は使用例1と同様に操作して樹脂組成物を得た。
(MB7000、三菱石油化学社製)12.8gに、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン6.1gを7.2gに代
え、その他は使用例1と同様に操作して樹脂組成物を得
た。
(MP2000X、三菱石油化学社製)12.7gに、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3
−テトラメチルジシロキサン6.1gを7.3gに代
え、その他は使用例1と同様に操作して樹脂組成物を得
た。
レイミド11.8gに、1,3−ビス(3−アミノプロ
ピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン
6.1gを8.2gに代え、その他は使用例1と同様に
操作して樹脂組成物を得た。
ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラ
メチルジシロキサン6.1gをα,ω−ビス(3−アミ
ノプロピル)ポリジメチルシロキサン(重合度n約4)
9.4gに代え、その他は使用例1と同様に操作して樹
脂組成物を得た。
ス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン6.1gをα,ω−ビス(3−アミノ
プロピル)ポリジメチルシロキサン(重合度n約8)1
1.7gに代え、その他は使用例1と同様に操作して樹
脂組成物を得た。
ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラ
メチルジシロキサン6.1gを1,3−ビス(3−アミ
ノプロピル)−1,1,3,3−テトラメチルジシロキ
サン8.0gに代え、その他は使用例1と同様に操作し
て樹脂組成物を得た。
ドイミド樹脂は、有機溶剤に可溶であり、また被膜性に
優れている。このシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂
を用いて作製される本発明の樹脂組成物は、被膜性に優
れているため、高温で使用するフィルム、電線被覆、接
着剤、塗料、積層品等の作製用素材として有用である。
Claims (6)
- 【請求項1】 下記式(I−1)で示される重量平均分
子量800〜30,000のポリアミドイミド構造単位
と、下記式(I−2)で示される重量平均分子量500
〜15,000のポリシロキサンイミド構造単位とが、
ポリアミドイミド構造単位0.1〜99.9%、ポリシ
ロキサンイミド構造単位99.9〜0.1%の重量割合
で不規則に配列してなる重量平均分子量1,000〜5
0,000のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂。 【化1】 〔式中、A1 は、下記式(1)〜(6)から選択された
基を表わし、 【化2】 (式中、R1 およびR2 は、それぞれ水素原子、ハロゲ
ン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基を表わ
し、Xは直接結合、C1 〜C6 の直鎖または分岐鎖状ア
ルキレン基、 【化3】 を表わし、YはC1 〜C6 の直鎖または分岐鎖状アルキ
レン基または−C(CF3 )2 −を表わし、Alk1 お
よびAlk2 は、C1 〜C6 の直鎖または分岐鎖状アル
キレン基を表わし、Alk3 はC1 〜C12の直鎖または
分岐鎖状アルキレン基を表わす。)A2 はC2 〜C12の
アルキレン基またはアルケニレン基、環状アルキレン
基、フェニレン基、ナフチレン基または下記式で示され
る基を表わし、 【化4】 (式中、Zは、直接結合、メチレン基、−O−、−S
−、−SO2 −、−CO−または、−C(CF3 )2 −
を表わす。)A3 は、低級アルキレン基または下記式で
示される基を表わし、 【化5】 (式中、Alk4 は低級アルキレン基を表わす。)Ar
は、下記式(1′)〜(3′)で示される4価の基を表
わし、 【化6】 (式中、Wは直接結合、C1 〜C4 の直鎖状または分岐
鎖状アルキレン基、−O−、−SO2 −または−CO−
を表わす。)mは2〜5の整数を表わし、nは1〜50
の整数を表わす。〕 - 【請求項2】 式(I−1)におけるA1 が下記式
(7)〜(9)で示される基である請求項1記載のシロ
キサン変性ポリアミドイミド樹脂。 【化7】 - 【請求項3】 式(I−1)におけるA2 がフェニレン
基である請求項1記載のシロキサン変性ポリアミドイミ
ド樹脂。 - 【請求項4】 式(I−2)におけるA3 が下記式で示
される基である請求項1記載のシロキサン変性ポリアミ
ドイミド樹脂。 【化8】 - 【請求項5】 式(I−1)および式(I−2)におけ
るArが、下記式(4′)〜(6′)で示される基であ
る請求項1記載のシロキサン変性ポリアミドイミド樹
脂。 【化9】 - 【請求項6】 下記式(II)で示される両末端にアミノ
基を有する重量平均分子量500〜15,000のポリ
アミドと、下記式(III )で示される両末端にアミノ基
を有する重量平均分子量200〜7,000のポリシロ
キサンと、下記式(IV)で示されるテトラカルボン酸二
無水物とを有機溶剤中で重縮合させ、得られたポリアミ
ック酸を閉環によってイミド化することを特徴とする請
求項1記載のシロキサン変性ポリアミドイミド樹脂の製
造方法。 【化10】 (式中、A1 、A2 、A3 、Ar、mおよびnは、それ
ぞれ請求項1の式(I−1)および式(I−2)に定義
したものと同意義を有する。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5085151A JP2754445B2 (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5085151A JP2754445B2 (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14077597A Division JP2873815B2 (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06271673A JPH06271673A (ja) | 1994-09-27 |
JP2754445B2 true JP2754445B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=13850670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5085151A Expired - Lifetime JP2754445B2 (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | シロキサン変性ポリアミドイミド樹脂およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2754445B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0913001A (ja) * | 1995-06-27 | 1997-01-14 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 電子部品用液状接着剤および電子部品用接着テープ |
US6808819B2 (en) | 2002-02-14 | 2004-10-26 | Shin Etsu Chemical Co., Ltd. | Heat resistant resin composition and adhesive film |
JP3862004B2 (ja) | 2002-05-10 | 2006-12-27 | 信越化学工業株式会社 | 耐熱性樹脂組成物及びそれを用いた接着フィルム |
JP4120780B2 (ja) | 2002-07-19 | 2008-07-16 | 信越化学工業株式会社 | フェノール性水酸基を有するポリイミド樹脂の製造方法 |
CN102325819B (zh) * | 2009-02-21 | 2014-11-12 | 索尼化学&信息部件株式会社 | 保护膜形成用原料液、保护膜、带有保护膜的布线基板 |
TWI582136B (zh) * | 2016-07-25 | 2017-05-11 | Chin Yee Chemical Industres Co Ltd | Thermosetting resin and its composition, use |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0796618B2 (ja) * | 1986-11-20 | 1995-10-18 | 新日鐵化学株式会社 | 低熱膨張性樹脂 |
JPS63234589A (ja) * | 1987-03-24 | 1988-09-29 | 新日鐵化学株式会社 | 多層配線板 |
JPH03177430A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-08-01 | Tomoegawa Paper Co Ltd | ポリアミドイミド樹脂 |
JPH03207717A (ja) * | 1990-01-09 | 1991-09-11 | Tomoegawa Paper Co Ltd | ポリアミドイミド樹脂 |
KR0159287B1 (ko) * | 1991-01-24 | 1999-01-15 | 윤종용 | 실록산 변성 폴리이미드 수지의 제조방법 |
-
1993
- 1993-03-22 JP JP5085151A patent/JP2754445B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06271673A (ja) | 1994-09-27 |
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