JP2743645B2 - シャドウマスク成形装置 - Google Patents
シャドウマスク成形装置Info
- Publication number
- JP2743645B2 JP2743645B2 JP3212542A JP21254291A JP2743645B2 JP 2743645 B2 JP2743645 B2 JP 2743645B2 JP 3212542 A JP3212542 A JP 3212542A JP 21254291 A JP21254291 A JP 21254291A JP 2743645 B2 JP2743645 B2 JP 2743645B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- guide
- die
- guide post
- guide bush
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- Shaping Metal By Deep-Drawing, Or The Like (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシャドウマスク成形装置
に関し、特にカラー受像管の温間プレスシャドウマスク
成形装置に関する。
に関し、特にカラー受像管の温間プレスシャドウマスク
成形装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】シャドウマスク形カラー受像管は、電子
ビームがシャドウマスクに射突することにより射突した
部分のシャドウマスクがその周囲部分より著しく温度上
昇し、その部分が熱変形を起こす、いわゆる、ドーミン
グと称する現象が発生することがある。
ビームがシャドウマスクに射突することにより射突した
部分のシャドウマスクがその周囲部分より著しく温度上
昇し、その部分が熱変形を起こす、いわゆる、ドーミン
グと称する現象が発生することがある。
【０００３】このドーミング防止対策として低熱膨張材
であるアンバー材が採用され始めた。
であるアンバー材が採用され始めた。
【０００４】しかしながら、このアンバー材は従来のＡ
Ｋ材に比べ高耐力材料であるため、プレス成形後、金型
から取り外すとスプリングバックのために球面変形が発
生して、シャドウマスクの球面精度が低下するとともに
カラー受像管の振動特性が低下するという問題が生ず
る。
Ｋ材に比べ高耐力材料であるため、プレス成形後、金型
から取り外すとスプリングバックのために球面変形が発
生して、シャドウマスクの球面精度が低下するとともに
カラー受像管の振動特性が低下するという問題が生ず
る。
【０００５】このため、プレス工程において、アンバー
材を約２００℃の温度に加熱しながらプレスする温間プ
レス成形を行なうことが必要とされている。
材を約２００℃の温度に加熱しながらプレスする温間プ
レス成形を行なうことが必要とされている。
【０００６】図３（ａ）〜（ｃ）は従来のシャドウマス
クの温間プレス加工方法を説明する工程順に示したシャ
ドウマスク成形装置の側面図である。
クの温間プレス加工方法を説明する工程順に示したシャ
ドウマスク成形装置の側面図である。
【０００７】従来のシャドウマスク成形装置は、図３
（ａ）〜（ｃ）に示すように、上部の枠上に形成された
パッド１とその内周にそって上下に摺動可能に配置され
たポンチ２により上型３を構成する。
（ａ）〜（ｃ）に示すように、上部の枠上に形成された
パッド１とその内周にそって上下に摺動可能に配置され
たポンチ２により上型３を構成する。
【０００８】一方、上型３のパッド１に対向して枠上に
形成されたダイ４とその内周にそって摺動可能に配設さ
れたシェダー５により下型６を構成し、ポンチ２とシェ
ダー５は、互いに対向する面を成形すべきシャドウマス
クの曲面に対しスプリングバックを加味した曲面に形成
されている。
形成されたダイ４とその内周にそって摺動可能に配設さ
れたシェダー５により下型６を構成し、ポンチ２とシェ
ダー５は、互いに対向する面を成形すべきシャドウマス
クの曲面に対しスプリングバックを加味した曲面に形成
されている。
【０００９】ここで、上型３を構成するパッド１とポン
チ２および下型６を構成するダイ４とシェダー５の各部
材にはそれぞれ加熱要素（図示せず）、例えば電気ヒー
タが埋設され、これにより各部材を２００℃程度の温度
に加熱しシャドウマスク素材板７を温間プレス成形する
ようにしている。
チ２および下型６を構成するダイ４とシェダー５の各部
材にはそれぞれ加熱要素（図示せず）、例えば電気ヒー
タが埋設され、これにより各部材を２００℃程度の温度
に加熱しシャドウマスク素材板７を温間プレス成形する
ようにしている。
【００１０】なお、下型６には図４（ａ），（ｂ）に示
すように、円筒状のガイドポスト８が固定され、また、
これと対向して上型３にガイドブッシュ９が固定され、
上型３の下降時にガイドポスト８とガイドブッシュ９が
係合して上型３と下型６の位置を規則している。
すように、円筒状のガイドポスト８が固定され、また、
これと対向して上型３にガイドブッシュ９が固定され、
上型３の下降時にガイドポスト８とガイドブッシュ９が
係合して上型３と下型６の位置を規則している。
【００１１】次に、動作について説明する。
【００１２】図３（ａ）に示すように、まず、マスク素
材板７が下型６のダイ４上に置かれ上型３の下降により
パッド１とダイ４にて周辺部が固定される。
材板７が下型６のダイ４上に置かれ上型３の下降により
パッド１とダイ４にて周辺部が固定される。
【００１３】次に、図３（ｂ）に示すように、ポンチ２
がさらに下降しシャドウマスク素材板７に当たり球面張
り出しを開始してシェダー５の上面にポンチ２が接する
まで張り出し下降が行なわれシャドウマスク素材板７に
球面部が成形される。さらに、ポンチ２がシェダー５に
接して降下を始めるとそれに合わせてダイ４も下降する
がパッド１はストッパーシャフト（図示せず）にて下降
が停止するのでダイ４とパッド１の間に隙間ができシャ
ドウマスク素材板７の周辺部の固定が解除される。
がさらに下降しシャドウマスク素材板７に当たり球面張
り出しを開始してシェダー５の上面にポンチ２が接する
まで張り出し下降が行なわれシャドウマスク素材板７に
球面部が成形される。さらに、ポンチ２がシェダー５に
接して降下を始めるとそれに合わせてダイ４も下降する
がパッド１はストッパーシャフト（図示せず）にて下降
が停止するのでダイ４とパッド１の間に隙間ができシャ
ドウマスク素材板７の周辺部の固定が解除される。
【００１４】次に、図３（ｃ）に示すようにダイ４が最
下点にきたあともポンチ２とシェダー５は下降を続け、
そのとき、ダイ４とポンチ２の側壁の間でシャドウマス
クのスカート部が成形される。ポンチ２とシェダー５が
最下点に達して数秒間その状態を保持したのち、それぞ
れが上昇して成形したシャドウマスクが得られる。
下点にきたあともポンチ２とシェダー５は下降を続け、
そのとき、ダイ４とポンチ２の側壁の間でシャドウマス
クのスカート部が成形される。ポンチ２とシェダー５が
最下点に達して数秒間その状態を保持したのち、それぞ
れが上昇して成形したシャドウマスクが得られる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
シャドウマスク成形装置の円筒形のガイドブッシュと円
柱形のガイドポストでは、加熱時の熱膨張により上型が
下降してガイドブッシュとガイドポストが係合した際に
かじりが生じ、上型の円滑な動作に支障をきたす欠点が
あった。
シャドウマスク成形装置の円筒形のガイドブッシュと円
柱形のガイドポストでは、加熱時の熱膨張により上型が
下降してガイドブッシュとガイドポストが係合した際に
かじりが生じ、上型の円滑な動作に支障をきたす欠点が
あった。
【００１６】また、この欠点を解決するために、ガイド
ブッシュとガイドポストの間に熱膨張による伸びを考慮
した隙間を設けておくことが考えられるが、この隙間が
上型および下型の位置の精度を低下させる原因となり、
シャドウマスクの成形精度の点で問題があった。
ブッシュとガイドポストの間に熱膨張による伸びを考慮
した隙間を設けておくことが考えられるが、この隙間が
上型および下型の位置の精度を低下させる原因となり、
シャドウマスクの成形精度の点で問題があった。
【００１７】本発明の目的は、ガイドブッシュとガイド
ポストの係合が円滑で、成形精度の高いシャドウマスク
が得られるシャドウマスク成形装置を提供することにあ
る。
ポストの係合が円滑で、成形精度の高いシャドウマスク
が得られるシャドウマスク成形装置を提供することにあ
る。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明は、加熱要素を埋
設した上型と下型を互いに対向させて前記上型のガイド
ブッシュと前記下型のガイドポストを係合させながら相
互に移動させることにより前記上型の間に挿入したシャ
ドウマスク素材板をプレス加工するシャドウマスク成形
装置において、前記ガイドブッシュと前記ガイドポスト
のそれぞれの係合部の一部を平面とし、該平面同志を接
触させる。また、前記平面を上型と下型の中心の位置か
ら放射状に延長した直線上に配設し、かつ、ガイドブッ
シュとガイドポストをそれぞれ前記上型と下型の中心に
対して点対称となるように配設する。
設した上型と下型を互いに対向させて前記上型のガイド
ブッシュと前記下型のガイドポストを係合させながら相
互に移動させることにより前記上型の間に挿入したシャ
ドウマスク素材板をプレス加工するシャドウマスク成形
装置において、前記ガイドブッシュと前記ガイドポスト
のそれぞれの係合部の一部を平面とし、該平面同志を接
触させる。また、前記平面を上型と下型の中心の位置か
ら放射状に延長した直線上に配設し、かつ、ガイドブッ
シュとガイドポストをそれぞれ前記上型と下型の中心に
対して点対称となるように配設する。
【００１９】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００２０】図１は本発明の一実施例の側面図である。
【００２１】図１に示すように、枠状に形成されたパッ
ド１とその内周にそって上下に摺動可能に配設されたポ
ンチ２により上型３を構成し、一方、この上型３に対向
して枠状に形成されたダイ４とその内周にそって摺動可
能に配設されたシェダー５により下型６を構成している
点、および、シャドウマスク素材板７をダイ４上に載せ
上型３が下降してシャドウマスクを成形する動作は、従
来のシャドウマスク成形装置と同様である。
ド１とその内周にそって上下に摺動可能に配設されたポ
ンチ２により上型３を構成し、一方、この上型３に対向
して枠状に形成されたダイ４とその内周にそって摺動可
能に配設されたシェダー５により下型６を構成している
点、および、シャドウマスク素材板７をダイ４上に載せ
上型３が下降してシャドウマスクを成形する動作は、従
来のシャドウマスク成形装置と同様である。
【００２２】本実施例においては、下型６のガイドポス
ト８と上型３のガイドブッシュ９との係合部の一部を平
面形状とし、それぞれ平面で接触させ係合するように構
成されている。
ト８と上型３のガイドブッシュ９との係合部の一部を平
面形状とし、それぞれ平面で接触させ係合するように構
成されている。
【００２３】図２（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例の
平面図及びガイドポストとガイドブッシュの係合部の部
分拡大斜視図である。
平面図及びガイドポストとガイドブッシュの係合部の部
分拡大斜視図である。
【００２４】図２（ａ），（ｂ）に示すように、ガイド
ポスト８は外観は円柱形状であるが、このうちガイドブ
ッシュ９との係合面は平面に形成されている。
ポスト８は外観は円柱形状であるが、このうちガイドブ
ッシュ９との係合面は平面に形成されている。
【００２５】また、ガイドブッシュ９もやはりガイドポ
スト８との接触面のみ平面を形成し、その平面の周囲
は、ガイドポスト８の径に対し大きく逃げ１２を設けて
いる。この逃げ１２の部分は熱膨張による伸びによって
もガイドポスト８とガイドブッシュ９が接触することは
ない。
スト８との接触面のみ平面を形成し、その平面の周囲
は、ガイドポスト８の径に対し大きく逃げ１２を設けて
いる。この逃げ１２の部分は熱膨張による伸びによって
もガイドポスト８とガイドブッシュ９が接触することは
ない。
【００２６】また、上型３および下型６に通常４本ずつ
配設されるガイドポスト８とガイドブッシュ９は、その
係合部平面１３を上型３と下型６の中心より放射状に延
長し直線上に配設し、さらに、上型３と下型６の中心に
対してガイドポスト８とガイドブッシュ９がそれぞれ点
対称となるように配設されている。
配設されるガイドポスト８とガイドブッシュ９は、その
係合部平面１３を上型３と下型６の中心より放射状に延
長し直線上に配設し、さらに、上型３と下型６の中心に
対してガイドポスト８とガイドブッシュ９がそれぞれ点
対称となるように配設されている。
【００２７】このような構造のシャドウマスク成形装置
の加熱による熱膨張の影響を考えると、まず、係合部形
状を係合部平面１３とし、その他の周囲に逃げ１２を設
けることにより、熱膨張によるかじりはその係合部平面
１３のみ考慮すればよいことになる。
の加熱による熱膨張の影響を考えると、まず、係合部形
状を係合部平面１３とし、その他の周囲に逃げ１２を設
けることにより、熱膨張によるかじりはその係合部平面
１３のみ考慮すればよいことになる。
【００２８】温間プレスシャドウマスク成形装置加熱部
分であるパッド１，ポンチ２，ダイ４，シェダー５は、
それぞれ上型３，下型６の中央部に配設されるので、加
熱による熱は中心の位置から放射状に伝達される。よっ
て、ガイドポスト８，ガイドブッシュ９の係合部平面１
３を中心方向より放射方向に配設することにより係合部
平面１３の熱膨張を係合部平面１３と平行な方向に逃が
し、伸びを吸収することが可能となる。
分であるパッド１，ポンチ２，ダイ４，シェダー５は、
それぞれ上型３，下型６の中央部に配設されるので、加
熱による熱は中心の位置から放射状に伝達される。よっ
て、ガイドポスト８，ガイドブッシュ９の係合部平面１
３を中心方向より放射方向に配設することにより係合部
平面１３の熱膨張を係合部平面１３と平行な方向に逃が
し、伸びを吸収することが可能となる。
【００２９】また、ガイドポスト８とガイドブッシュ９
の係合部平面１３とその周囲の逃げ１２をそれぞれ上型
３と下型６と中心に対して点対称となるように設けるこ
とにより、お互いに逃げ１２のがたつきを規制する働き
をするので、上型３と下型６と位置精度は保障されるこ
とになる。
の係合部平面１３とその周囲の逃げ１２をそれぞれ上型
３と下型６と中心に対して点対称となるように設けるこ
とにより、お互いに逃げ１２のがたつきを規制する働き
をするので、上型３と下型６と位置精度は保障されるこ
とになる。
【００３０】なお、上記の説明では上型３と下型６のガ
イドポスト６とガイドブッシュ９を例に説明を行なった
が、シェダー５摺動部のシェダーポスト１０とパッド１
摺動部のパッドポスト１１においても上述と同様に実施
することが望ましい。
イドポスト６とガイドブッシュ９を例に説明を行なった
が、シェダー５摺動部のシェダーポスト１０とパッド１
摺動部のパッドポスト１１においても上述と同様に実施
することが望ましい。
【００３１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ガイドブ
ッシュとガイドポストを上型と下型の中心から延長した
直線上の平面で接触させ、それぞれ上型と下型の中心に
対して点対称となるように配設し、温間プレスシャドウ
マスク成形装置の円滑な稼働と高精度の位置決めを両立
させることにより、ドーミング減少の少ないアンバー材
等を用いた温間プレス加工が可能となり曲面変形の少な
い高精度のシャドウマスクが得られるという効果があ
る。
ッシュとガイドポストを上型と下型の中心から延長した
直線上の平面で接触させ、それぞれ上型と下型の中心に
対して点対称となるように配設し、温間プレスシャドウ
マスク成形装置の円滑な稼働と高精度の位置決めを両立
させることにより、ドーミング減少の少ないアンバー材
等を用いた温間プレス加工が可能となり曲面変形の少な
い高精度のシャドウマスクが得られるという効果があ
る。
【図１】本発明の一実施例の側面図である。
【図２】本発明の一実施例の平面図及びガイドポストと
ガイドブッシュの係合部の部分拡大斜視図である。
ガイドブッシュの係合部の部分拡大斜視図である。
【図３】従来のシャドウマスクの温間プレス加工方法を
説明する工程順に示したシャドウマスク成形装置の側面
図である。
説明する工程順に示したシャドウマスク成形装置の側面
図である。
【図４】従来のシャドウマスク成形装置の一例の平面図
及びガイドポストとガイドブッシュの係合部の部分拡大
斜視図である。
及びガイドポストとガイドブッシュの係合部の部分拡大
斜視図である。
１ パッド ２ ポンチ ３ 上型 ４ ダイ ５ シェダー ６ 下型 ７ マスク素材板 ８ ガイドポスト ９ ガイドブッシュ １０ シェダーポスト １１ パッドポスト １２ 逃げ １３ 係合部平面
Claims (1)
- 【請求項１】 加熱要素を埋設した上型と下型を互いに
対向させて前記上型のガイドブッシュと前記下型のガイ
ドポストを係合させながら相互に移動させることにより
前記上型の間に挿入したシャドウマスク素材板をプレス
加工するシャドウマスク成形装置において、前記ガイド
ブッシュと前記ガイドポストのそれぞれの係合部の一部
を平面とし、該平面同志を接触させるとともに、前記平
面を上型と下型の中心の位置から放射状に延長した直線
上に配設し、かつ、ガイドブッシュとガイドポストをそ
れぞれ前記上型と下型の中心に対して点対称となるよう
に配設したことを特徴とするシャドウマスク成形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3212542A JP2743645B2 (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | シャドウマスク成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3212542A JP2743645B2 (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | シャドウマスク成形装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0554793A JPH0554793A (ja) | 1993-03-05 |
| JP2743645B2 true JP2743645B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=16624406
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3212542A Expired - Lifetime JP2743645B2 (ja) | 1991-08-26 | 1991-08-26 | シャドウマスク成形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2743645B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102324475B1 (ko) * | 2021-04-06 | 2021-11-09 | 김인일 | 차량 인터쿨러의 곡면 방열핀 성형용 휨 가공장치 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2507305B2 (ja) * | 1985-10-31 | 1996-06-12 | 株式会社東芝 | シヤドウマスクの温間プレス成形装置 |
-
1991
- 1991-08-26 JP JP3212542A patent/JP2743645B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0554793A (ja) | 1993-03-05 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980106 |