JP2507305B2 - シヤドウマスクの温間プレス成形装置 - Google Patents

シヤドウマスクの温間プレス成形装置

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JP2507305B2
JP2507305B2 JP60242639A JP24263985A JP2507305B2 JP 2507305 B2 JP2507305 B2 JP 2507305B2 JP 60242639 A JP60242639 A JP 60242639A JP 24263985 A JP24263985 A JP 24263985A JP 2507305 B2 JP2507305 B2 JP 2507305B2
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正則 井垣
隆行 佐藤
義道 堀
達也 足立
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明はカラー受像管に用いられるシャドウマスクの
温間プレス成形装置に関するものである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
一般にシャドウマスク型カラー受像管は実質的に矩形
状のパネルと漏斗状のファンネルとネックとから構成さ
れる。そしてパネルの内面には赤,緑および青に夫々発
光する蛍光体スクリーンが設けられ、一方ネックにはパ
ネルの水平軸に沿った電子ビームを射出する、いわゆる
インライン型電子銃が内設されている。またスクリーン
に近接対向して多数の透孔の穿設された色選別機能をも
ったシャドウマスクが配置される。シャドウマスクの周
辺部はパネル外形に対応して折り曲げられたスカート部
を有し、このスカート部は断面L字型の枠からなるマス
クフレームによって支持固定され、さらにマスクフレー
ムはスプリングを介してパネル内側壁に埋め込まれたピ
ンで係止めされている。このような受像管においてシャ
ドウマスクの透孔を通過する有効電子ビーム量はその構
造上1/3以下であり、残りの電子ビームはシャドウマス
クに射突し熱エネルギーに変換されて80℃程度までシャ
ドウマスクを加熱させる。その際シャドウマスクの熱膨
張によりドーミング現象が起こり、電子ビームのミスラ
ンディングが発生する。
このような問題点を解決するために特公昭42-25446号
公報では従来の高純度の鉄を主成分とするアルミキルド
脱炭鋼に比べて熱膨張率の低い鉄−ニッケル系合金をシ
ャドウマスク材として使用するという提案がなされてい
る。
しかしながら特開昭59-200721号公報に示されるよう
に鉄−ニッケル系合金を主成分とするシャドウマスク用
素材としてアンバー合金を用いた場合、その降伏点強度
は29〜30kg/mm2と従来のアルミキルド脱炭鋼の約20kg/m
m2に比べてはるかに大きい。そのため鉄−ニッケル系合
金からなる金属板の加工、即ち多数の透孔を有する有効
主面部は曲面状に実質的に矩形状の主面周縁部にスカー
ト部を形成する加工が困難であり、未だ実用条件を満足
するには至っていない。
そのため鉄−ニッケル系合金を主成分とする金属板に
多数の開孔を穿設し焼鈍し、しかる後温間プレス成形す
ることによって降伏点強度を低下させ変形のない高精度
のシャドウマスクを供給するとしている。ここで金属薄
板を塑性加工する際、その再結晶温度より低い温度で行
なう加工を一般に温間成形と称する。
しかしながら温間プレス成形をシャドウマスクに適用
する場合温度設定等の成形条件に加えて成形装置自体に
も種々の問題が生ずる。
以下従来のプレス成形装置を第5図および第6図によ
り説明する。第5図は従来のプレス成形装置の断面図、
第6図は第5図の下型の平面図である。
第5図および第6図において、上部マニホールド(1
3)にはポンチ(5)と上ピストン(14)によりポンチ
(5)側面を摺動する周辺押え(3)とガイドピン
(1)およびガイドブッシュ(2)が設けられておりま
た下部マニホールド(15)にはノックアウト(6)およ
びダイ(4)を共に支持するノックアウトプレート(1
7)と、このノックアウトプレート(17)を上下する下
ピストン(16)、ダイ(4)用のスペーサ(10)および
ガイドピン(1)が設けられている。
このようなシャドウマスクのプレス成形装置に温間プ
レスを適用する場合、プレス成形装置の金型のガイド方
法は通常円筒状のガイドピン(1)とこのガイドピンに
摺動するリング状のガイドブッシュ(2)をコーナー要
部に配置して行なっていた。また温間プレス成形する際
加熱するのは金型の一部分であり金型の内部に温度勾配
が生ずる。
例えば金型として熱間型鋼による成形装置でシャドウ
マスクの温間プレス成形を行なうと線熱膨張係数が11.4
×10-6のため24インチ以上の大型マスク成形型で摺動部
材間に10℃の温度差を生ずるため最大0.1mmのガイドの
ピッチ移動差を生ずることになる。従来のプレス成形装
置のガイドピンとガイドブッシュのクリアランスは0.02
〜0.05mmであり、このピッチ移動差によりくいつきが発
生し金型としての所定の動作が不可能になる。
〔発明の目的〕 本発明は温間プレス成形においても金型の動きが円滑
で高精度のシャドウマスクの成形を可能とした温間プレ
ス成形装置を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
本発明はポンチおよび周辺押えを含む上部マニホール
ド構体と、ノックアウトおよびダイとを含む下部マニホ
ールド構体と前記上部マニホール構体と下部マニホール
ド構体のいずれかの一方に固定されたガイドポストブロ
ックとを少なくとも備えたシャドウマスクの温間プレス
成形装置において、ガイドポストブロックと上部マニホ
ールド構体または下部マニホールド構体との摺動部の少
なくとも一部に開放面を有することによって金型の加熱
膨張によるピッチ移動を防止するシャドウマスクの温間
プレス成形装置である。
〔発明の実施例〕
次に本発明の実施例を第1図および第2図により詳細
に説明する。
まず本装置の機構としてシャドウマスクの素材(7)
を挿入後ポンチ(5)を下降させると素材(7)の周縁
部は周辺押え(3)とダイ(4)の間で押圧され主面部
は曲面成形される。次いダイ(4)はスペーサ(10)ま
で下降して止まるが、ノックアウト(6)は押圧されて
下降すると共にシャドウマスクのスカート部はポンチ
(5)とダイ(4)の関係において絞り成形され、シャ
ドウマスクの外形が完成する。
第1図および第2図において本装置はポンチおよび周
辺押えを含む上部マニホールド構体とノックアウトおよ
びダイとを含む下部マニホールド構体と上部マニホーツ
ド構体および下部マニホールド構体のガイドとしていず
れか一方に固定されたガイドポストブロックから構成さ
れている。ここで上部マニホールド(13)にはポンチ
(5)と上ピストン(14)によりポンチ(5)側面を摺
動する周辺押え(3)とガイドブロック(8)およびガ
イドブッシュブロック(9)が設けられており、また下
部マニホールド(15)にはノックアウト(6)およびダ
イ(4)を共に支持するノックアウトプレート(17)と
このノックアウトプレート(17)を上下する下ピストン
(16)、ダイ(4)用のスペーサ(10)およびガイドポ
ストブロック(8)が設けられている。さらに第2図に
示すダイ(4)の平面図のようにガイドポストブロック
(8)とガイドブッシュブロック(9)の間には間隙
(12)を設けてある。
このような構成の温間プレス成形装置を用いて温間プ
レス成形を行なうとダイ(4)の熱膨張によりガイドブ
ッシュブロック(9)が外方向へピッチ移動する。また
スペーサ(10)はダイ(4)ほど温度上昇しないためガ
イドポストブロック(8)は熱膨張によるピッチ移動は
少ない。そのためガイドポストブロック(8)とガイド
ブッシュブロック(9)との間でピッチ移動差を生じる
がそのピッチ移動差を間隙(12)で吸収することができ
る。
したがってこのような構造にすると前述の24インチ以
上の大型マスク成形でも摺動部材間のくいつきを防止す
ることができ、所定のプレス成形動作を達成することが
できる。
第3図は本発明の他の実施例を示すプレス装置のダイ
(4)の平面図である。
この場合ガイドポストブロック(8)を4つのコーナ
ー部に配置しているので温間プレス成形する際、加熱部
分(11)からガイドブッシュブロック(9)までの距離
が等しいため、ガイドポストブロック(8)とガイドブ
ッシュブロック(9)との間隙(12)を4ヶ所全て同一
にすることができる。
第4図は第2図のガイド形状の一例を示す平面図であ
る。このようなガイドポストブロック(8)の形状をと
ることにより、ガイドポストブロック(8)の強度を上
げることが可能になる。
〔発明の効果〕
上述のように本発明によればシャドウマスクの温間プ
レス成形の際、ガイドブッシュブロックとガイドブロッ
クとの間のピッチ移動差をその間隙で吸収し、摺動部材
間でのくいつきを防止し所定のプレス成形動作を行なわ
せることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のシャドウマスクの温間プレス成形装置
の一実施例を示す断面図、第2図は第1図の下型を示す
平面図、第3図は本発明の他の実施例を示す平面図、第
4図は第2図のガイド形状の一例を示す平面図、第5図
は従来のプレス成形装置を示す断面図、第6図は第5図
の下型の平面図である。 (1)……ガイドピン、(2)……ガイトブッシュ、
(3)……周辺押え、(4)……ダイ、(5)……ポン
チ、(6)……ノックアウト、(7)……素材、(8)
……ガイトポストブロック、(9)……ガイドブッシュ
ブロック、(10)……スペーサ、(11)……加熱部分、
(12)……間隙、(13)……上記マニホールド、(14)
……上ピストン、(15)……下部マニホールド、(16)
……下ピストン、(17)……ノックアウトプレート
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 29/07 H01J 29/07 (72)発明者 足立 達也 横浜市磯子区新杉田町8 株式会社東芝 横浜金属工場内 (56)参考文献 特開 昭59−111232(JP,A) 実開 昭59−62825(JP,U)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】少なくともポンチおよび周辺押えを含む上
    部マニホールド構体と、ノックアウトおよびダイとを含
    む下部マニホールド構体と、前記上部マニホールド構体
    と前記下部マニホールド構体のいずれかの一方に固定さ
    れたガイドポストブロックとを少なくとも備え、シャド
    ウマスクの主面の有効部は曲面成形し周辺部は絞り加工
    を行なうシャドウマスクの温間プレス成形装置におい
    て、前記ガイドポストブロックと前記上部マニホールド
    構体または前記下部マニホールド構体との摺動部の少な
    くとも一部に間隙を有することを特徴とするシャドウマ
    スクの温間プレス成形装置。
  2. 【請求項2】前記ガイドポストブロックを少なくとも3
    ヶ所以上備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載のシャドウマスクの温間プレス成形装置。
JP60242639A 1985-10-31 1985-10-31 シヤドウマスクの温間プレス成形装置 Expired - Lifetime JP2507305B2 (ja)

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