JP2740977B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体装置に係り、特に半導体集積チップ
を実装するリードフレーム構体の構造に関する。
を実装するリードフレーム構体の構造に関する。
(従来の技術) パワートランジスタ等のパワーデバイスを集積化して
なる半導体集積回路の分野では、高いパワーを用いるた
めに、電流供給のためのリードはワイヤとの接続部にお
けるインダクタンスの増大を防ぐために、ボンディング
ワイヤに代えてパワープレートを介してチップのボンデ
ィングパッドに接続するという方法が取られることが多
い。また、高集積化に従い、リードの本数を低減する目
的から、複数のパッドから接地ラインに落とすような場
合、接地用のプレートを設けこれにすべて接続するとい
う方法が有力となってきている。
なる半導体集積回路の分野では、高いパワーを用いるた
めに、電流供給のためのリードはワイヤとの接続部にお
けるインダクタンスの増大を防ぐために、ボンディング
ワイヤに代えてパワープレートを介してチップのボンデ
ィングパッドに接続するという方法が取られることが多
い。また、高集積化に従い、リードの本数を低減する目
的から、複数のパッドから接地ラインに落とすような場
合、接地用のプレートを設けこれにすべて接続するとい
う方法が有力となってきている。
さらにまた、発熱量も大きいため、ダイパッドに代え
て放熱性の良好な金属板からなる大きな放熱板を必要と
する傾向にある。
て放熱性の良好な金属板からなる大きな放熱板を必要と
する傾向にある。
このようなパワーデバイスでは、一例を第3図に示す
ように、通常、接地用のグランドプレート12とパワープ
レート14とがリードフレーム本体15に対して各々所定の
部位に設けられた舌片を介して溶接により一体的に接続
されリードフレーム構体を構成している。
ように、通常、接地用のグランドプレート12とパワープ
レート14とがリードフレーム本体15に対して各々所定の
部位に設けられた舌片を介して溶接により一体的に接続
されリードフレーム構体を構成している。
このため、舌片の折り曲げ精度や、溶接位置精度の影
響により溶接箇所がはがれたり各構成体に歪みを生じた
りすることがあった。
響により溶接箇所がはがれたり各構成体に歪みを生じた
りすることがあった。
(発明が解決しようとする問題点) このように、従来のパワーデバイスでは、接地用のグ
ランドプレートやパワープレート等とリードフレーム本
体との接続が、各々所定の部位に設けられた舌片を介し
て溶接によりなされているため、接続不良や変形を生じ
易く、これがデバイスとしての信頼性低下の原因となっ
ていた。
ランドプレートやパワープレート等とリードフレーム本
体との接続が、各々所定の部位に設けられた舌片を介し
て溶接によりなされているため、接続不良や変形を生じ
易く、これがデバイスとしての信頼性低下の原因となっ
ていた。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、製造が
容易で信頼性の高い半導体装置を提供することを目的と
する。
容易で信頼性の高い半導体装置を提供することを目的と
する。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するため、請求項1記載の発明は、 半導体チップ載置部上に設置された半導体チップと、 前記半導体チップ載置部上に第1の絶縁層を介して積
層された導電性プレートと、 前記導電性プレート上に第2の絶縁層を介して積層さ
れ、前記半導体チップの周縁に先端がくるように、複数
のリードを表面に配設してなるリードフレーム本体と、 前記第2の絶縁層に形成され、導体が充填されたスル
ーホールとを具備し、 前記導電性プレートは、 前記スルーホールの前記導体を介して、前記リードフ
レーム本体の少なくとも1つのリードに接続されるよう
にしたことを特徴とする。
層された導電性プレートと、 前記導電性プレート上に第2の絶縁層を介して積層さ
れ、前記半導体チップの周縁に先端がくるように、複数
のリードを表面に配設してなるリードフレーム本体と、 前記第2の絶縁層に形成され、導体が充填されたスル
ーホールとを具備し、 前記導電性プレートは、 前記スルーホールの前記導体を介して、前記リードフ
レーム本体の少なくとも1つのリードに接続されるよう
にしたことを特徴とする。
また、請求項2記載の発明は、 前記第1の絶縁層および前記導電性プレートおよび前
記第2の絶縁層を貫通するように形成され、導体が充填
された第2のスルーホールを具備し、 前記導電性プレートは、 プレート状の電源供給用導体を構成し、 前記半導体載置部は、 プレート状の接地用導体を構成し、前記第2のスルー
ホールの前記導体を介して、前記リードフレーム本体の
少なくとも1つのリードに接続されるようにしたことを
特徴とする。
記第2の絶縁層を貫通するように形成され、導体が充填
された第2のスルーホールを具備し、 前記導電性プレートは、 プレート状の電源供給用導体を構成し、 前記半導体載置部は、 プレート状の接地用導体を構成し、前記第2のスルー
ホールの前記導体を介して、前記リードフレーム本体の
少なくとも1つのリードに接続されるようにしたことを
特徴とする。
(作用) 上記構成により、リードと導電性プレートとが絶縁層
に形成されたスルーホールに充填された導体を介して接
続されているため、歪みや剥がれもなく、高精度の接続
を確実に行うことが可能となる。
に形成されたスルーホールに充填された導体を介して接
続されているため、歪みや剥がれもなく、高精度の接続
を確実に行うことが可能となる。
すなわち、第3図に示した従来例のリードフレームで
用いられていたような舌片は不要となり、折り曲げ加工
の必要がなくなるため、機械的応力がかからず、剥がれ
や歪みを生じることもない。
用いられていたような舌片は不要となり、折り曲げ加工
の必要がなくなるため、機械的応力がかからず、剥がれ
や歪みを生じることもない。
(実施例) 以下本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細
に説明する。
に説明する。
実施例1 第1図は、本発明の第1の実施例のパワーデバイスの
要部を示す断面図である。
要部を示す断面図である。
このデバイスは、半導体チップ1を載置すると共にグ
ランドプレートとしての役割を行う第1の導電板2と、
この上層に接着剤3を介して固着され、電源ラインに接
続されるパワープレートとしての第2の導電板4と、さ
らにこの上層に接着剤3を介して固着され、前記第1の
導電板2の半導体チップ搭載部を囲むように複数のイン
ナーリードを配設してなるリードフレーム本体5とから
構成され、封止樹脂Pによって封止せしめられてなるも
のである。
ランドプレートとしての役割を行う第1の導電板2と、
この上層に接着剤3を介して固着され、電源ラインに接
続されるパワープレートとしての第2の導電板4と、さ
らにこの上層に接着剤3を介して固着され、前記第1の
導電板2の半導体チップ搭載部を囲むように複数のイン
ナーリードを配設してなるリードフレーム本体5とから
構成され、封止樹脂Pによって封止せしめられてなるも
のである。
このリードフレーム本体5と第1および第2の導電板
は貫通孔Hに充填された導電性ペーストを介して電気的
に接続されており、半導体チップ上の各ボンディングパ
ッドとそれぞれを接続するようにボンディングワイヤを
介して接続がなされている。
は貫通孔Hに充填された導電性ペーストを介して電気的
に接続されており、半導体チップ上の各ボンディングパ
ッドとそれぞれを接続するようにボンディングワイヤを
介して接続がなされている。
次に、このデバイスの製造工程について説明する。
まず、第2図(a)に示すように、通常のスタンピン
グ法により、帯状材料を加工し、半導体チップ載置領域
aと対峙するインナーリード6、アウターリード7、タ
イバー8などを含む通常のリードフレームの形状に成型
する。9はサイドバーである。次いで、コイニング処理
を行い、インナーリード先端部の平坦幅を確保したの
ち、先端部にめっきを行う。Mはめっき領域を示す。こ
のとき必要に応じて、インナーリード先端部のボンディ
ングエリアを避けるように熱硬化性樹脂を介して絶縁性
テープを貼着し、加熱工程を経て硬化させ、固定するよ
うにしてもよい。
グ法により、帯状材料を加工し、半導体チップ載置領域
aと対峙するインナーリード6、アウターリード7、タ
イバー8などを含む通常のリードフレームの形状に成型
する。9はサイドバーである。次いで、コイニング処理
を行い、インナーリード先端部の平坦幅を確保したの
ち、先端部にめっきを行う。Mはめっき領域を示す。こ
のとき必要に応じて、インナーリード先端部のボンディ
ングエリアを避けるように熱硬化性樹脂を介して絶縁性
テープを貼着し、加熱工程を経て硬化させ、固定するよ
うにしてもよい。
一方、第2図(b)および第2図(c)に示すよう
に、また通常のスタンピング法により、放熱性の良好な
銅板を加工し、グランドプレートとしての役割を行う第
1の導電板2と、電源ラインに接続されるパワープレー
トとしての第2の導電板4とを形成する。これらの内第
2の導電板4に対しては、打ち抜き後、表面を絶縁性の
ポリイミド膜11で被覆すると共に、所定の位置にポリイ
ミド膜11のみを貫通する第1の貫通穴Wと、ポリイミド
膜11および板本体を貫通する第2の貫通穴Hとを配設
し、第2の貫通穴Hの側壁は絶縁膜sで被覆するように
する。また、第1の導電板2に対しては、打ち抜き後、
表面を絶縁性のポリイミド膜11で被覆すると共に、半導
体チップ載置部およびダイパッドに接続するためのイン
ナーリードの先端の所定の位置にポリイミド膜11のみを
貫通する第1の貫通穴Wを配設する。
に、また通常のスタンピング法により、放熱性の良好な
銅板を加工し、グランドプレートとしての役割を行う第
1の導電板2と、電源ラインに接続されるパワープレー
トとしての第2の導電板4とを形成する。これらの内第
2の導電板4に対しては、打ち抜き後、表面を絶縁性の
ポリイミド膜11で被覆すると共に、所定の位置にポリイ
ミド膜11のみを貫通する第1の貫通穴Wと、ポリイミド
膜11および板本体を貫通する第2の貫通穴Hとを配設
し、第2の貫通穴Hの側壁は絶縁膜sで被覆するように
する。また、第1の導電板2に対しては、打ち抜き後、
表面を絶縁性のポリイミド膜11で被覆すると共に、半導
体チップ載置部およびダイパッドに接続するためのイン
ナーリードの先端の所定の位置にポリイミド膜11のみを
貫通する第1の貫通穴Wを配設する。
そして、第2図(d)に示すように、第1の導電板2
の中央部に半導体チップ1を導電性接着剤12を介して固
着すると共に、前記第1および第2の導電板の第1およ
び第2の貫通穴H,Wに導電性ペーストDを充填し、第1
の導電板、第2の導電板、リードフレーム本体5を順次
積層し、絶縁性接着剤3によって一体的に固着する。
の中央部に半導体チップ1を導電性接着剤12を介して固
着すると共に、前記第1および第2の導電板の第1およ
び第2の貫通穴H,Wに導電性ペーストDを充填し、第1
の導電板、第2の導電板、リードフレーム本体5を順次
積層し、絶縁性接着剤3によって一体的に固着する。
この後、ワイヤボンディングを行い、樹脂封止を行っ
て、第1図に示したようなデバイスが完成する。
て、第1図に示したようなデバイスが完成する。
このようにして形成されたデバイスは、リードと導電
性プレートとが絶縁層に形成されたスルーホールに充填
された導電性ペーストを介して接続されているため、歪
みや剥がれもなく、高精度の接続を確実に行うことが可
能となる。
性プレートとが絶縁層に形成されたスルーホールに充填
された導電性ペーストを介して接続されているため、歪
みや剥がれもなく、高精度の接続を確実に行うことが可
能となる。
また、第3図に示した従来例のリードフレームのよう
に、折り曲げ加工時の機械的応力による剥がれや歪やを
生じることもなく信頼性の高いデバイスを得ることが可
能となる。
に、折り曲げ加工時の機械的応力による剥がれや歪やを
生じることもなく信頼性の高いデバイスを得ることが可
能となる。
なお前記実施例では、パワープレートや接地プレート
は、一枚の導電性の板状体で構成したが、絶縁性基板上
に所望のパターンを形成することによって行っても良
い。このとき信号線およびグランド線のパターンは、ス
パッタリングおよび電解めっきによって形成された銅薄
膜をフォトリソ法によりパターニングして形成する方
法、樹脂フィルム表面に表面処理を行った後、薄い銅箔
を直接圧着したり、接着剤を介して固着したりして銅薄
膜を形成した後パターニングしたりまた、薄い銅箔の表
面にポリイミド樹脂等の絶縁性樹脂を塗布しこれを硬化
することによって銅薄膜を形成した後、同様にフォトリ
ソ法によりパターニングするなどの方法をとることも可
能である。
は、一枚の導電性の板状体で構成したが、絶縁性基板上
に所望のパターンを形成することによって行っても良
い。このとき信号線およびグランド線のパターンは、ス
パッタリングおよび電解めっきによって形成された銅薄
膜をフォトリソ法によりパターニングして形成する方
法、樹脂フィルム表面に表面処理を行った後、薄い銅箔
を直接圧着したり、接着剤を介して固着したりして銅薄
膜を形成した後パターニングしたりまた、薄い銅箔の表
面にポリイミド樹脂等の絶縁性樹脂を塗布しこれを硬化
することによって銅薄膜を形成した後、同様にフォトリ
ソ法によりパターニングするなどの方法をとることも可
能である。
また、前記実施例では、ワイヤボンディング方式のリ
ードフレームを用いた例について説明したが、集積回路
チップ載置部に向かって突出する舌片を備えたインナー
リードを用いることにより、ダイレクトボンディング方
式にも適用可能である。
ードフレームを用いた例について説明したが、集積回路
チップ載置部に向かって突出する舌片を備えたインナー
リードを用いることにより、ダイレクトボンディング方
式にも適用可能である。
さらにまた、複数のインナーリードと、これら複数の
インナーリードのそれぞれに対応して外方に突出する舌
片からなるアウターリードとを配設してなる樹脂フィル
ムからなり、表面および裏面の導体層が前記樹脂フィル
ムに形成されたスルーホールを介して接続されていると
共に、該舌片を集積回路チップのボンディングパッドに
直接接続するように構成されたいわゆるTAB技術を用い
たフィルムキャリアにも適用可能である。
インナーリードのそれぞれに対応して外方に突出する舌
片からなるアウターリードとを配設してなる樹脂フィル
ムからなり、表面および裏面の導体層が前記樹脂フィル
ムに形成されたスルーホールを介して接続されていると
共に、該舌片を集積回路チップのボンディングパッドに
直接接続するように構成されたいわゆるTAB技術を用い
たフィルムキャリアにも適用可能である。
以上説明してきたように、本発明によれば、複数のイ
ンナーリードを配列してなるリードフレーム本体に絶縁
層を介して少なくとも1つの導電性プレートを固着し、
絶縁層に形成されたスルーホールに充填された導体を介
してリードと導電性プレートとが接続されるようにして
いるため、位置ずれや歪みや剥がれもなく、高精度の接
続を確実に行うことが可能となる。
ンナーリードを配列してなるリードフレーム本体に絶縁
層を介して少なくとも1つの導電性プレートを固着し、
絶縁層に形成されたスルーホールに充填された導体を介
してリードと導電性プレートとが接続されるようにして
いるため、位置ずれや歪みや剥がれもなく、高精度の接
続を確実に行うことが可能となる。
第1図は、本発明実施例の半導体装置を示す図、第2図
(a)乃至第2図(d)は、同半導体装置の製造工程
図、第3図は従来例の半導体装置を示す図である。 1……半導体チップ、2……第1の導電板、3……接着
剤、4……第2の導電板、5……リードフレーム本体、
P……封止樹脂、a……半導体チップ載置領域、6……
インナーリード、7……アウターリード、8……タイバ
ー、9……サイドバー、W……第1の貫通穴、11……ポ
リイミド膜、s……絶縁膜、H……第2の貫通穴。
(a)乃至第2図(d)は、同半導体装置の製造工程
図、第3図は従来例の半導体装置を示す図である。 1……半導体チップ、2……第1の導電板、3……接着
剤、4……第2の導電板、5……リードフレーム本体、
P……封止樹脂、a……半導体チップ載置領域、6……
インナーリード、7……アウターリード、8……タイバ
ー、9……サイドバー、W……第1の貫通穴、11……ポ
リイミド膜、s……絶縁膜、H……第2の貫通穴。
Claims (2)
- 【請求項1】半導体チップ載置部上に設置された半導体
チップと、 前記半導体チップ載置部上に第1の絶縁層を介して積層
された導電性プレートと、 前記導電性プレート上に第2の絶縁層を介して積層さ
れ、前記半導体チップの周縁に先端がくるように、複数
のリードを表面に配設してなるリードフレーム本体と、 前記第2の絶縁層に形成され、導体が充填されたスルー
ホールとを具備し、 前記導電性プレートは、 前記スルーホールの前記導体を介して、前記リードフレ
ーム本体の少なくとも1つのリードに接続されるように
したことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】前記第1の絶縁層および前記導電性プレー
トおよび前記第2の絶縁層を貫通するように形成され、
導体が充填された第2のスルーホールを具備し、 前記導電性プレートは、 プレート状の電源供給用導体を構成し、 前記半導体載置部は、 プレート状の接地用導体を構成し、前記第2のスルーホ
ールの前記導体を介して、前記リードフレーム本体の少
なくとも1つのリードに接続されるようにしたことを特
徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP8538290A JP2740977B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8538290A JP2740977B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03283646A JPH03283646A (ja) | 1991-12-13 |
JP2740977B2 true JP2740977B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=13857191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP8538290A Expired - Fee Related JP2740977B2 (ja) | 1990-03-30 | 1990-03-30 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2740977B2 (ja) |
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JPS63188962A (ja) * | 1987-01-31 | 1988-08-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 集積回路用パツケ−ジ |
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-
1990
- 1990-03-30 JP JP8538290A patent/JP2740977B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JPH03283646A (ja) | 1991-12-13 |
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