JP2739078B2 - イオン注入装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、イオン注入装置に関する。

（従来の技術） 一般に、イオン注入装置は、半導体ウエハ等の被処理
物に不純物をドーピングする装置として広く用いられて
いる。

このようなイオン注入装置は、イオンソースで発生さ
せたイオンを、ステンレス鋼またはアルミニウム等から
なる真空チャンバ内に電気的に引き出し、アナライザマ
グネット、加速管、電子レンズ等で所望のイオンビーム
とした後、プラテンに配置された被処理物例えば半導体
ウエハにＸ−Ｙ方向に走査しながら照射してイオンを注
入する。したがって、イオン注入装置の真空チャンバ内
には、イオンビームの加速、収束、走査、測定するため
の各機器ユニットが配置されている。

また、上記真空チャンバ内に配置された機器ユニット
は、定期的なクリーニングおよび交換等のメンテナンス
を行う必要がある。このため、従来のイオン注入装置で
は、真空チャンバに開口を設け、この開口に着脱可能に
構成されたカバープレートを配置して、このカバープレ
ートを取外すことにより、メンテナンス可能に構成され
ている。なお、真空チャンバ内に配置された各機器ユニ
ットは、このカバープレートおよび真空チャンバに固
定、支持されている。

（発明が解決しようとする課題） 上述のように、従来のイオン注入装置では、イオンビ
ームを収束、偏光、走査、測定するための機器ユニット
の定期的なクリーニングおよび交換等のメンテナンスを
行う際に、真空チャンバからカバープレートを取外して
行う必要がある。

しかしながら、このカバープレートには、上述のよう
な機器ユニットが取付けられており、その重量は重い。
また、上記機器ユニットを破損させる危険性もあるた
め、カバープレートの取外しおよび取付けには、複数の
作業員による慎重な作業が要求される。

本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもの
で、従来に較べて真空チャンバ内の機器ユニットのメン
テナンスを容易に実施することのできるイオン注入装置
を提供しようとするものである。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） すなわち請求項１の発明は、所望のイオンビームを形
成するための機器ユニットを収容し、被処理物にイオン
ビームを走査、照射するための真空チャンバと、この真
空チャンバに設けられた開口を気密に閉塞する如く設け
られ前記機器ユニットの少なくとも一部を支持するカバ
ープレートとを備えたイオン注入装置において、 前記カバープレートおよび前記真空チャンバに、該カ
バープレートを該真空チャンバに対してスライド可能と
するスライド機構と、該カバープレートを該真空チャン
バに回動自在に支持するヒンジ機構を設け、 前記スライド機構によって前記カバープレートを前記
ヒンジ機構側にスライドさせた後、前記ヒンジ機構によ
り前記カバープレートを支持して回動可能に構成したこ
とを特徴とする。

また、請求項２の発明は、請求項１記載のイオン注入
装置において、 前記真空チャンバの前記カバープレート以外の部位
に、前記機器ユニットのメンテナンスを行うためのメン
テナンス用開口部を設けたことを特徴とする。

（作 用） 上記構成の本発明のイオン注入装置では、ヒンジ機構
によりカバープレートを回動させる、あるいはカバープ
レート以外の部位に設けられたメンテナンス用開口部を
開とすることにより、従来に較べて容易に真空チャンバ
内の機器ユニットのメンテナンスを行うことができる。

（実施例） 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。

真空チャンバ１は、例えばステンレス鋼またはアルミ
ニウム等から構成されており、真空チャンバ１の一方の
側面には、矩形開口２が設けられている。この矩形開口
２には、例えばネジ止め等により矩形開口２を気密に閉
塞可能とされた、カバープレート３が配置されている。
そして、このカバープレート３の内側および真空チャン
バ１の内側には、図示しないイオンビームを加速、収
束、走査、測定するための各機器ユニット、例えば加速
用電極、収束用電極、走査用電極等が固定されている。

さらに、上記カバープレート３の端部には、上下にそ
れぞれナックル部４が設けられており、真空チャンバ１
の側端部には、上記ナックル部４に対応してチャンバロ
ッド部５が設けられている。また、真空チャンバ１の上
下には、カバープレート３を横方向にスライド可能とす
るガイドブロック６、７がそれぞれ配置されている。

上記構成のこの実施例のイオン注入装置では、次のよ
うにして、真空チャンバ１内の機器ユニットのメンテナ
ンスを行う。

すなわち、第２図に示すように、カバープレート３と
真空チャンバ１とを固定するネジ等を取外し、カバープ
レート３をガイドブロック６、７の方向へ引き出す。し
かる後、カバープレート３をチャンバロッド部５の方向
へスライドさせ、ピン８によってナックル部４とチャン
バロッド部５とを止め、これらのナックル部４、チャン
バロッド部５、ピン８によって形成されるヒンジ機構に
よってカバープレート３を回動させ、このカバープレー
ト３および真空チャンバ１内に固定された機器ユニット
のメンテナンスを行う。

したがって、重量の重いカバープレート３を持ち上げ
ることなく、真空チャンバ１内の機器ユニットのメンテ
ナンスを行うことができ、例えば、一人の作業員でも容
易にメンテナンスを行うことができる。

なお、上記実施例では、カバープレート３の前方に、
他の機器を配置可能とするためにカバープレート３を横
方向へスライドさせるように構成したが、カバープレー
ト３の前方に、他の機器を配置する必要のない場合は、
カバープレート３を直接真空チャンバにヒンジ機構を介
して接続するよう構成してもよい。

次に第３図を参照して第２の発明の実施例について説
明する。

真空チャンバ１の一方の側面には、前述の実施例と同
様に矩形開口２が設けられており、この矩形開口２を気
密に閉塞する如くカバープレート３が配置されている。
また、このカバープレート３の内側および真空チャンバ
１の内側には、図示しないイオンビームを加速、収束、
走査、測定するための各機器ユニット、例えば加速用電
極、収束用電極、走査用電極等が固定されている。

そして、真空チャンバ１の他方の側面、すなわちカバ
ープレート３に対向する側の側面には、メンテナンス用
開口部10、11が設けられており、これらのメンテナンス
用開口部10、11は、カバー12、13により気密に閉塞可能
に構成されている。

上記構成のこの実施例のイオン注入装置では、カバー
12、13を取外し、メンテナンス用開口部10、11を開とす
ることにより、真空チャンバ１内の機器ユニットのメン
テナンスを行うことができる。したがって、重量の重い
カバープレート３を取外すことなく、例えば、一人の作
業員でも容易にメンテナンスを行うことができる。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明のイオン注入装置によれ
ば、従来に較べて真空チャンバ内の機器ユニットのメン
テナンスを容易に実施することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１の発明の実施例の要部構成を示す斜視図、
第２図は第１図のカバープレートを開とした状態を示す
斜視図、第３図は第２の発明の実施例の要部構成を示す
斜視図である。 １……真空チャンバ、２……矩形開口、３……カバープ
レート、４……ナックル部、５……チャンバロッド部、
6,7……ガイドブロック、８……ピン、10,11……メンテ
ナンス用開口部、12,13……カバー。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】所望のイオンビームを形成するための機器
   ユニットを収容し、被処理物にイオンビームを走査、照
   射するための真空チャンバと、この真空チャンバに設け
   られた開口を気密に閉塞する如く設けられ前記機器ユニ
   ットの少なくとも一部を支持するカバープレートとを備
   えたイオン注入装置において、 前記カバープレートおよび前記真空チャンバに、該カバ
   ープレートを該真空チャンバに対してスライド可能とす
   るスライド機構と、該カバープレートを該真空チャンバ
   に回動自在に支持するヒンジ機構を設け、 前記スライド機構によって前記カバープレートを前記ヒ
   ンジ機構側にスライドさせた後、前記ヒンジ機構により
   前記カバープレートを支持して回動可能に構成したこと
   を特徴とするイオン注入装置。
2. 【請求項２】請求項１記載のイオン注入装置において、 前記真空チャンバの前記カバープレート以外の部位に、
   前記機器ユニットのメンテナンスを行うためのメンテナ
   ンス用開口部を設けたことを特徴とするイオン注入装
   置。