JP2739078B2 - Ion implanter - Google Patents
Ion implanterInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、イオン注入装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to an ion implantation apparatus.
（従来の技術） 一般に、イオン注入装置は、半導体ウエハ等の被処理
物に不純物をドーピングする装置として広く用いられて
いる。(Prior Art) Generally, an ion implantation apparatus is widely used as an apparatus for doping an object to be processed, such as a semiconductor wafer, with an impurity.
このようなイオン注入装置は、イオンソースで発生さ
せたイオンを、ステンレス鋼またはアルミニウム等から
なる真空チャンバ内に電気的に引き出し、アナライザマ
グネット、加速管、電子レンズ等で所望のイオンビーム
とした後、プラテンに配置された被処理物例えば半導体
ウエハにＸ−Ｙ方向に走査しながら照射してイオンを注
入する。したがって、イオン注入装置の真空チャンバ内
には、イオンビームの加速、収束、走査、測定するため
の各機器ユニットが配置されている。Such an ion implantation apparatus electrically extracts ions generated by an ion source into a vacuum chamber made of stainless steel, aluminum, or the like, and forms a desired ion beam with an analyzer magnet, an acceleration tube, an electron lens, or the like. An ion is implanted by irradiating an object to be processed, such as a semiconductor wafer, disposed on a platen while scanning in the XY directions. Therefore, in the vacuum chamber of the ion implantation apparatus, each device unit for accelerating, converging, scanning, and measuring the ion beam is arranged.
また、上記真空チャンバ内に配置された機器ユニット
は、定期的なクリーニングおよび交換等のメンテナンス
を行う必要がある。このため、従来のイオン注入装置で
は、真空チャンバに開口を設け、この開口に着脱可能に
構成されたカバープレートを配置して、このカバープレ
ートを取外すことにより、メンテナンス可能に構成され
ている。なお、真空チャンバ内に配置された各機器ユニ
ットは、このカバープレートおよび真空チャンバに固
定、支持されている。Further, it is necessary to periodically perform maintenance such as cleaning and replacement of the equipment unit disposed in the vacuum chamber. For this reason, in the conventional ion implantation apparatus, an opening is provided in the vacuum chamber, a detachable cover plate is disposed in the opening, and the cover plate is removed to enable maintenance. Each device unit arranged in the vacuum chamber is fixed and supported by the cover plate and the vacuum chamber.
（発明が解決しようとする課題） 上述のように、従来のイオン注入装置では、イオンビ
ームを収束、偏光、走査、測定するための機器ユニット
の定期的なクリーニングおよび交換等のメンテナンスを
行う際に、真空チャンバからカバープレートを取外して
行う必要がある。(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional ion implantation apparatus, when performing maintenance such as periodic cleaning and replacement of an apparatus unit for converging, polarizing, scanning, and measuring an ion beam. It is necessary to remove the cover plate from the vacuum chamber.
しかしながら、このカバープレートには、上述のよう
な機器ユニットが取付けられており、その重量は重い。
また、上記機器ユニットを破損させる危険性もあるた
め、カバープレートの取外しおよび取付けには、複数の
作業員による慎重な作業が要求される。However, the device unit as described above is attached to this cover plate, and its weight is heavy.
Also, since there is a risk of damaging the device unit, the removal and installation of the cover plate requires careful work by a plurality of workers.
本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもの
で、従来に較べて真空チャンバ内の機器ユニットのメン
テナンスを容易に実施することのできるイオン注入装置
を提供しようとするものである。The present invention has been made in view of such a conventional situation, and an object of the present invention is to provide an ion implantation apparatus capable of easily performing maintenance of an equipment unit in a vacuum chamber as compared with the related art.
［発明の構成］ （課題を解決するための手段） すなわち請求項１の発明は、所望のイオンビームを形
成するための機器ユニットを収容し、被処理物にイオン
ビームを走査、照射するための真空チャンバと、この真
空チャンバに設けられた開口を気密に閉塞する如く設け
られ前記機器ユニットの少なくとも一部を支持するカバ
ープレートとを備えたイオン注入装置において、 前記カバープレートおよび前記真空チャンバに、該カ
バープレートを該真空チャンバに対してスライド可能と
するスライド機構と、該カバープレートを該真空チャン
バに回動自在に支持するヒンジ機構を設け、 前記スライド機構によって前記カバープレートを前記
ヒンジ機構側にスライドさせた後、前記ヒンジ機構によ
り前記カバープレートを支持して回動可能に構成したこ
とを特徴とする。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) That is, the invention of claim 1 accommodates an equipment unit for forming a desired ion beam, and scans and irradiates an object to be processed with the ion beam. A vacuum chamber, and an ion implantation apparatus including a cover plate provided to hermetically close an opening provided in the vacuum chamber and supporting at least a part of the device unit, wherein the cover plate and the vacuum chamber include: A slide mechanism that allows the cover plate to slide with respect to the vacuum chamber; and a hinge mechanism that rotatably supports the cover plate in the vacuum chamber. The slide mechanism moves the cover plate toward the hinge mechanism. After sliding, the hinge mechanism supports the cover plate so that it can rotate. It is characterized by having done.
また、請求項２の発明は、請求項１記載のイオン注入
装置において、 前記真空チャンバの前記カバープレート以外の部位
に、前記機器ユニットのメンテナンスを行うためのメン
テナンス用開口部を設けたことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the ion implantation apparatus according to the first aspect, a maintenance opening for performing maintenance of the device unit is provided in a portion of the vacuum chamber other than the cover plate. And
（作 用） 上記構成の本発明のイオン注入装置では、ヒンジ機構
によりカバープレートを回動させる、あるいはカバープ
レート以外の部位に設けられたメンテナンス用開口部を
開とすることにより、従来に較べて容易に真空チャンバ
内の機器ユニットのメンテナンスを行うことができる。(Operation) In the ion implantation apparatus of the present invention having the above configuration, the cover plate is rotated by the hinge mechanism, or the maintenance opening provided in a portion other than the cover plate is opened, so that the ion implantation device is compared with the conventional one. Maintenance of the equipment unit in the vacuum chamber can be easily performed.
（実施例） 以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
真空チャンバ１は、例えばステンレス鋼またはアルミ
ニウム等から構成されており、真空チャンバ１の一方の
側面には、矩形開口２が設けられている。この矩形開口
２には、例えばネジ止め等により矩形開口２を気密に閉
塞可能とされた、カバープレート３が配置されている。
そして、このカバープレート３の内側および真空チャン
バ１の内側には、図示しないイオンビームを加速、収
束、走査、測定するための各機器ユニット、例えば加速
用電極、収束用電極、走査用電極等が固定されている。The vacuum chamber 1 is made of, for example, stainless steel or aluminum, and has a rectangular opening 2 on one side surface of the vacuum chamber 1. The rectangular opening 2 is provided with a cover plate 3 capable of closing the rectangular opening 2 hermetically by, for example, screwing.
Inside the cover plate 3 and the inside of the vacuum chamber 1, there are provided device units for accelerating, converging, scanning, and measuring an ion beam (not shown) such as an accelerating electrode, a converging electrode, and a scanning electrode. Fixed.
さらに、上記カバープレート３の端部には、上下にそ
れぞれナックル部４が設けられており、真空チャンバ１
の側端部には、上記ナックル部４に対応してチャンバロ
ッド部５が設けられている。また、真空チャンバ１の上
下には、カバープレート３を横方向にスライド可能とす
るガイドブロック６、７がそれぞれ配置されている。Further, a knuckle portion 4 is provided at an end of the cover plate 3 at the top and bottom, respectively.
A chamber rod portion 5 is provided at a side end portion corresponding to the knuckle portion 4. Guide blocks 6 and 7 that allow the cover plate 3 to slide in the horizontal direction are arranged above and below the vacuum chamber 1, respectively.
上記構成のこの実施例のイオン注入装置では、次のよ
うにして、真空チャンバ１内の機器ユニットのメンテナ
ンスを行う。In the ion implantation apparatus of this embodiment having the above configuration, maintenance of the equipment unit in the vacuum chamber 1 is performed as follows.
すなわち、第２図に示すように、カバープレート３と
真空チャンバ１とを固定するネジ等を取外し、カバープ
レート３をガイドブロック６、７の方向へ引き出す。し
かる後、カバープレート３をチャンバロッド部５の方向
へスライドさせ、ピン８によってナックル部４とチャン
バロッド部５とを止め、これらのナックル部４、チャン
バロッド部５、ピン８によって形成されるヒンジ機構に
よってカバープレート３を回動させ、このカバープレー
ト３および真空チャンバ１内に固定された機器ユニット
のメンテナンスを行う。That is, as shown in FIG. 2, screws for fixing the cover plate 3 and the vacuum chamber 1 are removed, and the cover plate 3 is pulled out toward the guide blocks 6 and 7. Thereafter, the cover plate 3 is slid in the direction of the chamber rod portion 5, the knuckle portion 4 and the chamber rod portion 5 are stopped by the pin 8, and the hinge formed by the knuckle portion 4, the chamber rod portion 5, and the pin 8 is formed. The cover plate 3 is rotated by a mechanism, and maintenance of the cover plate 3 and the equipment unit fixed in the vacuum chamber 1 is performed.
したがって、重量の重いカバープレート３を持ち上げ
ることなく、真空チャンバ１内の機器ユニットのメンテ
ナンスを行うことができ、例えば、一人の作業員でも容
易にメンテナンスを行うことができる。Therefore, maintenance of the equipment unit in the vacuum chamber 1 can be performed without lifting the heavy cover plate 3, and for example, maintenance can be easily performed by one worker.
なお、上記実施例では、カバープレート３の前方に、
他の機器を配置可能とするためにカバープレート３を横
方向へスライドさせるように構成したが、カバープレー
ト３の前方に、他の機器を配置する必要のない場合は、
カバープレート３を直接真空チャンバにヒンジ機構を介
して接続するよう構成してもよい。In the above embodiment, in front of the cover plate 3,
Although the cover plate 3 is configured to be slid in the lateral direction so that other devices can be arranged, when it is not necessary to arrange other devices in front of the cover plate 3,
The cover plate 3 may be directly connected to the vacuum chamber via a hinge mechanism.
次に第３図を参照して第２の発明の実施例について説
明する。Next, an embodiment of the second invention will be described with reference to FIG.
真空チャンバ１の一方の側面には、前述の実施例と同
様に矩形開口２が設けられており、この矩形開口２を気
密に閉塞する如くカバープレート３が配置されている。
また、このカバープレート３の内側および真空チャンバ
１の内側には、図示しないイオンビームを加速、収束、
走査、測定するための各機器ユニット、例えば加速用電
極、収束用電極、走査用電極等が固定されている。A rectangular opening 2 is provided on one side surface of the vacuum chamber 1 as in the above-described embodiment, and a cover plate 3 is disposed so as to hermetically close the rectangular opening 2.
Further, an ion beam (not shown) is accelerated, converged, and conveyed inside the cover plate 3 and the inside of the vacuum chamber 1.
Each device unit for scanning and measuring, for example, an accelerating electrode, a converging electrode, a scanning electrode, and the like are fixed.
そして、真空チャンバ１の他方の側面、すなわちカバ
ープレート３に対向する側の側面には、メンテナンス用
開口部10、11が設けられており、これらのメンテナンス
用開口部10、11は、カバー12、13により気密に閉塞可能
に構成されている。On the other side of the vacuum chamber 1, that is, on the side opposite to the cover plate 3, maintenance openings 10 and 11 are provided, and these maintenance openings 10 and 11 It is configured to be airtightly closed by 13.
上記構成のこの実施例のイオン注入装置では、カバー
12、13を取外し、メンテナンス用開口部10、11を開とす
ることにより、真空チャンバ１内の機器ユニットのメン
テナンスを行うことができる。したがって、重量の重い
カバープレート３を取外すことなく、例えば、一人の作
業員でも容易にメンテナンスを行うことができる。In the ion implantation apparatus of this embodiment having the above configuration, the cover
By removing 12 and 13 and opening maintenance openings 10 and 11, maintenance of the equipment unit in vacuum chamber 1 can be performed. Therefore, for example, one worker can easily perform maintenance without removing the heavy cover plate 3.
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明のイオン注入装置によれ
ば、従来に較べて真空チャンバ内の機器ユニットのメン
テナンスを容易に実施することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the ion implantation apparatus of the present invention, maintenance of the equipment unit in the vacuum chamber can be performed more easily than in the past.
第１図は第１の発明の実施例の要部構成を示す斜視図、
第２図は第１図のカバープレートを開とした状態を示す
斜視図、第３図は第２の発明の実施例の要部構成を示す
斜視図である。 １……真空チャンバ、２……矩形開口、３……カバープ
レート、４……ナックル部、５……チャンバロッド部、
6,7……ガイドブロック、８……ピン、10,11……メンテ
ナンス用開口部、12,13……カバー。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a main part of an embodiment of the first invention,
FIG. 2 is a perspective view showing a state where the cover plate of FIG. 1 is opened, and FIG. 3 is a perspective view showing a main part configuration of an embodiment of the second invention. 1 ... vacuum chamber, 2 ... rectangular opening, 3 ... cover plate, 4 ... knuckle part, 5 ... chamber rod part,
6,7 ... guide block, 8 ... pin, 10,11 ... maintenance opening, 12,13 ... cover.
Claims (2)
ユニットを収容し、被処理物にイオンビームを走査、照
射するための真空チャンバと、この真空チャンバに設け
られた開口を気密に閉塞する如く設けられ前記機器ユニ
ットの少なくとも一部を支持するカバープレートとを備
えたイオン注入装置において、 前記カバープレートおよび前記真空チャンバに、該カバ
ープレートを該真空チャンバに対してスライド可能とす
るスライド機構と、該カバープレートを該真空チャンバ
に回動自在に支持するヒンジ機構を設け、 前記スライド機構によって前記カバープレートを前記ヒ
ンジ機構側にスライドさせた後、前記ヒンジ機構により
前記カバープレートを支持して回動可能に構成したこと
を特徴とするイオン注入装置。1. A vacuum chamber for accommodating a device unit for forming a desired ion beam, for scanning and irradiating an object to be processed with an ion beam, and hermetically closing an opening provided in the vacuum chamber. An ion implanter provided with a cover plate provided so as to support at least a part of the device unit, wherein a slide mechanism slidable on the cover plate and the vacuum chamber with respect to the vacuum chamber A hinge mechanism for rotatably supporting the cover plate in the vacuum chamber; sliding the cover plate toward the hinge mechanism by the slide mechanism; and supporting and rotating the cover plate by the hinge mechanism. An ion implanter characterized by being movable.
前記機器ユニットのメンテナンスを行うためのメンテナ
ンス用開口部を設けたことを特徴とするイオン注入装
置。2. The ion implantation apparatus according to claim 1, wherein a portion of the vacuum chamber other than the cover plate is provided.
An ion implantation apparatus, wherein a maintenance opening for performing maintenance of the device unit is provided.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63124151A JP2739078B2 (en) | 1988-05-21 | 1988-05-21 | Ion implanter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63124151A JP2739078B2 (en) | 1988-05-21 | 1988-05-21 | Ion implanter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01294341A JPH01294341A (en) | 1989-11-28 |
| JP2739078B2 true JP2739078B2 (en) | 1998-04-08 |
Family
ID=14878200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63124151A Expired - Lifetime JP2739078B2 (en) | 1988-05-21 | 1988-05-21 | Ion implanter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2739078B2 (en) |
Families Citing this family (3)
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|---|---|---|---|---|
| US6331713B1 (en) * | 1999-10-06 | 2001-12-18 | Applied Materials, Inc. | Movable ion source assembly |
| JP5214090B2 (en) * | 2004-11-30 | 2013-06-19 | 株式会社Ｓｅｎ | Beam deflection scanning method, beam deflection scanning apparatus, ion implantation method, and ion implantation apparatus |
| JP6083361B2 (en) * | 2013-09-03 | 2017-02-22 | 株式会社島津製作所 | Mass spectrometer |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH074516B2 (en) * | 1985-09-21 | 1995-01-25 | 日電アネルバ株式会社 | Vacuum container with skeletal structure |
-
1988
- 1988-05-21 JP JP63124151A patent/JP2739078B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01294341A (en) | 1989-11-28 |
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