JP2737652B2 - 多層セラミック基板およびその製造方法 - Google Patents

多層セラミック基板およびその製造方法

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JP2737652B2
JP2737652B2 JP6161093A JP16109394A JP2737652B2 JP 2737652 B2 JP2737652 B2 JP 2737652B2 JP 6161093 A JP6161093 A JP 6161093A JP 16109394 A JP16109394 A JP 16109394A JP 2737652 B2 JP2737652 B2 JP 2737652B2
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光男 阿部
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子回路部品を実装する
多層セラミック基板に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のセラミック基板の形成技術は、特
開平1−307295号公報に示されている。この公報
の従来技術の欄の記載によれば、セラミック粉末を主成
分とし、さらにバインダー,溶剤等を混合した泥漿から
ドクターブレード法等によりグリーンシートが形成さ
れ、そのグリーンシートにパンチング法でスルーホール
用の孔があけられる。次のこのスルーホール用の孔に導
電性ペーストがスクリーン印刷法で印刷され埋込まれ、
配線パターンが印刷され配線パターンおよびスルーホー
ルが形成される。それから、このグリーンシートが複数
枚積み重ねられ、加圧・焼成されて一体化された多層セ
ラミック基板が形成されていた。
【0003】このようにして形成されたセラミック基板
のスルーホールは、基板平面とほぼ同じ平面を形成して
いた。
【0004】このような従来のセラミック基板には、ア
ルミナセラミック粉末を主成分にしたグリーンシートと
このグリーンシートの収縮率とほぼ同じ収縮率のタング
ステンやモリブデンを主成分にした導電性ペーストが用
いられてきた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年、低温焼成ガラス
セラミック基板が出現し、導電性ペーストとして例えば
銀/パラジウムのような低温燒結金属が用いられるよう
になった。この結果、グリーンシートと導電性ペースト
の収縮率が異なり、焼成後のスルーホール壁のセラミッ
ク部とスルーホールに詰め込まれた導電体部分に僅かな
隙間が発生する。
【0006】熱膨張率の差によって発生する隙間は、セ
ラミック積層体の表層において顕著である。これは、ガ
ラスセラミック体や導体材といったそれぞれの物体がそ
の中心に向って収縮するためである。
【0007】なお、グリーンシートや導電性ペーストは
溶剤やバインダーを含んでおり焼成後30%から40%
の収縮が起こる。この過程でグリーンシートや導電性ペ
ーストの収縮率の違いから隙間3が発生する。
【0008】このような隙間の発生のためセラミック基
板に電子部品を実装する工程でこの隙間にはんだ付け時
のフラックスや洗浄液が染み込み、マイグレーションな
どの原因となっている。
【0009】本発明の目的は熱膨張率の差によって生ず
る収縮量の違いをスルーホール部の構造により吸収し隙
間のない均一な多層セラミック基板を提供することにあ
る。
【0010】本発明の他の目的はセラミック基板に電子
部品を実装する工程でこの隙間にフラックスや洗浄液の
染み込むことを防止するようにした多層セラミック基板
を提供することにある。
【0011】本発明のさらに他の目的は、マイグレーシ
ョンなどの原因をなくし信頼性の向上を図るようにした
多層セラミック基板を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の多層セラ
ミック基板は、導電体が埋め込まれ充填された第1のス
ルーホールを有する第1のグリーンシートと、前記第1
のスルーホールに対応する位置に設けられ内部が導電体
により充填されない第2のスルーホールを有し、複数積
層された前記第1のグリーンシートを挟み込む第2のグ
リーンシートとを含み、前記第1のグリーンシートおよ
び前記第2のグリーンシートからなる積層体を焼成して
なることを特徴とする。
【0013】本発明の第2の多層セラミック基板は、ス
ルーホール孔壁に導電体を形成し、スルーホールを中空
とする外層部と、スルーホール内に導電体を充填した内
層部とを含む。
【0014】本発明の第3の多層セラミック基板は、第
2の多層セラミック基板における前記外層部は1枚のグ
リーンシートに相当する最外層とするこを特徴とする。
【0015】本発明の第4の多層セラミック基板は第2
の多層セラミック基板における内層部がスルーホール導
体として埋め込まれ充填された導電体の緻密な状態を有
したグリーンシートの積層,加圧状態で形成されること
を特徴とする。
【0016】本発明の多層セラミック基板の第1の製造
方法は、グリーンシートにスルーホールを形成するスル
ーホール形成ステップと、このステップで形成されたス
ルーホールにペースト粘度の低い導電性ペーストを印刷
する印刷ステップとを含む。
【0017】本発明の多層セラミック基板の第2の製造
方法は第1の製造方法における印刷ステップをスクリー
ン印刷法で行うことを特徴とする。
【0018】本発明の多層セラミック基板の第3の製造
方法は、第1の製造方法におけるスルーホール形成ステ
ップがパンチング方法でスルーホールを形成する。
【0019】
【実施例】次に本発明の一実施例について図面を参照し
て詳細に説明する。
【0020】図1および図2(A)を参照すると、本発
明の一実施例の特徴の1つは、グリーンシート積層法で
製造する多層セラミック基板の最外層となる表および裏
に配置されるグリーンシートにある。すなわち、このグ
リーンシート1のスルーホール2に関する導電体はスル
ーホール孔壁に形成され中空スルーホール4に形成され
る。
【0021】図1および図2(B)を参照すると、この
多層セラミック基板の最外層以外の層となるグリーンシ
ートのスルーホール2には、スルーホール導体5として
の導電体が埋込まれ、充填された緻密な状態のスルーホ
ール導体を有するグリーンシートが積層され加圧され
る。
【0022】この積層後の本発明の一実施例が示されて
いる図1を参照すると、本発明の一実施例の特徴は、多
層セラミック基板の基板面からスルーホールをグリーン
シート1枚分を窪ませた形状,すなわち中空スルーホー
ル4を形成したことにある。
【0023】次に本発明の一実施例である中空スルーホ
ール4の製造方法について説明する。
【0024】図2(A)を参照すると、グリーンシート
にパンチング法等で形成されたスルーホールにスクリー
ン印刷法で導電性ペーストを印刷する際に、ペースト粘
度を低くして印刷する。図2(A)はこの時の形状が示
される。ペースト粘度を低くして印刷した段階で完全に
中空になっていなくても、図2(A)の右端に示される
スルーホールのようにスルーホール内をペーストがわず
かにつながっていても良い。しかし、積層時にはスルー
ホールの窪みが基板表面に形成できるように積層する。
【0025】本発明の第1の実施例では最外層となる表
裏層のスルーホールがグリーンシート1枚分窪んだ構造
であるため、引続く焼成工程で起こる材料の収縮方向を
スルーホール壁面に対して圧縮方向に誘導することによ
り隙間の発生を防止できるという効果がある。
【0026】本発明の第1の実施例では、スルーホール
の窪みをグリーンシート1枚分として説明したが、これ
に限定されずスルーホール壁のセラミック部とスルーホ
ールに詰め込まれた導体部分の間に隙間が生じなければ
何枚分でもよい。
【0027】
【発明の効果】本発明は、スルーホール壁のセラミック
部とスルーホールに詰め込まれた導体部分の間に生ずる
僅かな隙間を防止できる。
【0028】本発明は、セラミック基板に電子部品を実
装する工程でこの隙間にフラックスや洗浄液が染み込む
ことを防止できる。
【0029】本発明はマイグレーションなどの原因をな
くし、スルーホール部の接続信頼性やセラミック基板上
に形成する。例えば薄膜導体回路の接続信頼性が向上す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の断面を示す図である。
【図2】(A)は本発明の一実施例の最外層の構成を説
明するための図である。(B)は本発明の一実施例の最
外層以外の層の構成を説明するための図である。
【符号の説明】
1 グリーンシート 2 スルーホール 4 中空スルーホール 5 スルーホール導体 6 配線パターン

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電体が埋め込まれ充填された第1のス
    ルーホールを有する第1のグリーンシートと、 前記第1のスルーホールに対応する位置に設けられ内部
    が導電体により充填されない第2のスルーホールを有
    し、複数積層された前記第1のグリーンシートを挟み込
    む第2のグリーンシートとを含み、 前記第1のグリーンシートおよび前記第2のグリーンシ
    ートからなる積層体を焼成してなることを特徴とする多
    層セラミック基板。
  2. 【請求項2】 導電体が埋め込まれ充填された第1のス
    ルーホールを有する第1のグリーンシートと前記第1の
    スルーホールに対応する位置に設けられ内部が導電体に
    より充填されない第2のグリーンシートとを含む多層セ
    ラミック基板の製造方法において、 前記第1のグリーンシートを複数積層する第1の工程
    と、 前記第2のグリーンシートを前記第1の工程において複
    数積層された前記第1のグリーンシートを挟み込むよう
    積層させる第2の工程と、 この第2の工程により得られる前記第1のグリーンシー
    トおよび前記第2のグリーンシートからなる積層体を焼
    成する第3の工程とを含むことを特徴とする多層セラミ
    ック基板の製造方法。
JP6161093A 1994-07-13 1994-07-13 多層セラミック基板およびその製造方法 Expired - Lifetime JP2737652B2 (ja)

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