JP2724427B2

JP2724427B2 - 平板の研摩方法及びその装置

Info

Publication number: JP2724427B2
Application number: JP4110769A
Authority: JP
Inventors: 一夫吉原; 忠正城島; 信夫吉原; 応輝掃部; 義人吉原; 康弘澤田; 一夫森下; 玉樹倉野
Original assignee: KANSAI PURANTO KOGYO KK
Current assignee: KANSAI PURANTO KOGYO KK
Priority date: 1992-04-02
Filing date: 1992-04-02
Publication date: 1998-03-09
Anticipated expiration: 2013-03-09
Also published as: TW223601B; EP0563954A1; JPH05277914A; EP0563954B1; CN1077406A; DE69313333T2; CA2093046A1; DE69313333D1

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、金属板や非金属板の表
面を平面研摩するための平板の研摩方法及びその装置に
関するもので、特に大形の平板の研摩に好適な研摩方法
及び装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、この種の研摩方法としては、
次のように種々のものが実施されている。（ａ）回転バフ研摩法この方法は、３０００ＲＰＭ程度の高速回転が可能であ
るので研摩速度が速く、オシレーションを掛ければ比較
的良好な均一研摩が得られる。（ｂ）回転ロール研摩法この方法は、主としてフェルトロールを使用し、作業環
境及び均一研摩性が良好で、湿式研摩に適しているが、
乾式研摩も可能である。（ｃ）真円回転ラッピング研摩法この方法は、研摩した鏡面ステンレス等の鏡面解像度に
優れ、湿式及び乾式の両研摩が可能であり、作業環境は
比較的良好で、研摩コストも比較的安価である。また、
酸化剤使用の湿式研摩においては、ステンレス板に厚い
不導体化皮膜を生成し、耐蝕性に優れる。（ｄ）多軸式真円回転ラッピング研摩法この方法は、前記（ｃ）の方法と同一の特徴を有する
が、自動化により研摩能率が良くなる。（ｅ）電解複合研摩法この方法は、電解作用、機械的研摩作用及び化学的研摩
作用の複合研摩で、研摩速度が速く、均一研摩性に優
れ、自動化も可能である。カラーステンレス用及びエッ
チング用材に比較的適している。また、平面研摩以外に
も適用可能で、研摩速度も速い。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の研
摩方法には、それぞれ下記のような問題点がある。（ａ）回転バフ研摩法高速回転のため危険であり、また研摩対象の平板が走る
ためバキューム止めやクリップ止めをしなければ危険で
ある。乾式研摩のためバフ滓等が周囲に飛散し作業環境
を悪化させる。またバフ目が残るため鏡面度が悪く、鏡
面カラーステンレス材及び鏡面エッチングステンレス材
に不向きで、精密且つ均一研摩が不可能である。

【０００４】（ｂ）回転ロール研摩法バフ面、ロール面を完全に除去できない。研摩接触面積
が少ないため研摩速度が遅く、研摩対象の平板をバキュ
ーム止めやクリップ止めにより固定しなければ危険であ
る。完全鏡面は困難で、カラー材、エッチング材及びメ
ッキ材には不向きである。また廃水処理施設を要し、設
備コストが高くなる。

【０００５】（ｃ）真円回転ラッピング研摩法研摩速度が遅いため研摩能率が悪く、操作が複雑である
ため生産性も悪い。鏡面ステンレス材には適用できる
が、ミクロ的には研摩ムラが多い。鏡面カラーステンレ
ス材や鏡面エッチング材にはムラが多いため不向きであ
り、また局部集中湿式研摩のため研摩対象の平板にピッ
チング等の局部腐食を起こし、メッキ材、特に金メッキ
材には適用できない。

【０００６】（ｄ）多軸式真円回転ラッピング研摩法前記（ｃ）の方法と同一の欠点を有する上に、設備費が
高く、故障が多く、完全自動化は不可能である。また、
不良率も高い。

【０００７】（ｅ）電解複合研摩法湿式しか適用できず、操作が複雑である。電気容量が大
きく、廃水処理が困難で、設備費及びランニングコスト
が高価である。研摩後の鏡面色が好まれず、また不良率
が高いので修正研摩の必要性が高い。電解を併用する
も、基本的には前記（ｄ）の方法であるため、局部的及
びミクロ的にはムラがあり、ステンレスのカラー材、エ
ッチング材及びメッキ材に不向きである。電解併用のた
めピッチング等の局部腐食のおそれが高い。

【０００８】以上述べた従来の研摩方法の欠点は、研摩
対象の平板が大形の場合に特に顕著である。そのため、
（ａ）、（ｂ）の方法は大形平板の完全鏡面研摩が不可
能であり、また（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）の方法は完全鏡
面研摩が可能であるが欠点も多く、特に鏡面カラーステ
ンレス材や鏡面エッチング材については良好な製品を得
ることが困難である。本発明は、このような従来の問題
点に鑑みなされたものであって、研摩対象の平板がいか
なるものであっても、均一鏡面研摩に優れた研摩方法及
びその装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の平板の研摩方法は、平板状の研摩部材を研
摩対象の平板の表面に所定圧力で押し付けながらクラン
クを介して円軌道に沿って軌道運動させ且つ研摩部材を
その軌道運動の長軸方向に搖動させることにより、前記
平板の表面を平面研摩する。そして、研摩部材をその軌
道運動の短軸方向に走行させたり、研摩対象の平板を研
摩部材の軌道運動の短軸方向に送給すると、生産性が向
上する。なお、研摩部材の軌道運動の速度を毎分を５０
〜６００回にすることが好ましい。これは、５０回未満
では研摩効果が悪く、６００回を越えると機構上複雑と
なる等の問題があるからである。

【００１０】また、上記研摩方法を実施するために、本
発明の平板の研摩装置は、上面に研摩対象の平板を載置
するテーブルを架台上に水平状態に設け、前記架台上に
門型架構を前記テーブルの上方を跨ぐように立設し、該
門型架構に昇降手段を介して研摩ヘッドを昇降自在に吊
り下げ、該研摩ヘッドに平板状の研摩部材と該研摩部材
を水平面内でクランクを介して軌道運動させる手段とを
設け、前記研摩部材の軌道運動の長軸方向を前記門型架
構の開脚方向としている。

【００１１】そして、テーブル上面に研摩対象の平板と
同一の板厚を有する研摩部材保護用当て板を前記平板の
側面に沿うように設けて、前記平板の側面エッジ部によ
る研摩部材の損傷を防止したり、研摩部材がバフである
場合にその研摩面に複数条の研摩液貯留用凹溝を設け
て、研摩剤を含む研摩液が研摩面から散逸するのを防止
したり、研摩部材の門型架構の開脚方向の幅を研摩対象
の平板の前記開脚方向の幅よりも大きくして、より良好
な均一研摩を可能にすることが好ましい。なお、研摩部
材をその軌道の長軸方向に搖動させるためには、門型架
構に研摩ヘッドを該門型架構の開脚方向に搖動させる搖
動手段を設ける。また、研摩部材をその軌道運動の短軸
方向に走行させるためには、門型架構をその開脚方向と
直角方向に架台上を走行させる走行手段を設ける。その
場合、走行手段には門型架構の浮上り防止機構及び横揺
れ防止機構を設けて、研摩ムラを防止することが好まし
い。さらに、研摩対象の平板を研摩部材の軌道運動の短
軸方向に送給するためには、研摩対象の平板を門型架構
の開脚方向と直角方向にテーブル上を送給する送給手段
を設ける。

【００１２】

【作用】上記構成の本発明においては、研摩対象の平板
をテーブル上面に水平状態に載置し、昇降手段により研
摩ヘッドを下降させて研摩部材を平板の表面に所定圧力
で押し付けながら、研摩部材を水平面内でクランクを介
して軌道運動させ且つ研摩部材をその軌道運動の長軸方
向に揺動させることにより、平板の表面を平面研摩す
る。この平板が大形の場合には研摩部材も大形になる
が、大形の研摩部材を従来のように単純な円形に回転運
動させるだけでは、研摩部材を平板に押し付ける圧力が
研摩面の中央部に集中して全体に均一に分布しないた
め、中央部と周辺部とで研摩が不均一となり均一鏡面研
摩をすることができない。そこで、本発明では、研摩部
材をクランクを介して軌道運動させることにより、研摩
部材を平板に押し付ける圧力が研摩面全体に均一に分布
するようにして、大形の平板に対しても精密な均一鏡面
研摩を可能にしている。

【００１３】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１〜図５に基づ
いて説明する。本実施例に使用する研摩装置において
は、図１及び図２に示すように、架台１上にテーブル２
を設けるとともに、走行手段４を介して門型架構３を立
設し、門型架構３に搖動手段５及び昇降手段６を介して
研摩ヘッド７を吊り下げ、研摩ヘッド７に軌道運動手段
８を介して研摩部材９を設けている。１０は研摩対象の
平板である。

【００１４】架台１は、平面形状が長方形で、上面に走
行レール１１とラックレール１２とが長辺に沿って２条
ずつ敷設されている。以後は説明の便宜上、長辺方向を
本装置全体についての前後方向とし、短辺方向を左右方
向とする（図２参照）。テーブル２は、上面に研摩対象
の平板１０を載置するための定盤で、架台１上に水平状
態に設置されている。図２の平板１０には、長方形の大
形切板を使用している。テーブル２の上面には、平板１
０と同一の板厚を有する当て板１３が平板１０の側面に
沿うように固設され、研摩部材９が平板１０の側面エッ
ジ部により損傷するのを防止する。そのため、当て板１
３の幅は、研摩部材９の運動範囲が当て板１３から食み
出さないように設定されている。門型架構３は、テーブ
ル２の上方を左右方向に跨ぐように架台１の走行レール
１１上に立設され、走行手段４により前後方向（開脚方
向と直角方向）に走行駆動される。

【００１５】走行手段４は、図３に示すように、門型架
構３の脚部に回動自在に取り付けた走行車輪１４及び走
行ギヤ１５からなり、さらに浮上り防止機構１６及び横
搖れ防止機構１７が付設されている。走行車輪１４は、
門型架構３を支持して走行レール１１上を転動する。走
行ギヤ１５は、架台１のラックレール１２と噛合し、走
行駆動装置１８により回転されて門型架構３を走行させ
る。浮上り防止機構１６と横搖れ防止機構１７とは、そ
れぞれ前記脚部に回動自在に取り付けた浮上り防止ロー
ラ１９と横搖れ防止ローラ２０とからなり、浮上り防止
ローラ１９は架台１の下面に沿って走行することにより
門型架構３が走行レール１１から浮き上がるのを防止
し、また横搖れ防止ローラ２０は走行レール１１の側面
に沿って走行することにより門型架構３の横搖れを防止
し、いずれも研摩ムラの発生を防止する。

【００１６】搖動手段５は、門型架構３の桁部上に設け
た左右一対の搖動案内部材２１により搖動板２２を左右
方向（門型架構３の開脚方向）に搖動自在に支持し、搖
動板２２に搖動シリンダ２３を接続してなるものであ
る。昇降手段６は、搖動板２２上に左右一対ずつ設けた
昇降シリンダ２４及び圧力調整機構２５からなり、これ
らが研摩ヘッド７を昇降自在に吊り下げている。昇降シ
リンダ２４は、そのピストン棒２６の出退により研摩ヘ
ッド７を昇降させる。圧力調整機構２５は、搖動板２２
上に立設した案内筒２７に研摩ヘッド７を吊り下げた吊
り棒２８を昇降自在に挿通し、吊り棒２８の上端部に螺
着した調整ナット２９と案内筒２７の底部との間に圧縮
ばね３０を介設してなり、昇降シリンダ２４が圧縮ばね
３０に抗して研摩部材９の研摩面を平板１０に押し付け
る研摩圧力を調整ナット２９の締め加減により適正値に
調整する。

【００１７】研摩ヘッド７は、昇降手段６を介して搖動
板２２に吊り下げられた支持梁３１を門型架構３の両脚
部に設けた左右一対の昇降案内部材３２の間に介設し、
支持梁３１に軌道運動手段８を介して回転板３３を吊り
下げ、回転板３３の下面にゴム等からなる緩衝部材３４
を介して研摩部材取付板３５を固設してなるものであ
る。軌道運動手段８は、研摩ヘッド７の支持梁３１と回
転板３３との間に主クランク３６と２個の補助クランク
３７とを主クランク３６を中央にして一列に並設し、支
持梁３１上に駆動モータ３８を設けてなるものである。
主クランク３６は、上端部が駆動モータ３８に接続さ
れ、下端部が回転板３３に回動自在に接続されている。
また、補助クランク３７は、上下両端部がそれぞれ支持
梁３１及び回転板３３に回動自在に接続されている。主
クランク３６が回転すると両補助クランク３７も回転板
３３を介して連れ回りするので、回転板３３は回転運動
する。この回転板３３の回転運動の長軸は左右方向（門
型架構３の開脚方向）に向いている。駆動モータ３８
は、毎分最低５０回転ないし最高６００回転の回転速度
で主クランク３６を回転させ、研摩部材を毎分５０〜６
００回の速度で軌道運動させる。速度が５０回未満では
研摩効果が悪く、６００回を越えると機構上複雑となる
等の問題があるからである。

【００１８】研摩部材９は、長方形板状の砥石、スコッ
チグライト、バフ等からなり、研摩ヘッド７の研摩部材
取付板３５の下面に着脱自在に取り付けられ、回転板３
３とともに軌道運動する。研摩部材９の左右方向（門型
架構３の開脚方向）の幅は、研摩対象の平板１０の左右
方向の幅よりも大きく設定してあり、均一研摩を可能に
している。図１に示す研摩部材９は、バフの場合であっ
て、バフケース３９に収容され、研摩面には図４及び図
５に示すような研摩液貯留用凹溝４０が回転方向に傾斜
させて複数条形成されている。この凹溝４０は、研摩面
に含浸させた研摩剤を含む研摩液を研摩時に掻き寄せて
保持し、研摩液が研摩面から散逸するのを防止するとと
もに、研摩中に貯留した研摩液を徐々に放出供給して研
摩効率を高める。

【００１９】平板１０は、ステンレス板、真鍮板、アル
ミニウム板等の金属板やガラス板等の非金属板からなる
研摩対象である。図２に示す平板１０は、長方形の大形
切板で、テーブル２の上面に水平状態に載置され、側面
が当て板１３により固定されている。

【００２０】上記構成の研摩装置を使用して、本発明の
研摩方法により研摩対象の平板１０を研摩するには、研
摩部材９の研摩面に研摩剤を含んだ研摩液を含浸させた
後、昇降シリンダ２４により研摩ヘッド７を下降させて
研摩部材９を平板１０の表面に所定圧力で押し付けなが
ら、駆動モータ３８により各クランク３６、３７を介し
て研摩部材９を水平面内で円軌道に沿って軌道運動させ
る。この場合の前記所定圧力は、０．５〜１．５ｋｇ／
ｃｍ^２程度が適正で、圧力調整機構２５の調整ナット２
９の締め加減により予め調整しておく。また、駆動モー
タ３８の回転速度はベクトルインバータ制御により毎分
１００〜４５０回転に制御し、各クランク３６、３７の
回転半径は５０ｍｍ程度としておく。

【００２１】続いて、搖動シリンダ２３により搖動板２
２を介して研摩ヘッド７を左右方向に搖動させると同時
に、走行駆動装置１８により門型架構３を前後方向に走
行させる。この場合の搖動シリンダ２３の搖動ストロー
クはインバータ制御により１００〜２００ｍｍに制御す
るとともに、搖動サイクルを毎分６〜３０ストローク程
度にしておく。また、門型架構３の研摩時の走行速度
は、毎分１〜５ｍ程度が好ましい。かくして、研摩部材
９は平板１０の表面を適正な条件で平面研摩する。その
際、研摩部材９がクランクを介して軌道運動するので、
研摩部材９が平板１０を押し付ける圧力が研摩面全体に
均一に分布するとともに、研摩ヘッド７に伴って研摩部
材９も搖動するのでそのオシレーション効果が加わり、
大形の平板１０に対しても精密な均一鏡面研摩が可能と
なっている。

【００２２】なお、本実施例では、研摩対象の平板１０
を切板としたので、門型架構３を前後方向に走行させた
が、他の実施例として（図示省略）、研摩対象の平板１
０が帯板をコイル状に巻回したようなものである場合に
は、門型架構３を走行させる代わりに、コイル状の平板
１０を解いて前後方向に送給する送給手段を設けてもよ
い。これにより、連続研摩が可能となり、生産性が著し
く向上する。

【００２３】次に、本発明の研摩方法により種々の材質
の切板を研摩した実施例について説明する。実施例１研摩対象材質・・・ステンレスＳＵＳ３０４光輝焼鈍材（ＢＡ
材）寸法・・・１．５ｍｍ厚×２４３８ｍｍ×１２１９ｍｍ研摩条件方法・・・バフ研摩〔四三酸化鉄（ベニガラ）４０ｇ／
ｌと硝酸１５％との複合研摩剤使用〕回転数・・・２００ＲＰＭ走行速度・・・３００ｍｍ／ｍｉｎ圧着圧力・・・１．５ｋｇ／ｃｍ^２約１０分間の研摩により完全鏡面ステンレス板を得た。
研摩後は水洗機で水洗及び仕上げ湯洗を行ない、乾燥後
に保護テープを貼付して仕上げた。

【００２４】実施例２研摩対象材質・・・ステンレスＳＵＳ３０４材（２Ｂ材）寸法・・・１．５ｍｍ厚×２４３８ｍｍ×１２１９ｍｍ研摩条件方法・・・１段砥石研削（ＰＶＡ砥石＃８００使用）２段砥石研削（ＰＶＡ砥石＃１５００使用）３段バフ研摩（四三酸化鉄６０ｇ／ｌと硝酸１５％との
複合研摩剤使用）回転数・・・砥石、バフのいずれも２００ＲＰＭ走行速度・・・砥石、バフのいずれも１５０ｍｍ／ｍｉ
ｎ圧着圧力・・・砥石、バフのいずれも１．５ｋｇ／ｃｍ
^２２０分間×２回の砥石研削及び２０分間のバフ研摩によ
り完全鏡面ステンレス板を得た。なお、砥石研削後は水
洗機で水洗し、バフ研摩により仕上げ鏡面加工した後、
水洗機で水洗及び仕上げ湯洗を行ない、乾燥後に保護テ
ープを貼付して仕上げた。

【００２５】実施例３研摩対象材質・・・銅９０％、亜鉛１０％の真鍮板寸法・・・２．０ｍｍ厚×１０００ｍｍ×２０００ｍｍ研摩条件方法・・・下地砥石研削（ＰＶＡ砥石＃１５００で表面
傷除去）仕上げバフ研摩〔ピカール（市販品）とアルミ
ナ研摩剤との混合液使用〕回転数・・・２００ＲＰＭ走行速度・・・３００ｍｍ／ｍｉｎ圧着圧力・・・１．５ｋｇ／ｃｍ^２完全鏡面真鍮板を得た。バフ研摩後溶剤で汚れを除去
し、拭き取った後保護テープを貼付して仕上げた。

【００２６】実施例４研摩対象材質・・・ワインレッド色に２次電解発色したアルマイ
ト板（アルマイト皮膜２７μｍ）寸法・・・３．０ｍｍ厚×１０００ｍｍ×２０００ｍｍ研摩条件方法・・・バフ研摩〔四三化鉄４０ｇ／ｌとアルミナ２
０ｇ／ｌの複合研摩剤使用（粒度２μｍ以下）〕回転数・・・２００ＲＰＭ走行速度・・・１５０ｍｍ／ｍｉｎ圧着圧力・・・２ｋｇ／ｃｍ^２アルマイト皮膜を損傷することなく、平均１〜２μｍの
研摩で、艷やかな飴色のワインレッド色で、有機物のよ
うに漆調の光沢が出た。しかも、封孔処理された部分の
皮膜の脱落が起こらず、耐蝕性の劣化もなかった。

【００２７】次の応用例１〜３は、実施例１、２で得た
完全鏡面ステンレス板にカラーリング、エッチング及び
金メッキを施した応用例を示す。応用例１カラーリングの条件カラー用薬剤・・・硫酸４５０ｇ／ｌ、無水クロム酸２
５０ｇ／ｌ（インコカラー法に準ずる）液温・・・８０℃ 処理工程・・・脱脂−水洗−酸化発色−回収−水洗−硬
膜処理−水洗−仕上げ水洗−乾燥従来法で得た鏡面ステンレス板は、研摩ムラが多く、そ
れが着色ムラになって良好な製品にならなかったが、本
応用例で得たカラーステンレス板は、着色ムラが殆ど無
く、目視下では両者の差は歴然としていた。

【００２８】応用例２エッチングの条件エッチング用薬剤・・・塩化第２鉄溶液４６゜ボーメ
液、塩酸０．５％を含む。液温・・・４０℃ 処理工程・・・スクリーン印刷−乾燥−高圧シャワーエ
ッチング（１０分間）−水洗−苛性ソーダ脱膜−水洗−
硝酸中和−水洗従来法で研摩した鏡面ステンレス板は、研摩に使用する
研摩剤と酸化性薬品との複合研摩剤により生成される酸
化皮膜の厚さにムラがあるので、煩雑な下地の前処理を
施さずに直接エッチングすると、エッチングムラを起こ
し、良好な製品にならなかった。これに対し、本応用例
で得たエッチングステンレス板は、研摩の際に酸化皮膜
が均一に仕上がっているので殆どエッチングムラを起こ
さず、そのため特別な前処理をしなくても均一なエッチ
ング製品が得られた。

【００２９】応用例３金メッキの条件金メッキ液・・・塩酸酸性金メッキ液液温・・・４０℃ 電流密度・・・３Ａ／ｄｍ処理工程・・・アルカリ電解脱脂−水洗−活性化酸洗−
水洗−フラッシュ金メッキ（４５秒間）−回収−水洗−
中和−水洗−湯洗従来の真円回転ラッピング研摩法では、バフ面が小さく
て局部的に集中研摩するので、その部分が摩擦熱により
１００℃程度に熱せられ、硝酸等の研摩剤によりピッチ
ング等の局部腐食を起こす。これは１５０倍程度の顕微
鏡で確認できる。そのため、この方法で研摩した鏡面ス
テンレス板に金メッキを施すと、部分的に光沢の薄れた
状態が顕著に現れる。しかし、本発明の方法で研摩した
鏡面ステンレス板には殆どピッチング現象は見られな
い。したがって、本応用例で金メッキ（９７％純度）し
た鏡面金メッキステンレス板には白濁状のぼやけた状況
は見られない。

【００３０】

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下の利点を有する。（１）平板状の研摩部材を研摩対象の平板の表面に所定
圧力で押し付けながらクランクを介して軌道運動させ且
つ研摩部材をその軌道運動の長軸方向に揺動させること
により前記平板の表面を平面研摩するので、前記所定圧
力が研摩面全体に均一に分布し、大形の平板に対しても
精密な均一鏡面研摩をすることができる。そのため、大
形の鏡面カラーステンレス材、鏡面エッチングステンレ
ス材、鏡面純金メッキステンレス材等の製造に最適であ
る。（２）金属板のみならず、非金属板にも適用可能であ
る。（３）研摩部材をその軌道運動の長軸方向に搖動させる
と、オシレーション効果が増大して、より良好な均一鏡
面研摩が可能となる。（４）研摩部材をその軌道運動の短軸方向に走行させる
と、大形の切板の研摩対象を能率よく研摩することがで
きる。（５）研摩対象の平板を研摩部材の軌道運動の短軸方向
に送給するようにすると、研摩対象が帯板をコイル状に
巻回したようなものである場合に連続研摩が可能とな
り、生産性が著しく向上する。（６）その他、次のような種々の利点を有する。完全鏡面材の製造の生産性が従来法よりも著しく優れ
ている。装置の操作及びメンテナンスが非常に簡単で、故障も
少ない。電気容量が比較的少ないエネルギー節約タイプで、ラ
ンニングコストが非常に安価である。湿式、乾式両用に適している。廃水処理を必要とするが、乾式と比較して作業環境が
良く、また電解複合研摩法と比較して廃水処理は非常に
簡単でる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の研摩方法に使用する研摩装置の一実施
例を示す正面図である。

【図２】図１の平面図である。

【図３】図１の研摩装置に使用した走行装置の拡大図で
ある。

【図４】図１の研摩装置に使用したバフの拡大正面図で
ある。

【図５】図４に示したバフの平面図である。

【符号の説明】

１架台２テーブル３門型架構４走行手段５搖動手段６昇降手段７研摩ヘッド８軌道運動手段９研摩部材１０平板１３当て板１６浮上り防止機
構１７横搖れ防止機構４０研摩液貯留用
凹溝

フロントページの続き (72)発明者澤田康弘大阪府東大阪市四条町19−５ (72)発明者森下一夫大阪府大阪市中央区瓦屋町３−２−24本田実ビル (72)発明者倉野玉樹大阪府大東市諸福５丁目７−10 ボンジュール木村302 (56)参考文献実開昭53−127396（ＪＰ，Ｕ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】平板状の研摩部材を研摩対象の平板の表
面に所定圧力で押し付けながらクランクを介して円軌道
に沿って軌道運動させ且つ研摩部材をその軌道運動の長
軸方向に搖動させることにより、前記平板の表面を平面
研摩することを特徴とする平板の研摩方法。
【請求項２】研摩部材をその軌道運動の短軸方向に走
行させる請求項１記載の平板の研摩方法。
【請求項３】研摩対象の平板を研摩部材の軌道運動の
短軸方向に送給する請求項１又は２記載の平板の研摩方
法。
【請求項４】研摩部材の軌道運動の速度を毎分５０〜
６００回とする請求項１、２又は３記載の平板の研摩方
法。
【請求項５】上面に研摩対象の平板を載置するテーブ
ルを架台上に水平状態に設け、前記架台上に門型架構を
前記テーブルの上方を跨ぐように立設し、該門型架構に
昇降手段を介して研摩ヘッドを昇降自在に吊り下げ、該
研摩ヘッドに平板状の研摩部材と該研摩部材を水平面内
でクランクを介して円軌道に沿って軌道運動させる手段
とを設け、前記研摩部材の軌道運動の長軸方向を前記門
型架構の開脚方向としたことを特徴とする平板の研摩装
置。
【請求項６】テーブル上面に研摩対象の平板と同一の
板厚を有する研摩部材保護用当て板を前記平板の側面に
沿うように設けた請求項５記載の平板の研摩装置。
【請求項７】研摩部材が研摩面に複数条の研摩液貯留
用凹溝を設けたバフである請求項５記載の平板の研摩装
置。
【請求項８】研摩部材の門型架構の開脚方向の幅を研
摩対象の平板の前記開脚方向の幅よりも大きくした請求
項５又は７記載の平板の研摩装置。
【請求項９】門型架構に研摩ヘッドを該門型架構の開
脚方向に搖動させる搖動手段を設けた請求項５記載の平
板の研摩装置。
【請求項１０】門型架構をその開脚方向と直角方向に
架台上を走行させる走行手段を設けた請求項５又は９記
載の平板の研摩装置。
【請求項１１】走行手段に門型架構の浮上り防止機構
及び横揺れ防止機構を設けた請求項１０記載の平板の研
摩装置。
【請求項１２】研摩対象の平板を門型架構の開脚方向
と直角方向にテーブル上を送給する送給手段を設けた請
求項５又は９記載の平板の研摩装置。