CN217097172U - 一种靶材表面抛光装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种靶材表面抛光装置,包括底座,所述底座的两侧设有相对应的抛光机构,所述底座的中间设有两条滑轨,两条所述滑轨上设有夹持机构,本实用新型结构简单,设计新颖,特设的两个抛光机构可以同时对靶材进行打磨,在抛光的同时会不断喷淋抛光液以便于靶材表面的抛光,从而提高抛光效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及靶材抛光技术领域,具体为一种靶材表面抛光装置。
背景技术
柱状的合金靶材在加工过程中,需要使其表面的光滑程度达到使用要求,就要对其表面进行抛光操作,而以往的抛光装置不仅抛光效率较低,而且抛光的不够全面,从而导致靶材的精度降低。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种靶材表面抛光装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种靶材表面抛光装置,包括底座,所述底座的两侧设有相对应的抛光机构,所述底座的中间设有两条滑轨,两条所述滑轨上设有夹持机构,所述夹持机构包括两个安装块,每个所述安装块内均贯穿有转轴,所述转轴的两端设有滑轮,两侧所述滑轮分别嵌于相对应的滑轨内,每个所述安装块的上端均设有支架,两个所述支架之间设加固杆,所述加固杆的两侧均设有多个相对应的支撑杆,所述支撑呈倾斜状设置,每个所述支撑杆上均设有滚轮;
其中一个所述支架的上端设有顶杆,所述顶杆的一端通过旋转连接件连接着第一磁吸盘,所述顶杆的另一端连接着气缸;
另一个所述支架的上端设有旋转杆,所述旋转杆的一端连接着第二磁吸盘,所述旋转杆的另一端连接着旋转电机;
所述第一磁吸盘与第二磁吸盘相对设置,且位于同一水平线上。
优选的,所述抛光机构包括壳体,所述壳体内分别设有主动滚筒和从动滚筒,所述主动滚筒和从动滚筒之间套有抛光砂带,所述壳体内还设有水管,所述水管上设有喷淋头,所述喷淋头对应于抛光砂带上方,所述水管连接着抛光液存储器,所述壳体的下方设有出水口。
优选的,其中一个所述安装块内设有驱动器,所述驱动器与该安装块内的转轴之间相互连接。
优选的,所述底座上还设有排水口,所述底座下方设有多个支撑腿。
优选的,每个所述主动滚筒均连接着驱动电机,每个所述抛光机构的下方均设有支撑柱。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,设计新颖, 特设的两个抛光机构可以同时对靶材进行打磨,在抛光的同时会不断喷淋抛光液以便于靶材表面的抛光,从而提高抛光效率;另外特设的夹持机构不仅能够将靶材紧紧夹持住,同时还能够带动靶材进行旋转,从而确保靶材表面能够与两侧的抛光机构全面接触,以提高抛光的精度;靶材在旋转的过程中特设的支撑杆和滚轮,能够辅助靶材进行旋转,从而确保抛光过程中靶材的支撑稳定性,以进一步保证靶材抛光的精度。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型剖面结构示意图;
图3为本实用新型图2的A部放大结构示意图;
图4为本实用新型夹持机构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型提供一种技术方案:一种靶材表面抛光装置,包括底座1,所述底座1的两侧设有相对应的抛光机构2,用于对靶材进行抛光,每个所述抛光机构2的下方均设有支撑柱26用于支撑设备,所述底座1的中间设有两条滑轨11,两条所述滑轨11上设有夹持机构3,用于固定靶材,所述底座1上还设有排水口12,用于排出抛光液;所述底座1下方设有多个支撑腿13用于支撑设备;
所述夹持机构3包括两个安装块31,每个所述安装块31内均贯穿有转轴311,所述转轴311的两端设有滑轮312,将两侧所述滑轮312分别嵌于相对应的滑轨11内,即可使安装块在滑轨上滑行,每个所述安装块31的上端均设有支架32,两个所述支架32之间设有加固杆33,并在所述加固杆33的两侧设置多个相对应的支撑杆331,且该支撑杆331呈倾斜状设置,每个所述支撑杆331上均设有滚轮332,靶材可放置于滚轮上;
其中一个所述支架32的上端设有顶杆321,所述顶杆321的一端通过旋转连接件322连接着第一磁吸盘323,第一磁吸盘对准靶材的一端,通过将所述顶杆321的另一端连接气缸324,即可使顶杆带动第一磁吸盘进行伸缩移动;
另一个所述支架32的上端设有旋转杆325,所述旋转杆325的一端连接着第二磁吸盘326,第二吸盘对准靶材的另一端,通过将所述旋转杆326的另一端连接着旋转电机327,即可使第二磁吸盘进行转动;
上述实施例中,先将靶材放置于滚轮上,并使其一端贴紧第二磁吸盘,由于所述第一磁吸盘323与第二磁吸盘326相对设置,且位于同一水平线上,此时驱动气缸,即可带动第一磁吸盘靠近靶材的另一端,直至顶紧,然后再驱动旋转电机,利用第二磁吸盘带动靶材进行旋转,此时的第一磁吸盘通过靶材的传动也会随之一起旋转,从而使靶材进行转动,转动过程中再通过滚轮的辅助可使旋转中的靶材更加稳固。
本实施例中,所述抛光机构2包括壳体21,所述壳体21内分别设有主动滚筒22和从动滚筒23,所述主动滚筒22和从动滚筒23之间套有抛光砂带24,通过将所述主动滚筒22均连接着驱动电机221,即可带动主动滚筒进行旋转,从而带动抛光砂带进行转动,所述壳体2内还设有水管25,所述水管25连接着抛光液存储器252,抛光液从抛光液存储器倒入水管中,再从所述水管25上设置的喷淋头251中喷淋出来,将所述喷淋头251对应于抛光砂带24上方,即可使喷淋液淋在抛光砂带上,以便于打磨,所述壳体21的下方设有出水口211,用于排出喷淋液。
本实施例中,通过在其中一个所述安装块31内设有驱动器313,并将所述驱动器313与该安装块31内的转轴311之间相互连接,这样就能带动滑轮自动转动,从而带动整个夹持机构在滑轨上来回移动,从而带动靶材在两个抛光机构之间不断的移动来回抛光。
工作原理:首先将靶材放置到滚轮上,并使其一端贴紧第二磁吸盘,此时启动气缸,带动第一磁吸盘紧贴靶材的另一端,从而将靶材进行夹持;
然后打开旋转电机,通过旋转电机带动靶材进行旋转,同时控制驱动器带动整个夹持机构进行来回移动;
于此同时打开驱动电机,带动两侧抛光机构的抛光砂带进行转动,从而对靶材进行抛光,抛光的过程中喷淋头不断对着抛光砂带喷淋抛光液,砂带上的抛光液可随着出壳体上的水口排出,靶材上的抛光液可随着底座上的排水口排出。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种靶材表面抛光装置,包括底座1,其特征在于:所述底座1的两侧设有相对应的抛光机构2,所述底座1的中间设有两条滑轨11,两条所述滑轨11上设有夹持机构3,所述夹持机构3包括两个安装块31,每个所述安装块31内均贯穿有转轴311,所述转轴311的两端设有滑轮312,两侧所述滑轮312分别嵌于相对应的滑轨11内,每个所述安装块31的上端均设有支架32,两个所述支架32之间设加固杆33,所述加固杆33的两侧均设有多个相对应的支撑杆331,所述支撑杆331呈倾斜状设置,每个所述支撑杆331上均设有滚轮332;
其中一个所述支架32的上端设有顶杆321,所述顶杆321的一端通过旋转连接件322连接着第一磁吸盘323,所述顶杆321的另一端连接着气缸324;
另一个所述支架32的上端设有旋转杆325,所述旋转杆325的一端连接着第二磁吸盘326,所述旋转杆326的另一端连接着旋转电机327;
所述第一磁吸盘323与第二磁吸盘326相对设置,且位于同一水平线上。
2.根据权利要求1所述的一种靶材表面抛光装置,其特征在于:所述抛光机构2包括壳体21,所述壳体21内分别设有主动滚筒22和从动滚筒23,所述主动滚筒22和从动滚筒23之间套有抛光砂带24,所述壳体2内还设有水管25,所述水管25上设有喷淋头251,所述喷淋头251对应于抛光砂带24上方,所述水管25连接着抛光液存储器252,所述壳体21的下方设有出水口211。
3.根据权利要求1所述的一种靶材表面抛光装置,其特征在于:其中一个所述安装块31内设有驱动器313,所述驱动器313与该安装块31内的转轴311之间相互连接。
4.根据权利要求1所述的一种靶材表面抛光装置,其特征在于:所述底座1上还设有排水口12,所述底座1下方设有多个支撑腿13。
5.根据权利要求2所述的一种靶材表面抛光装置,其特征在于:每个所述主动滚筒22均连接着驱动电机221,每个所述抛光机构2的下方均设有支撑柱26。
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Denomination of utility model: A surface polishing device for target materials Granted publication date: 20220802 Pledgee: Nantong Branch of Bank of Nanjing Co.,Ltd. Pledgor: Jiangsu Haitai New Material Technology Co.,Ltd. Registration number: Y2024980012085 |