JP2716050B2 - 銅粉末の製法 - Google Patents
銅粉末の製法Info
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 53
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 39
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 22
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 21
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 19
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 claims description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 18
- 239000010909 process residue Substances 0.000 claims description 13
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 claims description 11
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 5
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 4
- 239000008394 flocculating agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical class [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 1
- JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L Copper hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Cu+2] JJLJMEJHUUYSSY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005750 Copper hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019093 NaOCl Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001956 copper hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010291 electrical method Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N hydrate;hydrochloride Chemical compound O.Cl DKAGJZJALZXOOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002505 iron Chemical class 0.000 description 1
- 235000014413 iron hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L iron(ii) hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Fe+2] NCNCGGDMXMBVIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000012465 retentate Substances 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011863 silicon-based powder Substances 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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-
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- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F9/00—Making metallic powder or suspensions thereof
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅溶液から鉄粉末を用
いる逆セメンテーションにより銅粉末を製造する方法に
関する。
いる逆セメンテーションにより銅粉末を製造する方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】塩化メチル及び珪素からのメチルクロロ
シラン−合成の際に必要な銅触媒は、銅金属の形で、例
えば沈殿銅、電解銅の形で又は沈殿銅から高熱冶金法に
より製造された銅酸化物又は銅化合物例えば酸化銅、水
酸化銅又は他の銅塩の形で又は珪素の合金成分として使
用される。この銅触媒は、活性、安定性及び反応性の改
良のために、活性化剤としての金属例えばアルミニウム
又は亜鉛を、又は促進剤として例えば錫、アンチモン又
はヒ素を含有する。
シラン−合成の際に必要な銅触媒は、銅金属の形で、例
えば沈殿銅、電解銅の形で又は沈殿銅から高熱冶金法に
より製造された銅酸化物又は銅化合物例えば酸化銅、水
酸化銅又は他の銅塩の形で又は珪素の合金成分として使
用される。この銅触媒は、活性、安定性及び反応性の改
良のために、活性化剤としての金属例えばアルミニウム
又は亜鉛を、又は促進剤として例えば錫、アンチモン又
はヒ素を含有する。
【0003】流動層反応器中での直接合成の実施の際に
は、反応生成物、粗製シラン混合物及び未反応の塩化メ
チルと一緒に、炭素粒子及び工業用珪素原料の副成分か
らの種々の金属化合物で不純化された珪素と銅触媒との
微細分も搬出され、後続されている分離装置例えばサイ
クロンにより分離される。
は、反応生成物、粗製シラン混合物及び未反応の塩化メ
チルと一緒に、炭素粒子及び工業用珪素原料の副成分か
らの種々の金属化合物で不純化された珪素と銅触媒との
微細分も搬出され、後続されている分離装置例えばサイ
クロンにより分離される。
【0004】更に、珪素、触媒及び工業用珪素原料の副
成分及び炭素粒子からの金属ハロゲニドから成る反応器
残渣が沈殿し、連続的又は断続的に流動層反応器から搬
出される。乾燥−及び濾過工程も、不純化された微細ダ
ストの沈殿をもたらす。
成分及び炭素粒子からの金属ハロゲニドから成る反応器
残渣が沈殿し、連続的又は断続的に流動層反応器から搬
出される。乾燥−及び濾過工程も、不純化された微細ダ
ストの沈殿をもたらす。
【0005】従来は、経費のかかる精製の後にはじめて
導入されうる不純化された銅塩を得る、プロセス残渣か
らの銅の回収法のみが公知である。
導入されうる不純化された銅塩を得る、プロセス残渣か
らの銅の回収法のみが公知である。
【0006】米国特許(US−A)第4758352号
(K.Feldner及びO.Horak.Bayer
AG.Leverkusenに対し1998年7月1
9日公告)明細書中には、メチルクロロシラン合成から
の高い沸点残渣の処理法が記載されており、ここでは、
残渣を水又は稀塩酸を用いて加水分解し、酸素を用いて
酸化している。分離されたCuCl2−含有溶液を、N
aOH及びSO2で処理すると、酸化銅(I)が沈殿す
る。
(K.Feldner及びO.Horak.Bayer
AG.Leverkusenに対し1998年7月1
9日公告)明細書中には、メチルクロロシラン合成から
の高い沸点残渣の処理法が記載されており、ここでは、
残渣を水又は稀塩酸を用いて加水分解し、酸素を用いて
酸化している。分離されたCuCl2−含有溶液を、N
aOH及びSO2で処理すると、酸化銅(I)が沈殿す
る。
【0007】この酸化銅(I)は、公知方法で、例えば
空気供給下での稀硫酸中の溶解及び引続く鉄屑を用いる
セメンテーションにより後処理すべきである。大抵は、
これからメチルクロルシラン合成用の触媒を再び製造す
べき場合には、得られた銅を精製融解により、かつ、そ
の後の電気的な方法で、更に精製することが必要であ
る。
空気供給下での稀硫酸中の溶解及び引続く鉄屑を用いる
セメンテーションにより後処理すべきである。大抵は、
これからメチルクロルシラン合成用の触媒を再び製造す
べき場合には、得られた銅を精製融解により、かつ、そ
の後の電気的な方法で、更に精製することが必要であ
る。
【0008】銅は延性を有し、機械的には、好適な粒径
及び表面積を有する粉末に粉砕することはできない。メ
チルクロロシラン合成用の粉状銅触媒にするために、例
えば酸化又はドーピングにより銅表面を更に加工される
銅粉末を製造したい場合には、特別な方法で、例えば融
液から噴霧することによりこの銅粉末を製造しなければ
ならない。
及び表面積を有する粉末に粉砕することはできない。メ
チルクロロシラン合成用の粉状銅触媒にするために、例
えば酸化又はドーピングにより銅表面を更に加工される
銅粉末を製造したい場合には、特別な方法で、例えば融
液から噴霧することによりこの銅粉末を製造しなければ
ならない。
【0009】
【発明が解決しょうとする課題】メチルクロロシラン合
成用の触媒に加工することができ、メチルクロロシラン
−合成のプロセス残渣の後処理の際に得られる銅塩溶液
をも使用することのできる、銅粉末の簡単な製法を提供
する課題が存在した。
成用の触媒に加工することができ、メチルクロロシラン
−合成のプロセス残渣の後処理の際に得られる銅塩溶液
をも使用することのできる、銅粉末の簡単な製法を提供
する課題が存在した。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、銅塩水溶液を
鉄粉の水性懸濁液中に導入する方法でメチルクロロシラ
ン合成用触媒の製造に好適な微細な銅粉末の製法に関す
る。
鉄粉の水性懸濁液中に導入する方法でメチルクロロシラ
ン合成用触媒の製造に好適な微細な銅粉末の製法に関す
る。
【0011】沈殿すべき金属より前の電気化学的電位順
位を有し、貴金属に代って溶解する卑なる金属の添加に
より、溶液から金属を析出させることを貴金属のセメン
テーションと称する。通例、銅は、銅塩溶液中に鉄粉末
を添加することによりセメンテーションされる。本発明
では、この銅粉末を逆セメンテーションにより製造す
る。
位を有し、貴金属に代って溶解する卑なる金属の添加に
より、溶液から金属を析出させることを貴金属のセメン
テーションと称する。通例、銅は、銅塩溶液中に鉄粉末
を添加することによりセメンテーションされる。本発明
では、この銅粉末を逆セメンテーションにより製造す
る。
【0012】銅塩溶液の濃度は、最低0.2重量%から
飽和濃度までであるのが有利である。この銅塩溶液を連
続的に加え、これにより、銅イオン濃度を一様に留め、
高すぎないようにするのが有利である。激しい撹拌は同
様に有利である。
飽和濃度までであるのが有利である。この銅塩溶液を連
続的に加え、これにより、銅イオン濃度を一様に留め、
高すぎないようにするのが有利である。激しい撹拌は同
様に有利である。
【0013】本発明により製造された銅粉末は、洗浄及
び乾燥の後に、部分的に酸化し、場合によっては、活性
剤又は高活性触媒としての促進剤のドーピングの後に、
メチルクロロシランの直接合成で高活性触媒として使用
することができる。この銅の必要な微細度は、物理的又
は機械的方法によるのではなく、本発明の方法により達
成される。単に、ミル中での脱集塊処理のみが場合によ
り必要でありうる。
び乾燥の後に、部分的に酸化し、場合によっては、活性
剤又は高活性触媒としての促進剤のドーピングの後に、
メチルクロロシランの直接合成で高活性触媒として使用
することができる。この銅の必要な微細度は、物理的又
は機械的方法によるのではなく、本発明の方法により達
成される。単に、ミル中での脱集塊処理のみが場合によ
り必要でありうる。
【0014】本発明により製造された銅粉末は、少量の
障害性の不純物例えば鉛、亜鉛、錫及びチタンに基づ
き、銅塩からの銅触媒への又はメチルクロロシラン合成
で使用される珪素の合金への加工のために非常に好適で
もある。
障害性の不純物例えば鉛、亜鉛、錫及びチタンに基づ
き、銅塩からの銅触媒への又はメチルクロロシラン合成
で使用される珪素の合金への加工のために非常に好適で
もある。
【0015】本発明の方法で必要な鉄は、微細な銅を形
成するための高い反応速度が必要であるので、粉末状で
存在すべきである。鉄粉末の平均粒径が0.1〜100
μmである場合には、特に良好な結果が得られる。酸化
鉄の還元により固体状態で得られ、特に多孔性で得られ
る海綿状鉄の使用が有利である。
成するための高い反応速度が必要であるので、粉末状で
存在すべきである。鉄粉末の平均粒径が0.1〜100
μmである場合には、特に良好な結果が得られる。酸化
鉄の還元により固体状態で得られ、特に多孔性で得られ
る海綿状鉄の使用が有利である。
【0016】鉄粉末の水性懸濁液中のpH−値は、有利
に3以下であり、これにより、水酸化鉄沈殿が銅粉末を
不純化しない。但し、pH値が低すぎると、鉄粉末が早
く溶解されすぎる。最良の結果は、懸濁液のpH−値が
0.5〜2.5である場合に得られる。
に3以下であり、これにより、水酸化鉄沈殿が銅粉末を
不純化しない。但し、pH値が低すぎると、鉄粉末が早
く溶解されすぎる。最良の結果は、懸濁液のpH−値が
0.5〜2.5である場合に得られる。
【0017】本発明方法は、この水性懸濁液が相応する
圧力で製造可能である全ての温度範囲で実施可能であ
る。しかしながら、銅粉末の品質は、懸濁液の温度が1
0〜90℃である場合に、最良に制御することができ
る。
圧力で製造可能である全ての温度範囲で実施可能であ
る。しかしながら、銅粉末の品質は、懸濁液の温度が1
0〜90℃である場合に、最良に制御することができ
る。
【0018】鉄粉末の粒径、pH−値及び温度の有利な
範囲の保持及び銅塩溶液の一様な添加により、銅粉末の
平均粒径を0.5〜50μmの有利な範囲に保持するこ
とができる。これは、メチルクロロシラン合成用の粉状
銅触媒を得るための最適粒径である。
範囲の保持及び銅塩溶液の一様な添加により、銅粉末の
平均粒径を0.5〜50μmの有利な範囲に保持するこ
とができる。これは、メチルクロロシラン合成用の粉状
銅触媒を得るための最適粒径である。
【0019】本発明の方法では、種々の起源の銅塩溶液
を使用することができる。例えば導体板製造からの塩化
銅-腐蝕溶液が又は無機酸により溶解された電解銅廃液
が好適である。
を使用することができる。例えば導体板製造からの塩化
銅-腐蝕溶液が又は無機酸により溶解された電解銅廃液
が好適である。
【0020】メチルクロロシラン−合成のプロセス残渣
から銅塩溶液を取得する場合には、このプロセス残渣
を、例えば米国特許(US−A)第4758352号明
細書に記載のように、場合により、酸化剤の添加のもと
に、無機酸で後処理する。これは、殊に有利に1重量%
を下まわるシランを含有する固体残渣に関連する。プロ
セス残渣を水で懸濁させるのが有利であり、この際、稀
塩酸が生じる。次いで、無機酸、例えば塩酸、硝酸又は
硫酸を添加する。この際、塩酸及び硫酸の場合には、酸
化剤例えば酸素、塩素、NaOCl又はH2O2の存在が
必要である。
から銅塩溶液を取得する場合には、このプロセス残渣
を、例えば米国特許(US−A)第4758352号明
細書に記載のように、場合により、酸化剤の添加のもと
に、無機酸で後処理する。これは、殊に有利に1重量%
を下まわるシランを含有する固体残渣に関連する。プロ
セス残渣を水で懸濁させるのが有利であり、この際、稀
塩酸が生じる。次いで、無機酸、例えば塩酸、硝酸又は
硫酸を添加する。この際、塩酸及び硫酸の場合には、酸
化剤例えば酸素、塩素、NaOCl又はH2O2の存在が
必要である。
【0021】この場合、メチルクロロシラン合成のプロ
セス残渣中に通例存在するすべての金属が溶解し、珪素
及び炭素は不溶のまま残る。
セス残渣中に通例存在するすべての金属が溶解し、珪素
及び炭素は不溶のまま残る。
【0022】特に、塩酸及び空気酸素又は純粋ガスとし
て吹き込まれうる酸素を用いる塩化銅(II)の取得が
特に有利である。
て吹き込まれうる酸素を用いる塩化銅(II)の取得が
特に有利である。
【0023】不溶の付随物質、例えば微細炭素粒子の分
離のために、銅塩溶液に、鉄粉末の水性懸濁液中に導入
する前に、特に凝集剤を添加し、引続き濾過する。可溶
性の合成非イオン性凝集剤又は陽イオン性凝集剤を使用
するのが有利である。
離のために、銅塩溶液に、鉄粉末の水性懸濁液中に導入
する前に、特に凝集剤を添加し、引続き濾過する。可溶
性の合成非イオン性凝集剤又は陽イオン性凝集剤を使用
するのが有利である。
【0024】この濾過残分は、手はず通り貯蔵し、又は
例えば高温セラミック用の原料として又は酸化後に無機
建築材料用の融剤として使用することができるように、
溶離可能な毒性金属化合物を充分に不含であるべきであ
る。この濾過残分の溶離可能な成分は、燐酸又は塩基性
水溶液での洗浄により、最小に保持することができる。
塩基としては、NaOH、KOH及びNa(OH)2殊
にNaOHを使用するのが有利である。塩基性水溶液で
処理された濾過残分は、銅及び亜鉛の溶離値に関するT
A−廃物の法的規定に相応する。
例えば高温セラミック用の原料として又は酸化後に無機
建築材料用の融剤として使用することができるように、
溶離可能な毒性金属化合物を充分に不含であるべきであ
る。この濾過残分の溶離可能な成分は、燐酸又は塩基性
水溶液での洗浄により、最小に保持することができる。
塩基としては、NaOH、KOH及びNa(OH)2殊
にNaOHを使用するのが有利である。塩基性水溶液で
処理された濾過残分は、銅及び亜鉛の溶離値に関するT
A−廃物の法的規定に相応する。
【0025】逆セメンテーションの濾液は、更に使用す
ることのできる主として鉄塩含有溶液である。この濾液
が塩化鉄溶液から成る場合には、これは例えば凝集剤と
して廃水処理設備中で使用することができる。
ることのできる主として鉄塩含有溶液である。この濾液
が塩化鉄溶液から成る場合には、これは例えば凝集剤と
して廃水処理設備中で使用することができる。
【0026】メチルクロロシラン合成の際に、本発明の
方法の使用により、触媒として使用された殆んど全ての
銅を回収することができ、充分に閉鎖された銅循環が可
能になる。メチルクロロシラン−合成時に避けられない
僅かな銅損失は、先に記載のプロセス残渣の水性懸濁液
に前記の工業プロセスの廃物のような銅含有水溶液を添
加することにより、容易に補償することができる。
方法の使用により、触媒として使用された殆んど全ての
銅を回収することができ、充分に閉鎖された銅循環が可
能になる。メチルクロロシラン−合成時に避けられない
僅かな銅損失は、先に記載のプロセス残渣の水性懸濁液
に前記の工業プロセスの廃物のような銅含有水溶液を添
加することにより、容易に補償することができる。
【0027】次の実施例で、他の記載がない場合には、 a)全ての量の記載は、重量に関し、 b)全ての圧力は、0.10MPa(絶対)であり、 c)全ての温度は20℃である。
【0028】
例 1メチルクロロシラン−合成のプロセス残渣の懸濁 反応器残渣、サイクロンダスト及び粗製シラン濾過から
の乾燥器ダストからなる混合物500gを、撹拌下に水
1000ml中に入れた。このプロセス残渣は自然発火
性でありうるので、この懸濁工程を、不活性ガス例えば
窒素下に実施した。
の乾燥器ダストからなる混合物500gを、撹拌下に水
1000ml中に入れた。このプロセス残渣は自然発火
性でありうるので、この懸濁工程を、不活性ガス例えば
窒素下に実施した。
【0029】このプロセス残渣の元素組成は、次のとお
りであった: 銅 17.0% 鉄 4.2% 亜鉛 1.0% アルミニウム 1.7% カルシウム 0.9% チタン 0.4% 残り:珪素、炭化水素、酸素 例 2プロセス残渣の溶解 例1で得られた固体懸濁液中に、撹拌下に、セラミック
−フリットを通して、空気300l/hを吹き込んだ。
20%塩酸の連続的添加により、pH値を1.5に保持
した。8時間かかって溶液の銅含分は57g/lまで増
加し、このために塩酸475gが消費された。溶けなか
った固体分の銅含有率は0.5%以下であった。
りであった: 銅 17.0% 鉄 4.2% 亜鉛 1.0% アルミニウム 1.7% カルシウム 0.9% チタン 0.4% 残り:珪素、炭化水素、酸素 例 2プロセス残渣の溶解 例1で得られた固体懸濁液中に、撹拌下に、セラミック
−フリットを通して、空気300l/hを吹き込んだ。
20%塩酸の連続的添加により、pH値を1.5に保持
した。8時間かかって溶液の銅含分は57g/lまで増
加し、このために塩酸475gが消費された。溶けなか
った固体分の銅含有率は0.5%以下であった。
【0030】例 3固体含有溶液の凝集 例2で得られた溶液は、不溶の微細な珪素−及び炭素−
粒子を含有した。濾過は、凝集の後にのみ可能であっ
た。このために、撹拌下に、カチオン性凝集剤(BAS
F社のSedipur CF302)の0.1%溶液
0.5%を添加した。
粒子を含有した。濾過は、凝集の後にのみ可能であっ
た。このために、撹拌下に、カチオン性凝集剤(BAS
F社のSedipur CF302)の0.1%溶液
0.5%を添加した。
【0031】数秒以内に、固体分が集塊化し、問題なく
濾去できた。
濾去できた。
【0032】例 4凝集した固体含有溶液の濾過 例3で得た溶液を濾過し、この際、濾過残分を、その溶
離値が銅及び亜鉛に関するTA−廃物の法的基準に相応
するような形で保持すべきであった。このために、固体
含有溶液の5 lをヘシューフィルタープレス(Hoe
sch−Filterpress)タイプMF62上に
加えた。この濾液の吸引濾過の後に、水6 lで後洗浄
し、乾燥させ、洗浄物をpH値12の苛性ソーダ5 l
で溶解させた。圧搾後に得られた濾過残分は、30%の
残留水分を有した。DIN38414による溶離実験の
結果は、溶離液(pH8.1)中に、銅0.05mg/
l(TA−廃液の限界値10mg/l)及び亜鉛0.0
5mg/lであった。
離値が銅及び亜鉛に関するTA−廃物の法的基準に相応
するような形で保持すべきであった。このために、固体
含有溶液の5 lをヘシューフィルタープレス(Hoe
sch−Filterpress)タイプMF62上に
加えた。この濾液の吸引濾過の後に、水6 lで後洗浄
し、乾燥させ、洗浄物をpH値12の苛性ソーダ5 l
で溶解させた。圧搾後に得られた濾過残分は、30%の
残留水分を有した。DIN38414による溶離実験の
結果は、溶離液(pH8.1)中に、銅0.05mg/
l(TA−廃液の限界値10mg/l)及び亜鉛0.0
5mg/lであった。
【0033】例 5逆銅−セメンテーション及び触媒−製造 撹拌容器中に、水500ml及び平均粒径60〜70μ
mの海綿状鉄粉末61gを予め装入した。例4で得られ
た塩化銅(II)溶液(銅含分45g/lのみ)1.5
lを、30分かかって添加した。引続き、15分間後撹
拌した。この塩化鉄溶液からのセメント銅の分離の後
に、濾過した。水2 lで洗浄及び吸引乾燥の後に銅粉
末の乾燥及び酸化を170℃で、循環空気乾燥箱中で3
時間にわたって行なった。乾燥された物質を空気流ミル
中で解集塊させ、25μmより大きい分を篩過により分
離した。ドーピングの後に、得られた銅触媒は、メチル
クロルシラン−合成のために再び使用可能であった。銅
の収率は99%であった。
mの海綿状鉄粉末61gを予め装入した。例4で得られ
た塩化銅(II)溶液(銅含分45g/lのみ)1.5
lを、30分かかって添加した。引続き、15分間後撹
拌した。この塩化鉄溶液からのセメント銅の分離の後
に、濾過した。水2 lで洗浄及び吸引乾燥の後に銅粉
末の乾燥及び酸化を170℃で、循環空気乾燥箱中で3
時間にわたって行なった。乾燥された物質を空気流ミル
中で解集塊させ、25μmより大きい分を篩過により分
離した。ドーピングの後に、得られた銅触媒は、メチル
クロルシラン−合成のために再び使用可能であった。銅
の収率は99%であった。
【0034】例 6銅触媒を用いるメチルクロルシラン−合成 加熱蛇管(Heizwicklung)、ガス分配フリ
ット、ソール冷却器(Sole−kuehlung)付
き蒸留ブリッジ及び受器フラスコを備えた実験室用流動
層反応器中で、粒径70〜250μmの珪素粉末120
gを、例5で製造された銅触媒6g、塩化亜鉛2g及び
錫粉末6mgからの触媒混合物と混合して装入した。3
50℃まで加熱の後に、塩化メチレン40l/hを導入
した。15分の誘導時間の後に、メチルクロロシランの
形成が開始した。更に107分後に、受器フラスコ中に
はメチルクロロシラン87gが存在した。反応生成物の
GC−分析の結果は、Me2SiCl2 80.6%、M
eSiCl3 6.5%、Me3SiCl 1.8%、高
沸点物8.5%及び低沸点物2.6%であった。
ット、ソール冷却器(Sole−kuehlung)付
き蒸留ブリッジ及び受器フラスコを備えた実験室用流動
層反応器中で、粒径70〜250μmの珪素粉末120
gを、例5で製造された銅触媒6g、塩化亜鉛2g及び
錫粉末6mgからの触媒混合物と混合して装入した。3
50℃まで加熱の後に、塩化メチレン40l/hを導入
した。15分の誘導時間の後に、メチルクロロシランの
形成が開始した。更に107分後に、受器フラスコ中に
はメチルクロロシラン87gが存在した。反応生成物の
GC−分析の結果は、Me2SiCl2 80.6%、M
eSiCl3 6.5%、Me3SiCl 1.8%、高
沸点物8.5%及び低沸点物2.6%であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルント パヒャリー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ロ ーベルト−コッホ−シュトラーセ 167 (56)参考文献 特開 平3−2302(JP,A) 特開 昭60−125305(JP,A) 特開 昭60−125304(JP,A)
Claims (2)
- 【請求項1】 メチルクロロシラン合成用の銅触媒を製
造するために好適な微細な銅粉末を製造する場合に、メ
チルクロロシラン−合成のプロセス残渣から、鉱酸を用
いて銅塩水溶液を取得し、この銅塩水溶液に合成非イオ
ン性又はカチオン性凝集剤を加え、引き続き濾過し、こ
の銅塩水溶液を鉄粉末の水性懸濁液中に入れることを特
徴とする、微細な銅粉末の製法。 - 【請求項2】 メチルクロロシラン合成用の銅触媒を製
造するために好適な微細な銅粉末を製造する場合に、メ
チルクロロシラン−合成のプロセス残渣から、酸化剤の
添加下に、鉱酸を用いて銅塩水溶液を取得し、この銅塩
水溶液に合成非イオン性又はカチオン性凝集剤を加え、
引き続き濾過し、この銅塩水溶液を鉄粉末の水性懸濁液
中に入れることを特徴とする、微細な銅粉末の製法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4142432.8 | 1991-12-20 | ||
DE4142432A DE4142432A1 (de) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | Verfahren zur herstellung von kupferpulver |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05255713A JPH05255713A (ja) | 1993-10-05 |
JP2716050B2 true JP2716050B2 (ja) | 1998-02-18 |
Family
ID=6447787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4334052A Expired - Lifetime JP2716050B2 (ja) | 1991-12-20 | 1992-12-15 | 銅粉末の製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5306328A (ja) |
EP (1) | EP0550857B1 (ja) |
JP (1) | JP2716050B2 (ja) |
DE (2) | DE4142432A1 (ja) |
ES (1) | ES2091392T3 (ja) |
NO (1) | NO924938L (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4408113A1 (de) * | 1994-03-10 | 1995-09-14 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
NO180188C (no) * | 1994-03-30 | 1997-03-05 | Elkem Materials | Fremgangsmåte for opparbeiding av residuer fra direkte syntese av organoklorsilaner og/eller klorsilaner |
DE19530292A1 (de) * | 1995-08-17 | 1997-02-20 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Dimethyldichlorsilan |
DE19817775A1 (de) * | 1998-04-21 | 1999-10-28 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
DE19919337C1 (de) | 1999-04-27 | 2000-05-18 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
DE10017153C1 (de) | 2000-04-06 | 2001-05-03 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Direktsynthese von Organochlorsilanen unter Einsatz von zurückgewonnenem CuCI Katalysator |
US6478847B1 (en) | 2001-08-31 | 2002-11-12 | Mueller Industries, Inc. | Copper scrap processing system |
US20030145681A1 (en) * | 2002-02-05 | 2003-08-07 | El-Shall M. Samy | Copper and/or zinc alloy nanopowders made by laser vaporization and condensation |
DE102005005052A1 (de) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
US9247734B2 (en) | 2014-05-23 | 2016-02-02 | Robert Sabin | Potentiation of fixed coppers and other pesticides containing copper and supplementing plant nutrition |
US9718739B2 (en) | 2014-05-23 | 2017-08-01 | Robert Sabin | Potentiation of fixed coppers and other pesticides containing copper and supplementing plant nutrition |
MX358397B (es) * | 2014-05-23 | 2018-08-17 | Sabin Robert | Potenciación de cobres fijos y otros pesticidas que contienen cobre y nutrición suplementaria de plantas. |
JP6493679B2 (ja) * | 2015-08-25 | 2019-04-03 | 東亞合成株式会社 | 銅粉の回収方法 |
CN111041219B (zh) * | 2019-12-31 | 2023-10-24 | 湖南景翌湘台环保高新技术开发有限公司 | 一种从废有机硅浆渣提取铜和氧化硅抛光粉的方法 |
CN112517920A (zh) * | 2020-10-30 | 2021-03-19 | 煜环环境科技有限公司 | 一种磺化铁铜双金属复合材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA897437A (en) * | 1972-04-11 | E. E. Blomberg Gote | Arrangement in flexible fences for enclosing impurities floating on water | |
US3282675A (en) * | 1964-05-27 | 1966-11-01 | Inspiration Cons Copper Compan | Up-grading cement copper |
FR2055966A5 (ja) * | 1969-08-12 | 1971-05-14 | Nickel Le | |
DE2750556A1 (de) * | 1977-11-11 | 1979-05-17 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von katalyt-kupfer |
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JPS60125304A (ja) * | 1983-12-12 | 1985-07-04 | Kagakuhin Kensa Kyokai | 銅粉の製造方法 |
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-
1991
- 1991-12-20 DE DE4142432A patent/DE4142432A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-12-14 US US07/989,685 patent/US5306328A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-15 JP JP4334052A patent/JP2716050B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-17 ES ES92121448T patent/ES2091392T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-17 DE DE59207129T patent/DE59207129D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-12-17 EP EP92121448A patent/EP0550857B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-18 NO NO92924938A patent/NO924938L/no unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0550857B1 (de) | 1996-09-11 |
ES2091392T3 (es) | 1996-11-01 |
DE59207129D1 (de) | 1996-10-17 |
US5306328A (en) | 1994-04-26 |
EP0550857A1 (de) | 1993-07-14 |
DE4142432A1 (de) | 1993-06-24 |
NO924938D0 (no) | 1992-12-18 |
JPH05255713A (ja) | 1993-10-05 |
NO924938L (no) | 1993-06-21 |
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