JP2710343B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JP2710343B2 JP2710343B2 JP17225088A JP17225088A JP2710343B2 JP 2710343 B2 JP2710343 B2 JP 2710343B2 JP 17225088 A JP17225088 A JP 17225088A JP 17225088 A JP17225088 A JP 17225088A JP 2710343 B2 JP2710343 B2 JP 2710343B2
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- JP
- Japan
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- furnace
- heat
- mother boat
- boat
- mother
- Prior art date
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造方法に関する。
従来の拡散炉装置を第３図に示す。第３図において、
１は炉芯管、２はヒータ３の熱を受けて炉芯管１を均一
に加熱する均熱管、５は炉芯管１に設けたガス導入口、
４は複数の半導体基板６を並列に保持するボート、７は
複数のボート４を搭載するマザーボートである。従来の
装置において、マザーボート７に熱センサがなく、しか
もマザーボート７の入出炉のスピードは固定となってお
り、又、炉内で処理する温度より低い温度で入出炉し、
炉内にて処理温度まで上昇させ処理するようになってい
た。
１は炉芯管、２はヒータ３の熱を受けて炉芯管１を均一
に加熱する均熱管、５は炉芯管１に設けたガス導入口、
４は複数の半導体基板６を並列に保持するボート、７は
複数のボート４を搭載するマザーボートである。従来の
装置において、マザーボート７に熱センサがなく、しか
もマザーボート７の入出炉のスピードは固定となってお
り、又、炉内で処理する温度より低い温度で入出炉し、
炉内にて処理温度まで上昇させ処理するようになってい
た。
上述した従来の拡散炉装置はマザーボート７上の総熱
量差に応じて入出炉のスピードがコントロールされてい
ないために、マザーボート７上の位置で半導体基板６の
受ける総熱量が異なり、熱酸化膜膜厚のバラツキ，特性
のバラツキが大きくなるという欠点がある。
量差に応じて入出炉のスピードがコントロールされてい
ないために、マザーボート７上の位置で半導体基板６の
受ける総熱量が異なり、熱酸化膜膜厚のバラツキ，特性
のバラツキが大きくなるという欠点がある。
本発明の目的は前記課題を解決した半導体装置の製造
方法を提供することにある。
方法を提供することにある。
上述した従来の拡散炉装置に対し、本発明は一定間隔
に熱センサを持つマザーボートを有し、入炉開始から出
炉終了まで積算熱量を算出し、入出炉スピードをコント
ロールすることにより、マザーボート上のどの位置でも
半導体基板の受ける総熱量を一定にできるという相違点
がある。
に熱センサを持つマザーボートを有し、入炉開始から出
炉終了まで積算熱量を算出し、入出炉スピードをコント
ロールすることにより、マザーボート上のどの位置でも
半導体基板の受ける総熱量を一定にできるという相違点
がある。
前記目的を達成するため、本発明に係る半導体装置の
製造方法は、各種ガス雰囲気中で半導体基板上に熱処理
叉は不純物拡散する半導体装置の製造方法において、 炉心管内に半導体基板を入出炉させるマザーボート上
に複数の熱センサを定間隔に設置し、 前記熱エンサからの出力に基づいて入炉開始から出炉
終了までのマザーボート上の熱センサが受ける積算熱量
を算出し、 前記マザーボート上の熱センサが受ける総熱量が一定
になるように、マザーボートの出炉スピードをコントロ
ールするとともに、炉の加熱用ヒータの加熱温度をコン
トロールして、マザーボートを出炉させるものである。
製造方法は、各種ガス雰囲気中で半導体基板上に熱処理
叉は不純物拡散する半導体装置の製造方法において、 炉心管内に半導体基板を入出炉させるマザーボート上
に複数の熱センサを定間隔に設置し、 前記熱エンサからの出力に基づいて入炉開始から出炉
終了までのマザーボート上の熱センサが受ける積算熱量
を算出し、 前記マザーボート上の熱センサが受ける総熱量が一定
になるように、マザーボートの出炉スピードをコントロ
ールするとともに、炉の加熱用ヒータの加熱温度をコン
トロールして、マザーボートを出炉させるものである。
以下、本発明の実施例を図により説明する。
（参考例） 第１図は本発明の参考例を示す縦断面図である。
図において、１はガス導入口５をもつ炉芯管、２はヒ
ータ３の熱を受けて炉芯管１を均一に加熱する均熱管、
４は複数の半導体基板６を並列に保持するボート、７は
複数のボート４を搭載して炉芯管１内に出入するマザー
ボートである。
ータ３の熱を受けて炉芯管１を均一に加熱する均熱管、
４は複数の半導体基板６を並列に保持するボート、７は
複数のボート４を搭載して炉芯管１内に出入するマザー
ボートである。
参考例はマザーボート７上に熱センサ８を一定間隔毎
に、具体的には搭載された各ボート４に隣接させてその
長さ方向に沿って配列し、さらに熱センサ８の出力に基
いて入炉開始から出炉終了までの積算熱量を算出し、マ
ザーボート７の出炉スピードをマザーボート７上の熱セ
ンサ８が受ける総熱量が一定になるようにコントロール
するボートスピードコントローラ９を装備したものであ
る。
に、具体的には搭載された各ボート４に隣接させてその
長さ方向に沿って配列し、さらに熱センサ８の出力に基
いて入炉開始から出炉終了までの積算熱量を算出し、マ
ザーボート７の出炉スピードをマザーボート７上の熱セ
ンサ８が受ける総熱量が一定になるようにコントロール
するボートスピードコントローラ９を装備したものであ
る。
参考例によれば、マザーボート７の炉芯管１への入炉
開始から出炉終了までの積算熱量をマザーボート７の熱
センサ８からの出力に基いて算出し、その値に応じてマ
ザーボート７の入出炉スピードをコントロールする。
開始から出炉終了までの積算熱量をマザーボート７の熱
センサ８からの出力に基いて算出し、その値に応じてマ
ザーボート７の入出炉スピードをコントロールする。
（実施例１） 第２図は本発明の実施例１を示す縦断面図である。
本発明の実施例１はマザーボート７上に熱センサ８一
定間隔毎に有するとともに、ヒータ３と炉芯管１の間に
熱センサ８を有する。本発明の実施例１によれば、両熱
センサ８からの出力に基いて入炉開始から出炉終了まで
のマザーボート７上の熱センサ８が受ける積算熱量を算
出し、マザーボート７上の熱センサ８が受ける総熱量が
一定になるように、マザーボード７の入出炉スピードを
コントロールするとともに、ヒータ３の温度を温度コン
トローラ10でコントロールしながら入出炉するため、炉
内位置での総熱量差がなくなるという利点がある。
定間隔毎に有するとともに、ヒータ３と炉芯管１の間に
熱センサ８を有する。本発明の実施例１によれば、両熱
センサ８からの出力に基いて入炉開始から出炉終了まで
のマザーボート７上の熱センサ８が受ける積算熱量を算
出し、マザーボート７上の熱センサ８が受ける総熱量が
一定になるように、マザーボード７の入出炉スピードを
コントロールするとともに、ヒータ３の温度を温度コン
トローラ10でコントロールしながら入出炉するため、炉
内位置での総熱量差がなくなるという利点がある。
以上説明したように本発明は一定間隔に熱センサを持
つマザーボートを有し、熱センサからの出力に基づいて
入炉開始から出炉終了までのマザーボート上の熱センサ
が受ける積算熱量を算出し、マザーボート上の熱センサ
が受ける総熱量が一定になるように、マザーボートの出
炉スピードをコントロールするとともに、炉の加熱用ヒ
ータの加熱温度をコントロールして、マザーボートを出
炉させるため、マザーボート上のどの位置でも半導体基
板の受ける総熱量が一定となり、熱酸化膜膜厚バラツキ
おび特性のバラツキが小さくなるという効果がある。
つマザーボートを有し、熱センサからの出力に基づいて
入炉開始から出炉終了までのマザーボート上の熱センサ
が受ける積算熱量を算出し、マザーボート上の熱センサ
が受ける総熱量が一定になるように、マザーボートの出
炉スピードをコントロールするとともに、炉の加熱用ヒ
ータの加熱温度をコントロールして、マザーボートを出
炉させるため、マザーボート上のどの位置でも半導体基
板の受ける総熱量が一定となり、熱酸化膜膜厚バラツキ
おび特性のバラツキが小さくなるという効果がある。
第１図は本発明の参考例を示す縦断面図、第２図は本発
明の実施例１を示す縦断面図、第３図は従来例を示す縦
断面図である。 １……炉芯管、２……均熱管 ３……ヒータ、４……ボート ５……ガス導入口、６……半導体基板 ７……マザーボート、８……熱センサ ９……ボートスピードコントローラ 10……温度コントローラ
明の実施例１を示す縦断面図、第３図は従来例を示す縦
断面図である。 １……炉芯管、２……均熱管 ３……ヒータ、４……ボート ５……ガス導入口、６……半導体基板 ７……マザーボート、８……熱センサ ９……ボートスピードコントローラ 10……温度コントローラ
Claims (1)
- 【請求項１】各種ガス雰囲気中で半導体基板上に熱処理
叉は不純物拡散する半導体装置の製造方法において、 炉心管内に半導体基板を入出炉させるマザーボート上に
複数の熱センサを定間隔に設置し、 前記熱センサからの出力に基づいて入炉開始から出炉終
了までのマザーボート上の熱センサが受ける積算熱量を
算出し、 前記マザーボート上の熱センサが受ける総熱量が一定に
なるように、マザーボートの出炉スピードをコントロー
ルするとともに、炉の加熱用ヒータの加熱温度をコント
ロールして、マザーボートを出炉させることを特徴とす
る半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17225088A JP2710343B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17225088A JP2710343B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0222815A JPH0222815A (ja) | 1990-01-25 |
| JP2710343B2 true JP2710343B2 (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=15938407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17225088A Expired - Lifetime JP2710343B2 (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2710343B2 (ja) |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP17225088A patent/JP2710343B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0222815A (ja) | 1990-01-25 |
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