JP2689706B2 - 研磨方法 - Google Patents
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Description
る被研磨物をスクラッチのない鏡面に研磨することがで
きる研磨方法に関する。
ト、鍋、ゴルフヘッド等の曲面や角部を有するステンレ
ススチール製品などに対し、その表面の光沢を非常に重
要視するようになっており、特に、機能面もさることな
がら、装飾面においてもスクラッチが全くないという平
滑面を得ることが強く要求されている。
方法としては、主に油脂性バフ研磨法が採用されている
が、この方法は砥粒の擦過傷が研磨面に入るため、スク
ラッチのない平滑面を得るという要求は十分満足し得る
ものではなかった。
案されているが、二次,三次曲面を有する被研磨物に対
する研磨では、電解電流、電圧等を均一化することは難
しく、このため電解複合研磨法は平面部分に対する研磨
に局限されていた。また、この電解複合研磨法は、装置
も複雑化し、研磨コストも高くなるという問題もあっ
た。
フ研磨法と同様に種々の形状、特に曲面や角部を有する
ステンレススチール製被研磨物を簡単に研磨し得る上、
従来のバフ研磨法では得られなかったスクラッチの全く
ない鏡面研磨面を与えることができ、しかも研磨コスト
の安価な研磨方法を提供することを目的とする。
着目し、その検討を行った。
剤を塗着し、これに被研磨物を圧着して研磨を行うもの
で、この場合仕上げ研磨では通常研磨砥粒によるスクラ
ッチを可及的に少なくするため、砥粒を油脂で被覆した
油脂性研磨剤が使用される。砥粒はバフ面上で固定され
ず(即ち固定砥粒ではない)、ある程度自由に動くが、
上述したように砥粒は油脂によって被覆されており、砥
粒自体の切削と油脂の潤滑力と被研磨物の金属との反応
(金属石鹸の生成)によって平滑化と鏡面化が行われ、
特にこの作用は高温,高圧下によって行われる。この場
合、砥粒の性質、大きさ、成分によって被研磨物に与え
る影響は異なる。一般に粒子の大きい程、また硬度が高
い程、研磨力が大きく、研磨条痕も深い。通常、仕上げ
研磨と呼ばれる鏡面仕上げには、酸化鉄、酸化クロム、
アルミナ等の1μm以下の粒子か、非常に硬度の低い炭
酸カルシウム、非結晶化シリカなどが用いられる。しか
し、高温、高圧下では、砥粒の擦過傷を皆無にすること
は不可能である。実際、本発明者は実験的に油脂に研磨
剤砥粒を添加しない研磨剤を調整してバフ研磨したとこ
ろ、バフと被研磨物との接触によって傷が生成した。即
ち、従来の方法ではスクラッチのない面は得られないこ
とを示した。しかし、バフ研磨そのものの機構は簡便で
あり、設備費も少ないため、このバフ研磨機構を利用す
る鏡面研磨法について本発明者は検討を続けた結果、平
均粒径が0.5μm以下の研磨砥粒を硝酸,リン酸,硝酸
塩から選ばれる化合物でpH1〜5に調整した水に3〜20
重量%濃度で分散させたスラリーをバフに供給して、バ
フ研磨を行うことにより、スクラッチのない鏡面研磨が
可能になることを見い出したものである。
磨物の表面最大粗さRmaxは0.1μmが限度であり、これ
が通常最も優れた加工粗さであるが、この表面は砥粒の
擦過傷を蛍光灯や太陽光線下で目視で判別し得るもので
ある。これに対し、本発明の上述したバフ研磨法の採用
によって得られる被研磨物の表面最大粗さRmaxは0.1μ
mを大幅に下まわり、最高ではその1/3まで下げること
ができるものであり、かかるRmaxが0.1μmより小さい
表面粗さでは、最早蛍光灯、太陽光線下で砥粒の擦過傷
を判断し得ないもので、従って従来のバフ研磨法と比較
して明確に外観上に差がある、スクラッチのない光沢面
が得られるものである。
に油脂と砥粒とバフによる高温,高圧下における脂肪酸
と金属との反応、同条件下による砥粒切削の総合によっ
てなされるが、砥粒の切り込み作用が大きなため、深い
スクラッチを生成する。
高温,高圧にならないバフ回転数100〜1000rpm、周速60
0m/分以下の条件下で研磨するもので、この際スラリー
中の研磨砥粒が研削作用をしながら、該スラリーに含ま
れている硝酸,リン酸又は硝酸アルミニウム等の硝酸塩
が被研磨物の表面と微少な溶解反応を起こすと共に、酸
化膜(不動態膜)の形成によって擦過傷が小さくなるも
のと考えられる。この場合、砥粒で研削された被研磨物
表面は、研削直後の活性面であるため、硝酸,リン酸又
は硝酸塩を含むpH1〜5の比較的マイルドな酸性スラリ
ーで過度のエッチングなく良好に溶解される。
ると共に、該バフに曲面及び角部を有するステンレスス
チール製の被研磨物を押しつけて該被研磨物の表面を研
磨する研磨方法において、上記研磨剤として、平均粒径
が0.5μm以下の研磨砥粒を硝酸、リン酸、硝酸塩から
選ばれる化合物でpH1〜5に調整した水に3〜20重量%
濃度で分散させたスラリーを使用すると共に、バフ回転
数を100〜1000rpmとし、周速600m/分以下で上記被研磨
物をバフ研磨することを特徴とする研磨方法を提供す
る。
にステンレススチールの表面を最終仕上げ研磨として鏡
面研磨するのに有効に採用される。この点から、本発明
の研磨方法の実施に当っては、被研磨物の表面最大粗さ
Rmaxを0.5μm以下に加工したものを用いることが好ま
しい。
に加工する方法としては常法が採用し得、特に制限され
るものではないが、例えばエメリー研磨後、サイザル羽
布を用いる中研磨、綿バフを用いる中間仕上研磨を順次
採用して被研磨物をRmax0.5μm以下に整面することが
できる。
フ研磨するものであるが、本発明においては、バフに供
給塗布する研磨剤として平均粒径が0.5μm以下の研磨
砥粒を硝酸,リン酸,硝酸塩から選ばれる化合物でpH1
〜5に調整した水分散したスラリーを使用する。
アルミナ、酸化クロム、酸化鉄、溶融アルミナ、アラン
ダム、カーボランダム等が用いられるが、これらはその
1種を単独で使用しても2種以上を併用するようにして
もよい。その平均粒径は、上述したように0.5μm以下
であるが、より好ましくは0.3〜0.4μmであり、またス
クラッチ防止の点から1μm以上の粒径のものが含まな
いようにすることが好ましい。更に、研磨砥粒のスラリ
ー中における含有量は3〜20%(重量%、以下同じ)で
あり、より好ましくは3〜10%である。
以上を含有するが、特に硝酸アルミニウムが最も効果的
である。これらの化合物の含有量は0.1〜2%、特に0.2
〜0.5%であることが好ましい。その量が少な過ぎる
と、本発明の目的とする溶解効果が十分発揮されず、多
すぎると過度の溶解が行われ、エッチング作用が大とな
り、外観が損なわれる。なお、硝酸塩としては硝酸アル
ミニウムが好適に用いられるほか、硝酸ニッケル,硝酸
コバルト,硝酸亜鉛等を用いることもできる。また、上
記スラリーはpHを1〜5、好ましくは1〜3に調整され
るが、pH調整は硝酸,リン酸,硝酸アルミニウム等の硝
酸塩を用いて行うものである。
加してもよく、また研磨の均一性、洗浄の目的で界面活
性剤を添加することもできる。界面活性剤としてはポリ
エチレングリコールノニルフェニルエーテル等が好適に
用いられ、その添加量は0.1〜0.2%程度とし得る。
に保持する点から、吸湿性に優れた材質のものがよく、
例えばフェルト、ネル、スポンジ状合成繊維などの多吸
湿性繊維弾性体からなるものを使用することができる。
バフの大きさは被研磨物により適宜選定されるが、通常
10〜250mmである。バフに対するスラリーの供給方法と
しては、自然滴下による方法、スプレーによる塗布方
法、ポンプによる供給方法などが採用される。
公知のバフ研磨法と同様であるが、バフ回転数は低速と
することが好ましい。即ち、従来の青棒等を用いる最終
仕上げバフ研磨法におけるバフの回転数は通常2000〜30
00rpm程度であるが、本発明においては研磨効果等の点
からバフ回転数を100〜1000rpmとし、周速を600m/分以
下とすることが好ましい。なお、バフ回転数が大き過
ぎ、周速が早くなり過ぎると、スラリー状研磨液が飛散
されて多量の研磨剤が必要となる。
し5〜20ml程度である。また、研磨時間は被研磨物によ
って異なるが、通常10〜30秒である。
酸性スラリーを用いるものであるから、該スラリーが他
に飛散しないように装置全体をカバーで覆うようにする
ことが好ましい。また、スラリーはタンクに貯蔵され、
これから上述したような供給方法でバフに供給される
が、バフに供給、含浸されたスラリーは上記タンクに循
環させ、再使用することもできる。
するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではな
い。
Rmax7〜10μm)をエメリー研磨剤を用いて研磨した
後、アルミナを研磨砥粒とするカッターV(上村工業
(株)製)を用いてサイザルバフ研磨し、表面粗さRmax
を0.6〜0.8μmとした。次いで、中間仕上げとしてアル
ミナを研磨砥粒とするトレイナー10(上村工業(株)
製)を用いて綿バフ研磨し、その表面粗さRmaxを0.2〜
0.3μmに仕上げた。
し、回転数400rpm(周速188m/分)で回転させると共
に、下記組成のスラリーをスプレーガンでバフに吹きつ
け、この回転バフに被研磨物を押しつけ、研磨を行っ
た。この場合、1回の研磨におけるスラリーの吹きつけ
量は4mlで、研磨時間は5秒とした。
した。
綿バフ研磨を行い、表面粗さRmaxを0.2〜0.3μmに仕上
げたナイフの柄を従来の最終仕上げ研磨方法に従い、直
径150mmの綿とじバフを使用し、回転数2400rpmで回転さ
せると共に、平均粒径0.5μmの酸化クロムを研磨砥粒
とし、これを脂肪酸、硬化油、ワックスで固めた固形研
磨剤(青棒、GX−1、上村工業(株)製)を1回の研磨
に対し5g塗着し、この回転バフに被研磨物を押しつけて
5秒間研磨を行った。
次いで洗浄し、乾燥した。
柄)の表面粗さを東京精密社製サーフコム1500型を用
い、倍率10万倍で4か所の表面粗さを測定した。結果を
第1表に示す。なお、結果は4か所の平均値である。
表面の最大粗さRmaxは、従来のバフ仕上げ方によって得
られる最大粗さRmax0.1μmを大幅に下まわる約0.05μ
mとなっており、これは蛍光灯や太陽光線下でスクラッ
チを判別し得ない粗さであることが理解される。実際、
目視観察の結果では、実施例のものは研磨条痕の全く無
い光沢のある研磨面となっており、一方、比較例のもの
は研磨条痕が認められ、外観はスクラッチによって白く
感じられ、実施例のものとは歴然とした差が認められ
た。
光沢度の高い鏡面にバフ研磨することができ、また、油
脂を用いないため、研磨表面に汚垢物質を残すことがな
いので、トリクロロエチレン等による有機溶剤洗浄を省
略することができるなど、後処理が簡単化される。
Claims (1)
- 【請求項1】研磨剤が付着したバフを回転させると共
に、該バフに曲面及び角部を有するステンレススチール
製の被研磨物を押しつけて該被研磨物の表面を研磨する
研磨方法において、上記研磨剤として、平均粒径が0.5
μm以下の研磨砥粒を硝酸、リン酸、硝酸塩から選ばれ
る化合物でpH1〜5に調整した水に3〜20重量%濃度で
分散させたスラリーを使用すると共に、バフ回転数を10
0〜1000rpmとし、周速600m/分以下で上記被研磨物をバ
フ研磨することを特徴とする研磨方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2209599A JP2689706B2 (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | 研磨方法 |
GB9117132A GB2247892B (en) | 1990-08-08 | 1991-08-08 | Scratch-free finish buffing |
KR1019910013714A KR100219356B1 (ko) | 1990-08-08 | 1991-08-08 | 연마방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2209599A JP2689706B2 (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | 研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0493168A JPH0493168A (ja) | 1992-03-25 |
JP2689706B2 true JP2689706B2 (ja) | 1997-12-10 |
Family
ID=16575489
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2209599A Expired - Fee Related JP2689706B2 (ja) | 1990-08-08 | 1990-08-08 | 研磨方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2689706B2 (ja) |
KR (1) | KR100219356B1 (ja) |
GB (1) | GB2247892B (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2738291B2 (ja) * | 1994-02-14 | 1998-04-08 | 日本電気株式会社 | 機械・化学研磨方法および研磨装置 |
DE4445333A1 (de) * | 1994-12-19 | 1996-06-20 | Moeller Feinmechanik Gmbh & Co | Glättverfahren |
JP3230986B2 (ja) * | 1995-11-13 | 2001-11-19 | 株式会社東芝 | ポリッシング方法、半導体装置の製造方法及び半導体製造装置。 |
JP3514908B2 (ja) * | 1995-11-13 | 2004-04-05 | 株式会社東芝 | 研磨剤 |
US5968239A (en) * | 1996-11-12 | 1999-10-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Polishing slurry |
WO1998023697A1 (en) * | 1996-11-26 | 1998-06-04 | Cabot Corporation | Composition and method for polishing rigid disks |
US5958288A (en) * | 1996-11-26 | 1999-09-28 | Cabot Corporation | Composition and slurry useful for metal CMP |
US6068787A (en) * | 1996-11-26 | 2000-05-30 | Cabot Corporation | Composition and slurry useful for metal CMP |
CA2323328A1 (en) * | 1996-11-27 | 1998-05-27 | Bbf Yamate Corporation | Barrel polishing apparatus |
US6881674B2 (en) | 1999-12-28 | 2005-04-19 | Intel Corporation | Abrasives for chemical mechanical polishing |
US6383065B1 (en) | 2001-01-22 | 2002-05-07 | Cabot Microelectronics Corporation | Catalytic reactive pad for metal CMP |
KR100458756B1 (ko) * | 2001-06-27 | 2004-12-03 | 제일모직주식회사 | 반도체 소자의 금속배선 연마용 cmp 슬러리 |
KR100557600B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2006-03-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 나이트라이드 cmp용 슬러리 |
KR100522623B1 (ko) * | 2002-09-30 | 2005-11-09 | 송순옥 | 양식기의 재생방법 |
US20080283502A1 (en) * | 2006-05-26 | 2008-11-20 | Kevin Moeggenborg | Compositions, methods and systems for polishing aluminum oxide and aluminum oxynitride substrates |
CN104903052A (zh) * | 2013-01-04 | 2015-09-09 | 福吉米株式会社 | 合金材料的研磨方法和合金材料的制造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4383857A (en) * | 1980-05-28 | 1983-05-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Attack polish for nickel-base alloys and stainless steels |
JPS62236669A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Kobe Steel Ltd | 研磨剤 |
JPH01257563A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-13 | Showa Denko Kk | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
JPH0284485A (ja) * | 1988-09-20 | 1990-03-26 | Showa Denko Kk | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
JPH06225187A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-12 | Sony Corp | 撮像装置 |
-
1990
- 1990-08-08 JP JP2209599A patent/JP2689706B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-08-08 KR KR1019910013714A patent/KR100219356B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-08-08 GB GB9117132A patent/GB2247892B/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB9117132D0 (en) | 1991-09-25 |
JPH0493168A (ja) | 1992-03-25 |
GB2247892A (en) | 1992-03-18 |
GB2247892B (en) | 1994-08-17 |
KR920004087A (ko) | 1992-03-27 |
KR100219356B1 (ko) | 1999-09-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080829 Year of fee payment: 11 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090829 Year of fee payment: 12 |
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