JP2663865B2 - レーザ装置 - Google Patents

レーザ装置

Info

Publication number
JP2663865B2
JP2663865B2 JP6134911A JP13491194A JP2663865B2 JP 2663865 B2 JP2663865 B2 JP 2663865B2 JP 6134911 A JP6134911 A JP 6134911A JP 13491194 A JP13491194 A JP 13491194A JP 2663865 B2 JP2663865 B2 JP 2663865B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
shutter means
mirror
reflected
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP6134911A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07314165A (ja
Inventor
圭司 沖野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP6134911A priority Critical patent/JP2663865B2/ja
Publication of JPH07314165A publication Critical patent/JPH07314165A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2663865B2 publication Critical patent/JP2663865B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光出力を測定し
ながらシャッタの開閉により被加工物を断続的に加工す
るレーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シャッタの開閉操作によってレー
ザ光出力を間欠的に遮断し被加工物を加工するこの種の
レーザ装置としては図2に示す如く構成されたものが知
られている。これを概略説明すると、1はレーザ発振器
で、このレーザ発振器1から出射したレーザ光Lは、ビ
ームスプリッター等の部分反射ミラー2によって反射ビ
ームLR と透過ビームLT とに分割される。反射ビーム
LR は光センサ3によって受光されて電気信号に変換さ
れ、この電気信号が出力表示回路4に出力表示されると
共に、レーザ光出力の安定化を図るためレーザ発振器1
の出力値制御に用いられる。一方、透過ビームLT は、
シャッタ手段5および光学系6を経て被加工物7を間欠
的に照射加工する。つまり、透過ビームLT は、シャッ
タ手段5により光学系6への入射を制御されるもので、
シャッタ手段5が開いている時のみ光学系6に入射し、
被加工物7を加工する。
【0003】この他、例えば特開昭58−204585
号公報に開示されたレーザ装置が知られている。このレ
ーザ装置は、上記の部分反射ミラー2を省略し、シャッ
タに当たって反射した反射ビームを出力センサによって
検出し、この出力値でレーザ管を制御するフィードバッ
ク手段を設けたものである。このようなレーザ装置にお
いては、シャッタ手段が反射器としての機能を有してい
るので、ビームスプリッタを省略することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記したように図2に
示した従来のレーザ装置においては、レーザ光出力の一
部を光センサ3で検出し、その出力値を出力表示回路4
で表示すると共に、レーザ発振器にフィードバックする
ことによりレーザ光出力の安定化を図っている。しかし
ながら、実際に加工を行なった場合、光学系6や被加工
物7に当たった透過ビームLT の一部は、反射して同一
経路を戻るため、シャッタ手段5が閉じている場合と、
シャッタ手段が開いている場合とでは、光センサ3に入
射するレーザ光の値が異なる。すなわち、シャッタ手段
5が開いている場合、光学系6および被加工物7に当た
って反射し戻ってくる戻り光は、レーザ発振器1に戻
り、再度レーザ発振器1の反射ミラー9で反射し、光セ
ンサ3に入射するため、閉じている場合に部分反射ミラ
ー2で反射し光センサ3に入射するレーザ光の光量とが
異なる。その結果、正確な出力制御ができず、安定した
出力を得ることができないという問題があった。また、
特開昭58−204585号公報に開示されたレーザ装
置は、シャッタ手段5が閉じている非加工時しかレーザ
光の光量を検出することができず、加工時の光量をモニ
タすることができないという問題があった。
【0005】したがって、本発明は上記したような従来
の問題点に鑑みてされたもので、その目的とするところ
は、光センサに入射するレーザ光の光量をシャッタの開
閉状態に関係なく略一定にすることができるようにした
レーザ装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、レーザ光源から出射したレーザ光の一部を
反射するミラーと、前記ミラーにより反射された反射ビ
ームの光量を検出する光センサと、前記ミラーを透過し
た透過ビームを間欠的に遮断するシャッタ手段を有し、
シャッタ手段が開いている時、前記透過ビームを光学系
を経て被加工物に入射させ加工を行うレーザ装置におい
て、前記シャッタ手段に光学系と被加工物による反射率
と同等の反射率を有しレーザー光を垂直反射する光学部
品を備えたことを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明において、光学部品は、シャッタ手段が
閉じている時、ミラーを透過した透過ビームの一部を反
射し、光センサに入射させる。この光学部品の反射率を
光学系と被加工物による反射率と略等しくしておくと、
光学部品による反射光と、シャッタ手段が開いている
時、光学系と被加工物により反射し光センサに入射する
反射光の光量とを略同一にすることができる。
【0008】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
詳細に説明する。図1は本発明に係るレーザ装置の一実
施例を示す概略構成図である。なお、図中図2と同一構
成部品のものに対しては同一符号をもって示し、その説
明を省略する。同図において、本実施例はシャッタ5の
レーザ発振器1側面に部分反射ミラー2を透過した透過
ビームLT の一部を略垂直に、つまり光軸方向に反射す
る光学部品としての反射ミラー10を配設したものであ
る。その他の構成は図2に示した従来装置と同様であ
る。
【0009】このような構成において、レーザ発振器1
から出射したレーザ光Lは、部分反射ミラー2によって
1%程度反射されて反射ビームLR となり、残り99%
が透過ビームLT となる。反射ビームLR は光センサ3
によって受光されて電気信号に変換され、出力表示回路
4によってレーザ光の相対出力値を表示する。また、レ
ーザ発振器1の出力制御のためフィードバックされる。
透過ビームLT は、シャッタ手段5が開いている時、光
学系6に入射し、被加工物7を照射加工する。この時、
透過ビームLT の10%程度が光学系6および被加工物
7に当たって反射することにより戻り光となり、元きた
経路を通ってレーザ発振器1に戻る。そして、この戻り
光はレーザ発振器1の反射ミラー9に当たって反射され
た後、部分反射ミラー2により反射されて光センサ3に
入射し、外乱を与える。そこで、この外乱の量を予め測
定し、同じ反射率(10%)の反射ミラー10をシャッ
タ手段5に配設しておくと、シャッタ手段5が閉じた状
態の時でも、レーザ加工を行っている時と同じ光量のレ
ーザ光を反射ミラー10によって光センサ3に入射させ
ることができる。したがって、光センサ3の出力値は、
シャッタ手段5の開閉状態に拘らず常に同じ値となり、
レーザ出力を高精度に制御することができる。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、レーザ光
源から出射したレーザ光の一部を反射するミラーと、前
記ミラーにより反射された反射ビームの光量を検出する
光センサと、前記ミラーを透過した透過ビームを間欠的
に遮断するシャッタ手段を有し、シャッタ手段が開いて
いる時、前記透過ビームを光学系を経て被加工物に入射
させ加工を行うレーザ装置において、前記シャッタ手段
に、光学系と被加工物による反射率と同等の反射率を有
レーザー光を垂直反射する光学部品を設けたので、シ
ャッタ手段の開閉状態に拘らず、光センサに入射するレ
ーザ光の量を略同じ値とすることができる。したがっ
て、レーザ出力を安定に制御することができ、加工品質
を向上させ、生産性に寄与するという効果を有する。ま
た、光学部品として、反射率が光学系と被加工物におけ
る反射率と略同じ反射率の反射ミラーを配設するだけで
よいので、構造が簡単で、従来製品に対しても簡単に改
造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係るレーザ装置の一実施例を示す概
略構成図である。
【図2】 レーザ装置の従来例を示す概略構成図であ
る。
【符号の説明】
1…レーザ発振器、2…部分反射ミラー、3…光セン
サ、4…出力表示装置、5…シャッタ手段、6…光学
系、7…被加工物、10…反射ミラー。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光源から出射したレーザ光の一部
    を反射するミラーと、前記ミラーにより反射された反射
    ビームの光量を検出する光センサと、前記ミラーを透過
    した透過ビームを間欠的に遮断するシャッタ手段を有
    し、シャッタ手段が開いている時、前記透過ビームを光
    学系を経て被加工物に入射させ加工を行うレーザ装置に
    おいて、 前記シャッタ手段に、光学系と被加工物による反射率と
    同等の反射率を有しレーザー光を垂直反射する光学部品
    を備えたことを特徴とするレーザ装置。
JP6134911A 1994-05-26 1994-05-26 レーザ装置 Expired - Fee Related JP2663865B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6134911A JP2663865B2 (ja) 1994-05-26 1994-05-26 レーザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6134911A JP2663865B2 (ja) 1994-05-26 1994-05-26 レーザ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07314165A JPH07314165A (ja) 1995-12-05
JP2663865B2 true JP2663865B2 (ja) 1997-10-15

Family

ID=15139417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6134911A Expired - Fee Related JP2663865B2 (ja) 1994-05-26 1994-05-26 レーザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2663865B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5464972B2 (ja) * 2009-10-29 2014-04-09 住友重機械工業株式会社 レーザ加工装置
JP2013128966A (ja) * 2011-12-22 2013-07-04 Sumitomo Chemical Co Ltd レーザー光照射装置、フィルム切断装置、レーザー光照射方法及びフィルム切断方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH07314165A (ja) 1995-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4379633A (en) Apparatus for maintaining adjustment of coincidence and relative phase relationship of light beams in an interferometer
JPH0545230A (ja) 光パルス幅測定装置及びそれを用いた光パルス幅測定方法
JP2663865B2 (ja) レーザ装置
JPS61247944A (ja) 反射率測定装置
JP2000357835A (ja) レーザ発振器
JPS6177388A (ja) 半導体レ−ザの共振端面反射率測定装置
JP2965731B2 (ja) 赤外線式測定装置
GB2095505A (en) Automatic focusing
JP2809106B2 (ja) レーザ加工装置における加工状態監視装置
JPH05302825A (ja) アライメント方法とその装置
JP2837748B2 (ja) レーザ加工機のピアス完了検出装置
JP2971003B2 (ja) レーザリペア装置のレンズの汚れを検出する装置
JP2577764B2 (ja) レーザ装置
JPH04256382A (ja) レーザ加工装置
JPH0411315B2 (ja)
JPH0915153A (ja) 透過率測定装置
JPH11121834A (ja) レーザパワーモニタ装置
JPH04371380A (ja) レーザ加工装置
JPH1038688A (ja) 分光光度計
JPH04120780A (ja) レーザ発振器の光軸調整装置
JP2004198244A (ja) 透過率測定装置および絶対反射率測定装置
JPH074668B2 (ja) 溶接位置検出装置
JPH07128135A (ja) 光学的測定装置
JPH06273330A (ja) 濁度測定装置
JPH03115910A (ja) 走査型光学式寸法測定装置

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees