JPH04256382A - レーザ加工装置 - Google Patents
レーザ加工装置Info
- Publication number
- JPH04256382A JPH04256382A JP3017550A JP1755091A JPH04256382A JP H04256382 A JPH04256382 A JP H04256382A JP 3017550 A JP3017550 A JP 3017550A JP 1755091 A JP1755091 A JP 1755091A JP H04256382 A JPH04256382 A JP H04256382A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- output
- laser beam
- detection element
- resonator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000003754 machining Methods 0.000 title abstract 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガルバノミラーを使用
したレーザ加工装置に関する。
したレーザ加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ共振器の出力ビームをガルバノミ
ラーを使用して、被加工物を加工する場合、加工条件を
一定にするためには、レーザビーム出力を一定に安定さ
せる必要がある。このため、従来はレーザ共振器のリア
ミラーの裏側にレーザ出力検知素子を設置し、リアミラ
ーを透過した微小なレーザビーム出力をモニタし、その
信号をレーザ共振器の電源等に帰還しレーザビーム出力
を制御していた。
ラーを使用して、被加工物を加工する場合、加工条件を
一定にするためには、レーザビーム出力を一定に安定さ
せる必要がある。このため、従来はレーザ共振器のリア
ミラーの裏側にレーザ出力検知素子を設置し、リアミラ
ーを透過した微小なレーザビーム出力をモニタし、その
信号をレーザ共振器の電源等に帰還しレーザビーム出力
を制御していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらガルバノ
ミラーを使用したレーザ加工装置において、レーザビー
ムはレーザ共振器から出力されたビームをそのままの形
でガルバノミラーに入射することはほとんどなく、通常
はコリメータ，光ファイバ，反射ミラー，位相板などの
何らかの光学部品によってレーザビームを形成した後に
ガルバノミラーに入射している。このため、ガルバノミ
ラーに入射されるレーザビーム出力と、レーザ共振器か
ら出力されるビーム出力とは必ずしも相関関係を有する
とは限らない。また、レーザ共振器からガルバノミラー
までの途中の光学部品のアライメントが振動などで変化
する場合や、偏光成分を有するレーザビームの場合はガ
ルバノミラーに入射するレーザビーム出力と、レーザ共
振器から出力されたレーザビーム出力とは相関関係を有
することはない。
ミラーを使用したレーザ加工装置において、レーザビー
ムはレーザ共振器から出力されたビームをそのままの形
でガルバノミラーに入射することはほとんどなく、通常
はコリメータ，光ファイバ，反射ミラー，位相板などの
何らかの光学部品によってレーザビームを形成した後に
ガルバノミラーに入射している。このため、ガルバノミ
ラーに入射されるレーザビーム出力と、レーザ共振器か
ら出力されるビーム出力とは必ずしも相関関係を有する
とは限らない。また、レーザ共振器からガルバノミラー
までの途中の光学部品のアライメントが振動などで変化
する場合や、偏光成分を有するレーザビームの場合はガ
ルバノミラーに入射するレーザビーム出力と、レーザ共
振器から出力されたレーザビーム出力とは相関関係を有
することはない。
【０００４】すなわち、従来の方法のように共振器のリ
アミラーの裏側のレーザ出力をモニタした場合、レーザ
共振器からの直接の出力は制御可能であるが、被加工物
に照射される加工レーザビームの出力は正確にモニタし
ているとは言えず、加工条件がレーザビーム出力に大き
く依存する加工においても、加工レーザビーム出力を正
確に制御できないという問題があった。
アミラーの裏側のレーザ出力をモニタした場合、レーザ
共振器からの直接の出力は制御可能であるが、被加工物
に照射される加工レーザビームの出力は正確にモニタし
ているとは言えず、加工条件がレーザビーム出力に大き
く依存する加工においても、加工レーザビーム出力を正
確に制御できないという問題があった。
【０００５】本発明は上記問題に鑑み、ガルバノミラー
を使用したレーザ加工装置において、レーザ共振器とガ
ルバノミラーの間に介在する光学系の影響を受けること
なく、被加工物に照射される加工レーザビーム出力を正
確に制御することを目的とする。
を使用したレーザ加工装置において、レーザ共振器とガ
ルバノミラーの間に介在する光学系の影響を受けること
なく、被加工物に照射される加工レーザビーム出力を正
確に制御することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、ガルバノミラーを使用したレーザ加工装置
において、ガルバノミラーの裏面にレーザ出力検知素子
を設置し、この出力検知素子の出力信号によりレーザ共
振器の出力を制御するようにしたものである。
に本発明は、ガルバノミラーを使用したレーザ加工装置
において、ガルバノミラーの裏面にレーザ出力検知素子
を設置し、この出力検知素子の出力信号によりレーザ共
振器の出力を制御するようにしたものである。
【０００７】
【作用】上記の手段によれば、被加工物に照射される加
工レーザビーム出力に最も近似のレーザ出力をモニタし
、レーザ出力を制御することが可能となり、被加工物に
照射される加工レーザビーム出力を正確に制御すること
により、安定した加工条件を得ることができる。
工レーザビーム出力に最も近似のレーザ出力をモニタし
、レーザ出力を制御することが可能となり、被加工物に
照射される加工レーザビーム出力を正確に制御すること
により、安定した加工条件を得ることができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の一実施例におけるガルバノミ
ラーを使用したレーザ加工装置について、図面を参照し
ながら説明する。図１は、ガルバノミラーを使用したレ
ーザ加工装置の構成を示す。図１において、１はレーザ
共振器、２はレーザ共振器１の出力制御機能付電源、３
はレーザ共振器１から出力されるレーザビーム、４は被
加工物、５はレーザビーム３を被加工物４上で走査させ
るためのガルバノミラー、６はレーザ共振器１とガルバ
ノミラー５との間にあるビーム形成光学系、７はガルバ
ノミラー５の反射面の裏面に取り付けられた出力検知素
子、８はガルバノミラー５で折り返されたレーザビーム
３を被加工物４上で集光させるためのｆθレンズである
。
ラーを使用したレーザ加工装置について、図面を参照し
ながら説明する。図１は、ガルバノミラーを使用したレ
ーザ加工装置の構成を示す。図１において、１はレーザ
共振器、２はレーザ共振器１の出力制御機能付電源、３
はレーザ共振器１から出力されるレーザビーム、４は被
加工物、５はレーザビーム３を被加工物４上で走査させ
るためのガルバノミラー、６はレーザ共振器１とガルバ
ノミラー５との間にあるビーム形成光学系、７はガルバ
ノミラー５の反射面の裏面に取り付けられた出力検知素
子、８はガルバノミラー５で折り返されたレーザビーム
３を被加工物４上で集光させるためのｆθレンズである
。
【０００９】レーザ共振器１から出力されたレーザビー
ム３は、ビーム形成光学系６により特定のビームプロフ
ァイルに形成された後、ガルバノミラー５により折り曲
げられ、ｆθレンズ８を通して被加工物４上に集光され
る。出力検知素子７は、ガルバノミラー５の透過ビーム
出力を検知し、レーザ共振器１の出力制御機能付電源２
に信号を帰還し、さらに、出力制御機能付電源２は出力
検知素子７の信号によってレーザ共振器１のレーザビー
ム３の出力を制御する。
ム３は、ビーム形成光学系６により特定のビームプロフ
ァイルに形成された後、ガルバノミラー５により折り曲
げられ、ｆθレンズ８を通して被加工物４上に集光され
る。出力検知素子７は、ガルバノミラー５の透過ビーム
出力を検知し、レーザ共振器１の出力制御機能付電源２
に信号を帰還し、さらに、出力制御機能付電源２は出力
検知素子７の信号によってレーザ共振器１のレーザビー
ム３の出力を制御する。
【００１０】出力検知素子７を用いた場合は、被加工物
４上での出力は、ガルバノミラー５の透過ビームと反射
ビームとの校正誤差、およびｆθレンズ８の入射ビーム
と透過ビームとの校正誤差のみが関係し、ビーム形成光
学系６の校正誤差は除かれ、実用上問題のない安定した
レーザ出力を得ることができる。
４上での出力は、ガルバノミラー５の透過ビームと反射
ビームとの校正誤差、およびｆθレンズ８の入射ビーム
と透過ビームとの校正誤差のみが関係し、ビーム形成光
学系６の校正誤差は除かれ、実用上問題のない安定した
レーザ出力を得ることができる。
【００１１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、ガルバノミラーを使用したレーザ加工装置にお
いて、被加工物に照射される加工レーザビーム出力を正
確に制御することにより、安定した加工条件が得られる
レーザ加工装置を実現することができる。
よれば、ガルバノミラーを使用したレーザ加工装置にお
いて、被加工物に照射される加工レーザビーム出力を正
確に制御することにより、安定した加工条件が得られる
レーザ加工装置を実現することができる。
【図１】本発明のレーザ加工装置の一実施例の構成図
１ レーザ共振器
３ レーザビーム
５ ガルバノミラー
７ 出力検知素子
Claims (1)
- 【請求項１】ガルバノミラーを使用したレーザ加工装置
において、ガルバノミラーの裏面にレーザの出力検知素
子を設置し、この出力検知素子によりガルバノミラーを
透過するレーザビームを測定し、レーザ共振器の出力を
制御することを特徴とするレーザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3017550A JPH04256382A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | レーザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3017550A JPH04256382A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | レーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04256382A true JPH04256382A (ja) | 1992-09-11 |
Family
ID=11947027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3017550A Pending JPH04256382A (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | レーザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04256382A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002086585A1 (en) * | 2001-03-19 | 2002-10-31 | The Research Foundation Of State University Of New York | Mems-based optical switch wherein the mirrors comprise an optical sensor |
| JP2003158086A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-05-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザー処理装置 |
| US7682949B2 (en) | 2001-09-10 | 2010-03-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser treatment device, laser treatment method, and semiconductor device fabrication method |
| JP2010185162A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-08-26 | Univ Of Yamanashi | 極細フィラメントの多錘延伸装置 |
-
1991
- 1991-02-08 JP JP3017550A patent/JPH04256382A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002086585A1 (en) * | 2001-03-19 | 2002-10-31 | The Research Foundation Of State University Of New York | Mems-based optical switch wherein the mirrors comprise an optical sensor |
| US6701036B2 (en) | 2001-03-19 | 2004-03-02 | The Research Foundation Of State University Of New York | Mirror, optical switch, and method for redirecting an optical signal |
| JP2003158086A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-05-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | レーザー処理装置 |
| US7682949B2 (en) | 2001-09-10 | 2010-03-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser treatment device, laser treatment method, and semiconductor device fabrication method |
| JP2010185162A (ja) * | 2009-01-16 | 2010-08-26 | Univ Of Yamanashi | 極細フィラメントの多錘延伸装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5463202A (en) | Laser machining apparatus and method | |
| CA1176879A (en) | Single facet wobble free scanner | |
| US4379633A (en) | Apparatus for maintaining adjustment of coincidence and relative phase relationship of light beams in an interferometer | |
| US4900940A (en) | Optical system for measuring a surface profile of an object using a converged, inclined light beam and movable converging lens | |
| KR910005530A (ko) | 레이저광의 안정화 방법 및 장치 | |
| US5202740A (en) | Method of and device for determining the position of a surface | |
| JPH04256382A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPS62191812A (ja) | 光学式結像装置及びマスクパタ−ン結像装置 | |
| US5170217A (en) | Object measuring apparatus using lightwave interference | |
| DE69622721D1 (de) | Ellipsometer mit hoher räumlicher auflösung | |
| KR950006413B1 (ko) | 광 주사시스템 | |
| JPH02165886A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPS60424A (ja) | 光ビ−ム走査装置における波長制御方式 | |
| CA2351998A1 (en) | Wavelength monitor apparatus and wavelength stabilizing light source | |
| CN213956280U (zh) | 测量激光切割头光学元件装配平行度装置 | |
| JPS5958885A (ja) | ビ−ム光出力モニタ装置 | |
| JPS61223604A (ja) | ギヤツプ測定装置 | |
| JPH06235873A (ja) | 走査光学装置 | |
| KR970003953Y1 (ko) | 반도체 노광장비의 포커싱 장치 | |
| JPH0720094A (ja) | 超音波振動測定装置 | |
| JPS56103303A (en) | Optical measuring method for micro-gap | |
| SU1415072A1 (ru) | Интерференционный способ измерени малых ультразвуковых сигналов и интерференционное устройство дл его осуществлени | |
| JPS6484104A (en) | Laser interference length measuring machine | |
| JPH02129978A (ja) | レーザ発振装置 | |
| JPH04190991A (ja) | レーザ加工装置 |