JPS60424A - 光ビ−ム走査装置における波長制御方式 - Google Patents
光ビ−ム走査装置における波長制御方式Info
- Publication number
- JPS60424A JPS60424A JP58108808A JP10880883A JPS60424A JP S60424 A JPS60424 A JP S60424A JP 58108808 A JP58108808 A JP 58108808A JP 10880883 A JP10880883 A JP 10880883A JP S60424 A JPS60424 A JP S60424A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- light
- light source
- zero
- beam scanning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/068—Stabilisation of laser output parameters
- H01S5/0683—Stabilisation of laser output parameters by monitoring the optical output parameters
- H01S5/0687—Stabilising the frequency of the laser
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ１発明の技術分野
本発明は光ビーム走査。装置に係り、とくにホログラム
等の回折格子を偏向素子として用いた光ビーム走査装置
に関する。
等の回折格子を偏向素子として用いた光ビーム走査装置
に関する。
（ｂ）技術の背景
近年、レーザプリンタあるいはＰ ＯＳ （Ｐａｉｎｔ
−ｏｆ−５ａｌｅ ）ターミナルにおけるバーコード読
取り装置等においてホログラムを用いた光ビーム走査方
式が採用されている。
−ｏｆ−５ａｌｅ ）ターミナルにおけるバーコード読
取り装置等においてホログラムを用いた光ビーム走査方
式が採用されている。
この光ビーム走査方式は、従来の例えば回転多面鏡ある
いはガルバノミラ−を用いる方式に比して光学系が簡単
となり、また比較、的広い走査幅を得られ、かつ高速走
査が可能であり、さらに回転多面鏡において要求される
ような高精度の回転機構を必要としない等の長所を有し
ている。
いはガルバノミラ−を用いる方式に比して光学系が簡単
となり、また比較、的広い走査幅を得られ、かつ高速走
査が可能であり、さらに回転多面鏡において要求される
ような高精度の回転機構を必要としない等の長所を有し
ている。
（Ｃ）従来技術と問題点
ところで、上記のようなホログラムを用いた光ビーム走
査装置における光源として、従来はガスレーザが主に用
いられていたのであるが、最近は半導体レーザがこれに
代わりつつある。しかしながら、該半導体レーザはその
動作温度あるいは動作電流によってその出力光の波長が
変化するために、回折型の偏向素子を用いた光ビーム走
査装置においては該出力光波長の変化にともなって回折
方向が変り、走査面における走査位置が変動する。
査装置における光源として、従来はガスレーザが主に用
いられていたのであるが、最近は半導体レーザがこれに
代わりつつある。しかしながら、該半導体レーザはその
動作温度あるいは動作電流によってその出力光の波長が
変化するために、回折型の偏向素子を用いた光ビーム走
査装置においては該出力光波長の変化にともなって回折
方向が変り、走査面における走査位置が変動する。
このような波長変動が生じた場合には、該半導体レーザ
の動作温度あるいは動作電流値を制御することによって
波長変動をなくすことが可能であるが、従来は走査光ビ
ームそのものを取出して波長変動を検知することが行わ
れていた。すなわち走査の一周期の前あるいは後のある
期間に走査光ビームが光センサ等から成る波長変動検出
用の手段に入射するような構成とし、次周期以降の走査
周期における波長を修正するような制御方式が採られて
いた。
の動作温度あるいは動作電流値を制御することによって
波長変動をなくすことが可能であるが、従来は走査光ビ
ームそのものを取出して波長変動を検知することが行わ
れていた。すなわち走査の一周期の前あるいは後のある
期間に走査光ビームが光センサ等から成る波長変動検出
用の手段に入射するような構成とし、次周期以降の走査
周期における波長を修正するような制御方式が採られて
いた。
上記従来の方式では、波長変動制御は少なくとも一周期
遅れとなるために適時に制御ができず、また該波長変動
検出用のセンサあるいは反射鏡その他から成る手段を光
ビーム走査線の延長上に設けなければならず、しかも該
検出手段は波長変動にともなう光ビーム入射位置変動分
に対処可能な検出面積を有する必要があるために、装置
に余分のスペースを必要とする等の欠点があった。
遅れとなるために適時に制御ができず、また該波長変動
検出用のセンサあるいは反射鏡その他から成る手段を光
ビーム走査線の延長上に設けなければならず、しかも該
検出手段は波長変動にともなう光ビーム入射位置変動分
に対処可能な検出面積を有する必要があるために、装置
に余分のスペースを必要とする等の欠点があった。
（ｄ）発明の目的
本発明は、回折型偏向素子を用いる光ビーム走査装置に
おいて、走査光ビームの波長変動をＯ次回折光を用いて
監視することにより、装置に余分のスペースを設けるこ
とな（、かつ適時に波長安定化制御を可能とすることを
目的とする。
おいて、走査光ビームの波長変動をＯ次回折光を用いて
監視することにより、装置に余分のスペースを設けるこ
とな（、かつ適時に波長安定化制御を可能とすることを
目的とする。
（ｅ）発明の構成
本発明は、回折型偏向素子を用いた光ビーム走査装置に
おいて、該偏向素子の０次透過光の波長変動を検出する
手段を設け、該変動量がゼロとなるように光源駆動条件
を制衝することを特徴とし、該波長変動検出のための具
体的手段として、それぞれの透過率の極大が基準波長を
中心としてその両側に位置する２つのフィルタを該０次
透過光の光路上に設（プ、該２つのフィルタを透過した
該０次透過光をそれぞれに対応する光検知で検出し、該
検知器出力が等しくなるように光源駆動条件を制御する
か、あるいは第二の偏向素子を該０次透過光の光路上に
設け、該０次透過光の該第二の偏向素子による偏向方向
の基準方向に対するずれがゼロとなるように光源駆動条
件を制御するかのいずれかの方式を用いる。
おいて、該偏向素子の０次透過光の波長変動を検出する
手段を設け、該変動量がゼロとなるように光源駆動条件
を制衝することを特徴とし、該波長変動検出のための具
体的手段として、それぞれの透過率の極大が基準波長を
中心としてその両側に位置する２つのフィルタを該０次
透過光の光路上に設（プ、該２つのフィルタを透過した
該０次透過光をそれぞれに対応する光検知で検出し、該
検知器出力が等しくなるように光源駆動条件を制御する
か、あるいは第二の偏向素子を該０次透過光の光路上に
設け、該０次透過光の該第二の偏向素子による偏向方向
の基準方向に対するずれがゼロとなるように光源駆動条
件を制御するかのいずれかの方式を用いる。
（「）発明の実施例
以下に本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第１図は光ビーム走査装置における波長制御のための本
発明に係る方式の機能ブロック図を示し、光源制御部１
によってその出力光の波長が制御される、例えば半導体
レーザのような光源２から出力された光ビーム３は、例
えばホログラムのような回折型の偏向素子４に入射する
。通常、偏向素子４はその１次回折光強度が最も大きく
なるように回折条件が設定されている。同図において５
は該１次回折光を示し、偏向素子４の運動によって該１
次回折光は１平面内を移動する。したがって、紙面に対
する垂線を含む平面上に該１次回折光を投射すると、該
投射光は直線上を走査することになる。
発明に係る方式の機能ブロック図を示し、光源制御部１
によってその出力光の波長が制御される、例えば半導体
レーザのような光源２から出力された光ビーム３は、例
えばホログラムのような回折型の偏向素子４に入射する
。通常、偏向素子４はその１次回折光強度が最も大きく
なるように回折条件が設定されている。同図において５
は該１次回折光を示し、偏向素子４の運動によって該１
次回折光は１平面内を移動する。したがって、紙面に対
する垂線を含む平面上に該１次回折光を投射すると、該
投射光は直線上を走査することになる。
一方、偏向素子４によって回折されないＯ次回折光６、
すなわち透過光は偏向素子４を直進して波長変動検出部
７に入射し、ここで後述するようにして基準値に対する
ずれ信号８ （波長変化の方向および大きさ）がめられ
、該ずれ信号８に応じた制御信号が制御信号発生部９か
ら前記光源制御部１にフィードバックされ、光源制御部
１はずれ信号８がゼロになるように光源２の波長を制御
する。
すなわち透過光は偏向素子４を直進して波長変動検出部
７に入射し、ここで後述するようにして基準値に対する
ずれ信号８ （波長変化の方向および大きさ）がめられ
、該ずれ信号８に応じた制御信号が制御信号発生部９か
ら前記光源制御部１にフィードバックされ、光源制御部
１はずれ信号８がゼロになるように光源２の波長を制御
する。
ところで、光源２として半導体レーザを用いた場合、前
記のようにその動作輝度あるいは動作電流によって出力
光の波長が変化し、これによって１次回折光の出射方向
が変り、前記の直線上の走査が保たれな（なる。一方、
０次透過光の出射方向はこの波長変動の影響を受けない
。すなわち、光ビーム３の光軸上に波長変動検出のため
の手段を固定して設けておくことによって常時光ビーム
３の波長変動を監視することができるのである。
記のようにその動作輝度あるいは動作電流によって出力
光の波長が変化し、これによって１次回折光の出射方向
が変り、前記の直線上の走査が保たれな（なる。一方、
０次透過光の出射方向はこの波長変動の影響を受けない
。すなわち、光ビーム３の光軸上に波長変動検出のため
の手段を固定して設けておくことによって常時光ビーム
３の波長変動を監視することができるのである。
また、該波長変動検出のための手段は光ビーム３の光路
上のいずれかにあればよく、従来の方式におりるように
走査線上に、しかも波長変動にともなう入射位置変動に
対処可能な大きさの検出手段を設ける必要がなくなるた
めに、装置内に該手段を設けるためのスペースを選ぶ自
由度が高くなり、装置の小型化に対する障害となるおそ
れがない。
上のいずれかにあればよく、従来の方式におりるように
走査線上に、しかも波長変動にともなう入射位置変動に
対処可能な大きさの検出手段を設ける必要がなくなるた
めに、装置内に該手段を設けるためのスペースを選ぶ自
由度が高くなり、装置の小型化に対する障害となるおそ
れがない。
第２図は前記波長変動検出部７の構成の一例であって、
０次透過光６は、例えばハーフミラ−のようなビームス
プリンタ１０によって２つの光ビームに分離され、異な
る分光透過率分布を有する２つのフィルタ１１および１
２をそれぞれ透過し、光センサ１３および１４にそれぞ
れ入射する。フィルタ１１および１２の分光透過率分布
は第３図に示すように、光源２の出力光の基準波長をλ
Ｏとして、フィルタ１１の透過率の極大は該λＯより短
い波長／！１に、一方、フィルタ１２の透過率の極大は
該λＯより長第３図には波長λ０におけるフィルタ１１
および１２の透過率が等しい、すなわち両フィルタの透
過率分布曲線が波長λ０において交差している例を示し
であるが、両フィルタの透過率分布曲線が交差する波長
が該λ０と異なる場合には、例えば光センサ１３および
１４の感度を調整することによって、フィルタ１１と光
センサ１３およびフィルタ１２と光センサ１４から成る
それぞれの組合せにおける総合的分光感度分布曲線が波
長λ０で交差するようにすればよい。
０次透過光６は、例えばハーフミラ−のようなビームス
プリンタ１０によって２つの光ビームに分離され、異な
る分光透過率分布を有する２つのフィルタ１１および１
２をそれぞれ透過し、光センサ１３および１４にそれぞ
れ入射する。フィルタ１１および１２の分光透過率分布
は第３図に示すように、光源２の出力光の基準波長をλ
Ｏとして、フィルタ１１の透過率の極大は該λＯより短
い波長／！１に、一方、フィルタ１２の透過率の極大は
該λＯより長第３図には波長λ０におけるフィルタ１１
および１２の透過率が等しい、すなわち両フィルタの透
過率分布曲線が波長λ０において交差している例を示し
であるが、両フィルタの透過率分布曲線が交差する波長
が該λ０と異なる場合には、例えば光センサ１３および
１４の感度を調整することによって、フィルタ１１と光
センサ１３およびフィルタ１２と光センサ１４から成る
それぞれの組合せにおける総合的分光感度分布曲線が波
長λ０で交差するようにすればよい。
いま、光源２の出力光の波長が基準波長λ０からΔλ
（但しλ１−λ０≦Δλ≦λ２−λ０）の変動を生じた
場合、光セン号１３および１４の出力、すなわち前記ず
れ信号８が制御信号発生部９に人力して比較され、例え
ば光センサ１３の出力が光センサ１４の出力より大きい
ことから、該出力光波長が基準波長λ０より短波長側に
ずれていると判定された場合には、光源制御部１は光源
２の出力光波長を長波長側に変化させるように、該光源
２の動作電流を増加させるか、あるいは光源２の動作温
度を上昇させるように恒温槽（図示省略）を制御し、一
方、光センサ１３の出力が光センサ１４の出力より小さ
いことから、光源２の出力光波長が基準波長λ０より長
波長側にずれていると判定された場合には、上記とは逆
に光源２の動作電流を減少させるか、あるいは光源２の
動作温度を低下するように恒温槽（図示省略）を制御す
る。いずれの場合においても、光センサ１３および１４
の出力が等しくなった点で制御完了と判定される。
（但しλ１−λ０≦Δλ≦λ２−λ０）の変動を生じた
場合、光セン号１３および１４の出力、すなわち前記ず
れ信号８が制御信号発生部９に人力して比較され、例え
ば光センサ１３の出力が光センサ１４の出力より大きい
ことから、該出力光波長が基準波長λ０より短波長側に
ずれていると判定された場合には、光源制御部１は光源
２の出力光波長を長波長側に変化させるように、該光源
２の動作電流を増加させるか、あるいは光源２の動作温
度を上昇させるように恒温槽（図示省略）を制御し、一
方、光センサ１３の出力が光センサ１４の出力より小さ
いことから、光源２の出力光波長が基準波長λ０より長
波長側にずれていると判定された場合には、上記とは逆
に光源２の動作電流を減少させるか、あるいは光源２の
動作温度を低下するように恒温槽（図示省略）を制御す
る。いずれの場合においても、光センサ１３および１４
の出力が等しくなった点で制御完了と判定される。
第４図は前記波長変動検出部７の構成の他の例であって
、０次透過光６は第二の偏向素子１５に入射される。該
第二の偏向素子１５は偏向角が波長依存性を有するもの
ならばとくに限定を要せず、例えばボログラムでもよく
、また通常の回折格子でもよ（、その信置分散能ガラス
を用いたプリズムでもよい。
、０次透過光６は第二の偏向素子１５に入射される。該
第二の偏向素子１５は偏向角が波長依存性を有するもの
ならばとくに限定を要せず、例えばボログラムでもよく
、また通常の回折格子でもよ（、その信置分散能ガラス
を用いたプリズムでもよい。
第二の偏向素子１５によって０次透過光６は偏向され（
図上の１７）、例えばＣＯＤを用いた位置検出装置１６
に入射され、その入射位置によって第二の偏向素子１５
による偏向角の変化が検出される。すなわち、該偏向角
の変化は光源２の出力光波長変動に起因するものであり
、０次透過光６が前記基準波長λＯである場合の位置検
出装置１６における入射位置を基準として、該基準位置
に対するずれ方向から波長の変動方向が分り、該入射位
置を該基準位置に引き戻すように制御が行われる。すな
わち位置検出装置１６の出力信号は前記制御信号発生部
９（第１図参照、以下同様）に入力し、該制御信号発生
部９は光源制御部１に対して制御信号を送出し、該制御
信号にしたがって光源制御部ｌは光源２の動作電流ある
いは動作温度を制御する。
図上の１７）、例えばＣＯＤを用いた位置検出装置１６
に入射され、その入射位置によって第二の偏向素子１５
による偏向角の変化が検出される。すなわち、該偏向角
の変化は光源２の出力光波長変動に起因するものであり
、０次透過光６が前記基準波長λＯである場合の位置検
出装置１６における入射位置を基準として、該基準位置
に対するずれ方向から波長の変動方向が分り、該入射位
置を該基準位置に引き戻すように制御が行われる。すな
わち位置検出装置１６の出力信号は前記制御信号発生部
９（第１図参照、以下同様）に入力し、該制御信号発生
部９は光源制御部１に対して制御信号を送出し、該制御
信号にしたがって光源制御部ｌは光源２の動作電流ある
いは動作温度を制御する。
通常、光源２に対する動作電流による出力光波長制御の
応答速度は０．１ｍ５ｅｃ程度であり、これに対して光
ビームの一走査周期は、例えば１．０ｍ５ｅｃ程度であ
るので、上記のような波長制御は光ビームの一走査周期
内でも充分実施可能である。すなわち、本発明の方式に
おけるように、０次透過光を用いることにより常時光ビ
ームの波長変動を検出可能とすることの最大の意義がこ
こに存在するのであって、レーザプリンタ等において要
求される極めて高精度かつ安定した光ビーム走査が実現
可能となる。
応答速度は０．１ｍ５ｅｃ程度であり、これに対して光
ビームの一走査周期は、例えば１．０ｍ５ｅｃ程度であ
るので、上記のような波長制御は光ビームの一走査周期
内でも充分実施可能である。すなわち、本発明の方式に
おけるように、０次透過光を用いることにより常時光ビ
ームの波長変動を検出可能とすることの最大の意義がこ
こに存在するのであって、レーザプリンタ等において要
求される極めて高精度かつ安定した光ビーム走査が実現
可能となる。
波長制御の応答速度が比較的低くてよい用途に対しては
、上記実施例で述べたような光源２の動作温度を制御す
る方式が適用可能であり、この方式においても、波長変
動検出部７を従来方式のように光ビーム走査線上に配置
する必要をなくすことにより、実質的に余分のスペース
を設ける必要性を排除し、その結果、装置の小型化を可
能とする明確な利点が提供されるのである。
、上記実施例で述べたような光源２の動作温度を制御す
る方式が適用可能であり、この方式においても、波長変
動検出部７を従来方式のように光ビーム走査線上に配置
する必要をなくすことにより、実質的に余分のスペース
を設ける必要性を排除し、その結果、装置の小型化を可
能とする明確な利点が提供されるのである。
なお、本発明の主旨は半導体レーザ以外の光源を用いた
場合の該光源における波長変動の制御に対して、また光
ビーム走査装置以外の光学装置で回折型偏向素子を用い
る装置に対して、上記実施例と同様に適用可能であるこ
とは明らかである。
場合の該光源における波長変動の制御に対して、また光
ビーム走査装置以外の光学装置で回折型偏向素子を用い
る装置に対して、上記実施例と同様に適用可能であるこ
とは明らかである。
（ｇ）発明の効果
本発明によれば、回折型の偏向素子を用いた光ビーム走
査装置において、装置に余分のスペースを設けることな
く光源の波長変動を制御可能とし、また光源の波長変動
に対し高速応答の制御を可能とし、例えばレーザプリン
タに好適な高精度・高安定度の光ビーム走査を提供可能
とする効果がある。
査装置において、装置に余分のスペースを設けることな
く光源の波長変動を制御可能とし、また光源の波長変動
に対し高速応答の制御を可能とし、例えばレーザプリン
タに好適な高精度・高安定度の光ビーム走査を提供可能
とする効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図から第４図は本発明に係る光ビーム走査装置にお
ける波長制御方式の実施例を示す図であって、第１図は
その機能ブロック図、第２図および第３図はそれぞれ波
長変動検出部の構成およびそこで用いるフィルタの分光
透過率特性の例を示す図、第４図は波長変動検出部の他
の構成例を示す図である。 図において、１は光源制御部、２は光源、３は光ビーム
、４は偏向素子、５は１次回折光、６は０次透過光、７
は波長変動検出部、８はずれ信号、９は制御信号発生部
、１０はビームスプリンタ、１１および１２はフィルタ
、１３および１４は光センサ、１５は第二の偏向素子、
１６は位置検出装置、１７は偏向光である。
ける波長制御方式の実施例を示す図であって、第１図は
その機能ブロック図、第２図および第３図はそれぞれ波
長変動検出部の構成およびそこで用いるフィルタの分光
透過率特性の例を示す図、第４図は波長変動検出部の他
の構成例を示す図である。 図において、１は光源制御部、２は光源、３は光ビーム
、４は偏向素子、５は１次回折光、６は０次透過光、７
は波長変動検出部、８はずれ信号、９は制御信号発生部
、１０はビームスプリンタ、１１および１２はフィルタ
、１３および１４は光センサ、１５は第二の偏向素子、
１６は位置検出装置、１７は偏向光である。
Claims (3)
- （１）回折型偏向素子を用いた光ビーム走査装置におい
て、該偏向素子の（ｌ透過光の波長変動を検出する手段
を設け、該変動量がゼロとなるように光源駆動条件を制
御することを特徴とする光ビーム走査装置における波長
制御方式。 - （２）それぞれの透過率の極大が基準波長を中心として
その両側に位置する２つのフィルタを該０次回折光の光
路上に設け、該２つのフィルタを透過した該０次回折光
をそれぞれに対応する光検知で検出し、該検知器出力が
等しくなるように光源駆動条件を制御することを特徴と
する特許請求の範囲第１項記載の光ビーム走査装置にお
ける波長制御方式。 - （３）第二の偏向素子を該０次透過光の光路上に設け、
該０次透過光の該第二の偏向素子による偏向方向の基準
方向に対するずれがゼロとなるように光源駆動条件を制
御することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
ビーム走査装置における波長制御方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58108808A JPS60424A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 光ビ−ム走査装置における波長制御方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58108808A JPS60424A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 光ビ−ム走査装置における波長制御方式 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60424A true JPS60424A (ja) | 1985-01-05 |
Family
ID=14494007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58108808A Pending JPS60424A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | 光ビ−ム走査装置における波長制御方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60424A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381317A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-04-12 | ゼロツクス コ−ポレ−シヨン | ダイオ−ドレ−ザのモ−ドホップを検出除去する装置及び方法 |
| JPH0523435U (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-26 | ヒロセ電機株式会社 | 電気コネクタ |
| WO1995008206A1 (en) * | 1993-09-14 | 1995-03-23 | Accuwave Corporation | Wavelength stabilized laser sources using feedback from volume holograms |
| US5440669A (en) * | 1991-07-26 | 1995-08-08 | Accuwave Corporation | Photorefractive systems and methods |
| US5491570A (en) * | 1991-07-26 | 1996-02-13 | Accuwave Corporation | Methods and devices for using photorefractive materials at infrared wavelengths |
| WO1996032658A1 (en) * | 1995-04-13 | 1996-10-17 | Accuwave Corporation | Fabrication and applications of long-lifetime, holographic gratings in photorefractive materials |
| US5684611A (en) * | 1991-07-26 | 1997-11-04 | Accuwave Corporation | Photorefractive systems and methods |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP58108808A patent/JPS60424A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6381317A (ja) * | 1986-07-03 | 1988-04-12 | ゼロツクス コ−ポレ−シヨン | ダイオ−ドレ−ザのモ−ドホップを検出除去する装置及び方法 |
| US5440669A (en) * | 1991-07-26 | 1995-08-08 | Accuwave Corporation | Photorefractive systems and methods |
| US5491570A (en) * | 1991-07-26 | 1996-02-13 | Accuwave Corporation | Methods and devices for using photorefractive materials at infrared wavelengths |
| US5684611A (en) * | 1991-07-26 | 1997-11-04 | Accuwave Corporation | Photorefractive systems and methods |
| US5691989A (en) * | 1991-07-26 | 1997-11-25 | Accuwave Corporation | Wavelength stabilized laser sources using feedback from volume holograms |
| US5796096A (en) * | 1991-07-26 | 1998-08-18 | Accuwave Corporation | Fabrication and applications of long-lifetime, holographic gratings in photorefractive materials |
| JPH0523435U (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-26 | ヒロセ電機株式会社 | 電気コネクタ |
| WO1995008206A1 (en) * | 1993-09-14 | 1995-03-23 | Accuwave Corporation | Wavelength stabilized laser sources using feedback from volume holograms |
| WO1996032658A1 (en) * | 1995-04-13 | 1996-10-17 | Accuwave Corporation | Fabrication and applications of long-lifetime, holographic gratings in photorefractive materials |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0020076B1 (en) | Optical scanning system | |
| US6315203B1 (en) | Autofocus bar code reader | |
| JPS60424A (ja) | 光ビ−ム走査装置における波長制御方式 | |
| US4758070A (en) | Variable focal length lens | |
| US5309270A (en) | Optical scanning system | |
| JPH02206745A (ja) | 屈折率測定用高安定性干渉計 | |
| US4573758A (en) | Beam deflection mechanism | |
| JP2005164997A (ja) | 光走査装置およびそれに用いる同期検知方法 | |
| JP3187538B2 (ja) | 光軸制御装置 | |
| JP2911516B2 (ja) | レーザードップラー速度計 | |
| JP2911523B2 (ja) | レーザードップラー速度計 | |
| JPH04256382A (ja) | レーザ加工装置 | |
| JPH0239582A (ja) | 狭帯域化レーザ装置 | |
| JPH067063B2 (ja) | 干渉型光ファイバセンサを用いた測定装置 | |
| JPH033176B2 (ja) | ||
| JPS63317935A (ja) | 波長変動制御光学装置 | |
| JPH06242387A (ja) | レーザ走査光学系 | |
| JPH04205722A (ja) | 光軸調整装置 | |
| JPH02113439A (ja) | 光軸調整方法及びその装置 | |
| JPH0445410A (ja) | 光走査装置 | |
| JPH0949760A (ja) | 光ビーム位置および角度制御装置 | |
| JPH11351819A (ja) | 走査位置検出機能を有する光走査装置 | |
| JP2001125017A (ja) | レーザビーム走査システム | |
| JPH08261841A (ja) | 光学的アライメント調整装置 | |
| JPH04140708A (ja) | ホログラムスキャナ |