JP2651147B2 - レーザー発振器制御回路 - Google Patents
レーザー発振器制御回路Info
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- JP2651147B2 JP2651147B2 JP62066777A JP6677787A JP2651147B2 JP 2651147 B2 JP2651147 B2 JP 2651147B2 JP 62066777 A JP62066777 A JP 62066777A JP 6677787 A JP6677787 A JP 6677787A JP 2651147 B2 JP2651147 B2 JP 2651147B2
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザ発振器制御回路に関し、特にディジィ
タル的に制御パルス列を発生するようにしたレーザ発振
器制御回路に関する。
タル的に制御パルス列を発生するようにしたレーザ発振
器制御回路に関する。
レーザ発振器に電源を供給する方法としては、直流か
ら高周波電源を使用した電源が広く使用されつつある。
このために高い周波数の高周波電源を発生するためには
これを制御するための高周波のパルス列を発生させるレ
ーザ発振器制御回路が必要である。
ら高周波電源を使用した電源が広く使用されつつある。
このために高い周波数の高周波電源を発生するためには
これを制御するための高周波のパルス列を発生させるレ
ーザ発振器制御回路が必要である。
このようなパルス例を発生させる例として、特開昭57
−183088号がある。この例では複数のタイマを使用し
て、一定の時間幅を有するロウレベルとハイレベルとパ
ルス列を出力するパルス繰り返し時間タイマ付レーザ制
御装置が示されている。ここでロウレベルは0Vである。
−183088号がある。この例では複数のタイマを使用し
て、一定の時間幅を有するロウレベルとハイレベルとパ
ルス列を出力するパルス繰り返し時間タイマ付レーザ制
御装置が示されている。ここでロウレベルは0Vである。
しかし、このパルス列信号をそのまま使用すると、ロ
ウレベルでは信号が０のために、パルス列信号が０にな
り、一旦レーザ発振器の放電が停止する場合が生じる。
したがって、パルス列がオンになっても、レーザ発振器
の出力が直ちにオンにならず、パルス列で指令されたパ
ルスデューティの出力パワーを出力することができな
い。
ウレベルでは信号が０のために、パルス列信号が０にな
り、一旦レーザ発振器の放電が停止する場合が生じる。
したがって、パルス列がオンになっても、レーザ発振器
の出力が直ちにオンにならず、パルス列で指令されたパ
ルスデューティの出力パワーを出力することができな
い。
特に、出力パワーのパルスデューティが一定でないと
精密な加工が不可能となる。
精密な加工が不可能となる。
本発明の目的は上記問題点を解決し、指令したパルス
列のパルスデューティの出力パワーが得られるレーザ発
振器制御回路を提供することにある。
列のパルスデューティの出力パワーが得られるレーザ発
振器制御回路を提供することにある。
本発明では上記の問題点を解決するために、 レーザの出力パワーを指令する指令電圧を制御するレ
ーザ発振器制御回路において、オン時間とオフ時間を設
定する時間設定手段と、前記時間設定手段からの信号に
よって、前記オン時間及び前記オフ時間に対応したパル
ス列を発生するパルス発生手段と、放電開始可能な最低
レベルを決定するバイアス指定電圧のデータの設定する
バイアス指令電圧設定手段と、出力パワーを発生させる
電圧に前記バイアス指令電圧を加算した出力パワー電圧
を設定する出力電圧設定手段と、前記パルス列がオンの
とき前記出力パワー電圧を選択し、前記パルスがオフの
とき前記バイアス指令電圧を選択出力するように構成し
たセレクタと、を有することを特徴とするレーザ発振器
制御回路が、提供される。
ーザ発振器制御回路において、オン時間とオフ時間を設
定する時間設定手段と、前記時間設定手段からの信号に
よって、前記オン時間及び前記オフ時間に対応したパル
ス列を発生するパルス発生手段と、放電開始可能な最低
レベルを決定するバイアス指定電圧のデータの設定する
バイアス指令電圧設定手段と、出力パワーを発生させる
電圧に前記バイアス指令電圧を加算した出力パワー電圧
を設定する出力電圧設定手段と、前記パルス列がオンの
とき前記出力パワー電圧を選択し、前記パルスがオフの
とき前記バイアス指令電圧を選択出力するように構成し
たセレクタと、を有することを特徴とするレーザ発振器
制御回路が、提供される。
パルス列がオンのときに出力パワー電圧が選択され、
パルス列がオフのときバイアス電圧が選択されるので、
パルス列がオフになってもレーザ発振器の出力パワーは
０であるが、放電は行われており、パルス列がオンにな
ったときに直ちにレーザ発振器の出力はオンになり、レ
ーザ発振器はパルス列と同一のパルスデューティを有す
出力パワーを出力することができる。
パルス列がオフのときバイアス電圧が選択されるので、
パルス列がオフになってもレーザ発振器の出力パワーは
０であるが、放電は行われており、パルス列がオンにな
ったときに直ちにレーザ発振器の出力はオンになり、レ
ーザ発振器はパルス列と同一のパルスデューティを有す
出力パワーを出力することができる。
以下本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第１図に本発明の一実施例のブロック図を示す。図に
おいて、１はプロセッサであり、全体の制御を行う。２
はキーボードであり、バスでプロセッサ１に接続され、
データの入力、変更等を行うことができる。３はCRTで
あり、各種の表示を行う。CRT3に何を表示させるかはキ
ーボード２から指令することができる。４はメモリであ
り、制御プログラムを記憶するROMと、各種のデータを
記憶するRAMから構成されている。
おいて、１はプロセッサであり、全体の制御を行う。２
はキーボードであり、バスでプロセッサ１に接続され、
データの入力、変更等を行うことができる。３はCRTで
あり、各種の表示を行う。CRT3に何を表示させるかはキ
ーボード２から指令することができる。４はメモリであ
り、制御プログラムを記憶するROMと、各種のデータを
記憶するRAMから構成されている。
５はラッチであり、パルス列のオン時間が設定され
る。これは例えばキーボード２から入力することができ
る。６もラッチでありパルス列のオフ時間が設定され
る。この２つのラッチにパルス列のオン時間及びオフ時
間が設定されて、これによってパルス列が特定される。
７はクロック発振器であり、一定周期のクロックパルス
を発生する。８はタイマであり、クロック発振器７から
のクロックパルスによって、ラッチ５に設定された時間
分オンとなり、ラッチ６に設定された時間分オフとなる
パルス列を出力する。タイマは市販のプログラマブルタ
イマ等を使用できる。
る。これは例えばキーボード２から入力することができ
る。６もラッチでありパルス列のオフ時間が設定され
る。この２つのラッチにパルス列のオン時間及びオフ時
間が設定されて、これによってパルス列が特定される。
７はクロック発振器であり、一定周期のクロックパルス
を発生する。８はタイマであり、クロック発振器７から
のクロックパルスによって、ラッチ５に設定された時間
分オンとなり、ラッチ６に設定された時間分オフとなる
パルス列を出力する。タイマは市販のプログラマブルタ
イマ等を使用できる。
９はラッチであり、レーザ管に供給されるバイアス電
圧に相当する電圧値が設定される。バイアス電圧はレー
ザ管が放電を開始する電圧、すなわち、安定した放電は
できるが、出力パワーは零の電圧である。このため、出
力パワーを零にする場合でも、レーザ管にバイアス電圧
をかけておかないと、放電が維持されず、次にパルス列
がオンになっても、指令する出力パワーが得られない。
圧に相当する電圧値が設定される。バイアス電圧はレー
ザ管が放電を開始する電圧、すなわち、安定した放電は
できるが、出力パワーは零の電圧である。このため、出
力パワーを零にする場合でも、レーザ管にバイアス電圧
をかけておかないと、放電が維持されず、次にパルス列
がオンになっても、指令する出力パワーが得られない。
10はラッチであり、前述のバイアス電圧に出力パワー
の値を加えた電圧値が設定される。11はセレクタであ
り、タイマ８からの出力パルス列（電圧Ａ）を受け、パ
ルス列がオンのときラッチ10の指令電圧Ｃを選択し、出
力する。また、パルス列（電圧Ａ）がオフのときラッチ
９の指令電圧Ｂを選択し、出力する。
の値を加えた電圧値が設定される。11はセレクタであ
り、タイマ８からの出力パルス列（電圧Ａ）を受け、パ
ルス列がオンのときラッチ10の指令電圧Ｃを選択し、出
力する。また、パルス列（電圧Ａ）がオフのときラッチ
９の指令電圧Ｂを選択し、出力する。
この関係を第２図に示す。第２図（ａ）はタイマ８の
出力である電圧Ａであり、パルス列である。
出力である電圧Ａであり、パルス列である。
第２図（ｂ）はラッチ９の出力であり、バイアス電圧
を示す指令電圧Ｂを表す。
を示す指令電圧Ｂを表す。
第２図（ｃ）はラッチ10の出力であり、バイアス電圧
に出力パワーの値を加えた指令電圧Ｃを表す。
に出力パワーの値を加えた指令電圧Ｃを表す。
第２図（ｄ）はセレクタ11の出力であり、電圧Ａ（パ
ルス列）がオンのとき指令電圧Ｃが選択され、電圧（パ
ルス列）がオフのとき指令電圧Ｂが選択され、図のよう
な出力指令電圧Ｄを構成する。
ルス列）がオンのとき指令電圧Ｃが選択され、電圧（パ
ルス列）がオフのとき指令電圧Ｂが選択され、図のよう
な出力指令電圧Ｄを構成する。
第１図に戻って、このセレクタ11の出力電圧ＤをDAコ
ンバータ12によってアナログ電圧に増幅、変換して高周
波電源21に供給する。高周波電源21はDAコンバータ12か
らの制御信号（信号形状は出力指令電圧Ｄと同じ）によ
って制御され、この信号と類似のパワー出力高周波を出
力する。22はマッチング回路であり、高周波電源とレー
ザ管とのマッチングをとることにより、高周波電源の出
力が効率よく、レーザ管に供給されるようにしている。
ンバータ12によってアナログ電圧に増幅、変換して高周
波電源21に供給する。高周波電源21はDAコンバータ12か
らの制御信号（信号形状は出力指令電圧Ｄと同じ）によ
って制御され、この信号と類似のパワー出力高周波を出
力する。22はマッチング回路であり、高周波電源とレー
ザ管とのマッチングをとることにより、高周波電源の出
力が効率よく、レーザ管に供給されるようにしている。
23はレーザ管であり、石英等で作られており、その内
部にレーザ媒質ガス25有する。24a、24bは電極であり、
高周波電源が供給される。
部にレーザ媒質ガス25有する。24a、24bは電極であり、
高周波電源が供給される。
このように、オン時間とオフ時間をディジタルに設定
できるのでパルス周波数、パルスデューティを安定に供
給できる。
できるのでパルス周波数、パルスデューティを安定に供
給できる。
また、オフ時間を零にすれば、連続出力が可能とな
り、逆にオン時間を零にすれば、出力パワーは零にな
り、バイアス電圧によって、レーザ管の放電は安定して
維持される。従って、次にパルス列がオンになっととき
に、直ちに指令した出力パワーが得られる。すなわちパ
ルス列で指令したパルスデューティを有する出力パワー
が得られる。
り、逆にオン時間を零にすれば、出力パワーは零にな
り、バイアス電圧によって、レーザ管の放電は安定して
維持される。従って、次にパルス列がオンになっととき
に、直ちに指令した出力パワーが得られる。すなわちパ
ルス列で指令したパルスデューティを有する出力パワー
が得られる。
以上説明したように本発明では、パルス列がオンのと
き出力パワー電圧を選択し、パルスがオフのときバイア
ス指令電圧を選択出力するように構成したので、レーザ
発振器は正確にパルス列と同一のパルスデューティを有
する出力パワーを出力することができる。
き出力パワー電圧を選択し、パルスがオフのときバイア
ス指令電圧を選択出力するように構成したので、レーザ
発振器は正確にパルス列と同一のパルスデューティを有
する出力パワーを出力することができる。
また、パルス列にはバイアス電圧に関する指令も含ま
れているので、バイアス電圧用の電源を必要とせず、電
源の構成が簡単にある。
れているので、バイアス電圧用の電源を必要とせず、電
源の構成が簡単にある。
第１図は本発明の一実施例のブロック図、 第２図（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）は各部の波形を
示す図である。 １……プロセッサ ２……キーボード ５……ラッチ（オンタイム） ６……ラッチ（オフタイム） ８……タイマ ９……ラッチ（バイアス電圧） 10……ラッチ（パワー＋バイアス電圧） 11……セレクタ 12……DAコンバータ 21……高周波電源 23……レーザ管
示す図である。 １……プロセッサ ２……キーボード ５……ラッチ（オンタイム） ６……ラッチ（オフタイム） ８……タイマ ９……ラッチ（バイアス電圧） 10……ラッチ（パワー＋バイアス電圧） 11……セレクタ 12……DAコンバータ 21……高周波電源 23……レーザ管
Claims (1)
- 【請求項１】レーザの出力パワーを指令する指令電圧を
制御するレーザ発振器制御回路において、 オン時間とオフ時間を設定する時間設定手段と、 前記時間設定手段からの信号によって、前記オン時間及
び前記オフ時間に対応したパルス列を発生するパルス発
生手段と、 放電開始可能な最低レベルを決定するバイアス指定電圧
のデータの設定するバイアス指令電圧設定手段と、 出力パワーを発生させる電圧に前記バイアス指令電圧を
加算した出力パワー電圧を設定する出力電圧設定手段
と、 前記パルス列がオンのとき前記出力パワー電圧を選択
し、前記パルスがオフのとき前記バイアス指令電圧を選
択出力するように構成したセレクタと、 を有することを特徴とするレーザ発振器制御回路。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62066777A JP2651147B2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | レーザー発振器制御回路 |
| DE8888901931T DE3864639D1 (de) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Regelschaltung fuer laseroszillator. |
| EP88901931A EP0308511B2 (en) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Laser oscillator control circuit |
| PCT/JP1988/000184 WO1988007274A1 (en) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Laser oscillator control circuit |
| US07/273,520 US4890291A (en) | 1987-03-20 | 1988-02-19 | Laser oscillator control circuit |
| KR1019880701499A KR890700948A (ko) | 1987-03-20 | 1988-11-19 | 레이저발진기 제어회로 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62066777A JP2651147B2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | レーザー発振器制御回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63232476A JPS63232476A (ja) | 1988-09-28 |
| JP2651147B2 true JP2651147B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=13325633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62066777A Expired - Fee Related JP2651147B2 (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | レーザー発振器制御回路 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4890291A (ja) |
| EP (1) | EP0308511B2 (ja) |
| JP (1) | JP2651147B2 (ja) |
| KR (1) | KR890700948A (ja) |
| DE (1) | DE3864639D1 (ja) |
| WO (1) | WO1988007274A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2204442B (en) * | 1987-05-06 | 1992-01-08 | Ferranti Plc | Radio-frequency excited gas laser |
| JP2647598B2 (ja) * | 1992-03-27 | 1997-08-27 | 動力炉・核燃料開発事業団 | レーザーシステムの出力制御方法 |
| US5463650A (en) * | 1992-07-17 | 1995-10-31 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Apparatus for controlling output of an excimer laser device |
| JPH07273387A (ja) * | 1994-03-31 | 1995-10-20 | Fanuc Ltd | 出力波形制御方式 |
| US5764505A (en) * | 1996-01-23 | 1998-06-09 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser control systems using multiple CPU's with shared memory on a common bus |
| US5657334A (en) * | 1996-02-15 | 1997-08-12 | Cymer, Inc. | External high voltage control for a laser system |
| JP3292125B2 (ja) * | 1997-03-21 | 2002-06-17 | 三菱電機株式会社 | ガスレーザ加工機 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3806829A (en) * | 1971-04-13 | 1974-04-23 | Sys Inc | Pulsed laser system having improved energy control with improved power supply laser emission energy sensor and adjustable repetition rate control features |
| JPS55148480A (en) * | 1979-05-08 | 1980-11-19 | Mitsubishi Electric Corp | Laser device |
| JPS56144587A (en) * | 1980-04-11 | 1981-11-10 | Toshiba Corp | Pulse laser waveform controller |
| JPS57183088A (en) * | 1981-05-08 | 1982-11-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Laser controller with pulse repetition |
| JPS6030269A (ja) * | 1983-07-29 | 1985-02-15 | Nec Corp | ファクシミリ装置 |
| JPS60223179A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振器 |
| JPH107693A (ja) * | 1996-03-25 | 1998-01-13 | Yoshitomi Fine Chem Kk | 新規糖誘導体、その製造法、リパーゼ活性測定用試薬およびリパーゼ活性測定方法 |
-
1987
- 1987-03-20 JP JP62066777A patent/JP2651147B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1988
- 1988-02-19 WO PCT/JP1988/000184 patent/WO1988007274A1/ja active IP Right Grant
- 1988-02-19 DE DE8888901931T patent/DE3864639D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-19 US US07/273,520 patent/US4890291A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-02-19 EP EP88901931A patent/EP0308511B2/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-19 KR KR1019880701499A patent/KR890700948A/ko not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0308511A4 (en) | 1989-02-23 |
| DE3864639D1 (de) | 1991-10-10 |
| US4890291A (en) | 1989-12-26 |
| EP0308511A1 (en) | 1989-03-29 |
| EP0308511B2 (en) | 1995-04-26 |
| KR890700948A (ko) | 1989-04-28 |
| JPS63232476A (ja) | 1988-09-28 |
| EP0308511B1 (en) | 1991-09-04 |
| WO1988007274A1 (en) | 1988-09-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |