JP2642680B2 - β−ケトエステルの還元 - Google Patents
β−ケトエステルの還元Info
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- JP2642680B2 JP2642680B2 JP63200927A JP20092788A JP2642680B2 JP 2642680 B2 JP2642680 B2 JP 2642680B2 JP 63200927 A JP63200927 A JP 63200927A JP 20092788 A JP20092788 A JP 20092788A JP 2642680 B2 JP2642680 B2 JP 2642680B2
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- compound
- reduction
- alkali
- ethyl
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の目的 本発明は、心筋梗塞、脳血栓症および虚血性抹消血管
疾病などの処置および予防に有用である化合物（３）
（特開昭62−252784号公報）の合成中間体（２）の製法
に関する。
疾病などの処置および予防に有用である化合物（３）
（特開昭62−252784号公報）の合成中間体（２）の製法
に関する。
一般に水素化ホウ素ナトリウムによりケトン部位は、
選択的に収率良く還元されることが知られているが、化
合物（１）に関しては一般的な方法ではエステル部位も
同時に還元され化合物（４）が副生する。
選択的に収率良く還元されることが知られているが、化
合物（１）に関しては一般的な方法ではエステル部位も
同時に還元され化合物（４）が副生する。
発明者は、少量のアルカリの存在下、水素化ホウ素ナ
トリウムにより化合物（１）のケトン部位が選択的に還
元され、相当する化合物（２）が収率良く得られる方法
を見出し、本発明を完成した。
トリウムにより化合物（１）のケトン部位が選択的に還
元され、相当する化合物（２）が収率良く得られる方法
を見出し、本発明を完成した。
発明の構成 本発明は、化合物（１）のケトン部位を還元する際、
水素化ホウ素アルカリ金属を少量のアルカリの存在下反
応させることを特徴とする化合物（２）の製法である。
水素化ホウ素アルカリ金属を少量のアルカリの存在下反
応させることを特徴とする化合物（２）の製法である。
式中、R1,R2,R3およびR4は同一または異なって水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基または置換基を有し
てもよいアリール基を示し、R5はカルボキシル基の保護
基を示す。
子、ハロゲン原子、低級アルキル基または置換基を有し
てもよいアリール基を示し、R5はカルボキシル基の保護
基を示す。
上記のハロゲン原子は、たとえば弗素、塩素、臭素ま
たはヨウ素原子があげられる。低級アルキル基は、たと
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチルまたはｔ−ブチルがあげられる。アリー
ル基は、たとえばフェニルまたはナフチルがあげられ、
その置換基は、メトキシ、エトキシのようなアルコキシ
基があげられる。カルボキシル基の保護基は、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、またはｔ−ブチルのようなアルキル基があげ
られる。
たはヨウ素原子があげられる。低級アルキル基は、たと
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチルまたはｔ−ブチルがあげられる。アリー
ル基は、たとえばフェニルまたはナフチルがあげられ、
その置換基は、メトキシ、エトキシのようなアルコキシ
基があげられる。カルボキシル基の保護基は、たとえば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、またはｔ−ブチルのようなアルキル基があげ
られる。
式（２）を有する好適化合物は、R1,R2,R3およびR4水
素原子であり、R2が水素原子、弗素、塩素、臭素のよう
なハロゲン原子またはメチル、エチルのようなアルキル
基であり、R5がメチル、エチルのようなアルキル基であ
る。
素原子であり、R2が水素原子、弗素、塩素、臭素のよう
なハロゲン原子またはメチル、エチルのようなアルキル
基であり、R5がメチル、エチルのようなアルキル基であ
る。
化合物（２）の製法を以下に説明する。
化合物（１）を溶媒とアルカリ水溶液の存在下、還元
剤と反応させることにより化合物（２）が得られる。
剤と反応させることにより化合物（２）が得られる。
使用される溶媒としてはメタノール、エタノールのよ
うなアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類などが用いられる。
うなアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ランのようなエーテル類などが用いられる。
使用される還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化ホウ素リチウムなどが好適な試剤としてあげ
られる。使用される還元剤の量は化合物（１）に対して
1.0〜1.2モルが好適である。
ム、水素化ホウ素リチウムなどが好適な試剤としてあげ
られる。使用される還元剤の量は化合物（１）に対して
1.0〜1.2モルが好適である。
アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液が好適な試
剤としてあげることができる。使用されるアルカリ水溶
液の濃度は５〜15％が好適であり、使用量は使用する溶
媒に対して0.05〜0.15％が好適である。反応温度は５〜
35℃が好適である。反応時間は主に反応温度、使用され
るアルカリ水溶液の濃度や量によって異なるが約１〜５
時間である。
リウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液が好適な試
剤としてあげることができる。使用されるアルカリ水溶
液の濃度は５〜15％が好適であり、使用量は使用する溶
媒に対して0.05〜0.15％が好適である。反応温度は５〜
35℃が好適である。反応時間は主に反応温度、使用され
るアルカリ水溶液の濃度や量によって異なるが約１〜５
時間である。
反応終了後、常法によって処理し、カラムクロマトグ
ラフィーまたは蒸留によって精製することにより一般式
（２）を有する化合物を得ることができる。
ラフィーまたは蒸留によって精製することにより一般式
（２）を有する化合物を得ることができる。
発明の効果 ケトン部位の還元は、一般にエステル部位に比べて水
素化ホウ素アルカリ金属により還元される速度が著しく
速いとされているが、化合物（１）に関しては、一般的
な方法ではエステル部位も同時に還元され易く化合物
（４）を副生し易い。すなわち、化合物（１）を通常水
素化ホウ素ナトリウムによる還元反応で用いられるアル
コール類およびエーテル類あるいはそれらの溶媒と水の
混合溶媒中還元反応を行うと目的とする化合物（２）と
副生する化合物（４）の生成比は2:1〜3:2であるのに対
し、本発明の方法を用いると4:1〜6:1と選択性があが
り、かつ収率80〜85％で化合物（２）が得られる。
素化ホウ素アルカリ金属により還元される速度が著しく
速いとされているが、化合物（１）に関しては、一般的
な方法ではエステル部位も同時に還元され易く化合物
（４）を副生し易い。すなわち、化合物（１）を通常水
素化ホウ素ナトリウムによる還元反応で用いられるアル
コール類およびエーテル類あるいはそれらの溶媒と水の
混合溶媒中還元反応を行うと目的とする化合物（２）と
副生する化合物（４）の生成比は2:1〜3:2であるのに対
し、本発明の方法を用いると4:1〜6:1と選択性があが
り、かつ収率80〜85％で化合物（２）が得られる。
以下に実施例をあげ本発明を具体的に説明する。
実施例１ メチル ７−ヒドロキシ−4,5−テトラヒドロチアナフ
テン−６−カルボキシレート メチル ７−オキソ−4,5−テトラヒドロチアナフテ
ン−６−カルボキシレート4.2gのメタノール（85ml）溶
液に10％水酸化ナトリウム水溶液0.425mlを加え、さら
に室温下激しく撹はんしながら水素化ホウ素ナトリウム
757mgを添加後約１時間反応させた。反応終了後アセト
ン5.58gを加えさらに１時間撹はんした。反応溶媒を減
圧下除去後、水20mlと酢酸エチル40mlを加え、分液抽出
を行った。酢酸エチルを減圧濃縮除去して得られた残渣
をカラムクロマトグラフィー（ベンゼン／酢酸エチル＝
10/1）にて精製することにより目的物（２）3.58g（収
率84.5％）を油状物質として得た。
テン−６−カルボキシレート メチル ７−オキソ−4,5−テトラヒドロチアナフテ
ン−６−カルボキシレート4.2gのメタノール（85ml）溶
液に10％水酸化ナトリウム水溶液0.425mlを加え、さら
に室温下激しく撹はんしながら水素化ホウ素ナトリウム
757mgを添加後約１時間反応させた。反応終了後アセト
ン5.58gを加えさらに１時間撹はんした。反応溶媒を減
圧下除去後、水20mlと酢酸エチル40mlを加え、分液抽出
を行った。酢酸エチルを減圧濃縮除去して得られた残渣
をカラムクロマトグラフィー（ベンゼン／酢酸エチル＝
10/1）にて精製することにより目的物（２）3.58g（収
率84.5％）を油状物質として得た。
赤外吸収スペクトル（Liq,cm-1）:3450,1730 核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルム，δppm）:2.00
〜2.45（2H,m）,2.50〜3.25（4H,m）,3.77（3H,s）,5.1
5（1H,d,J＝4Hz）,6.71（1H,d,J＝5Hz）,7.20（1H,d,J
＝5Hz） マススペクトル:M+＝212 実施例２ エチル ７−ヒドロキシ−4,5−テトラヒドロチアナフ
テン−６−カルボキシレート エチル ７−オキソ−4,5−テトラヒドロチアナフテ
ン−６−カルボキシレート4.5gのエタノール（90ml）溶
液に10％水酸化ナトリウム水溶液0.45mlを加え、さらに
室温下激しく撹はんしながら水素化ホウ素ナトリウム75
7mgを添加後約３時間反応させた。以下実施例１と同様
な方法に従い目的とする化合物3.73g（収率82.2％）を
油状物質として得た。
〜2.45（2H,m）,2.50〜3.25（4H,m）,3.77（3H,s）,5.1
5（1H,d,J＝4Hz）,6.71（1H,d,J＝5Hz）,7.20（1H,d,J
＝5Hz） マススペクトル:M+＝212 実施例２ エチル ７−ヒドロキシ−4,5−テトラヒドロチアナフ
テン−６−カルボキシレート エチル ７−オキソ−4,5−テトラヒドロチアナフテ
ン−６−カルボキシレート4.5gのエタノール（90ml）溶
液に10％水酸化ナトリウム水溶液0.45mlを加え、さらに
室温下激しく撹はんしながら水素化ホウ素ナトリウム75
7mgを添加後約３時間反応させた。以下実施例１と同様
な方法に従い目的とする化合物3.73g（収率82.2％）を
油状物質として得た。
赤外吸収スペクトル（Liq,cm-1）:3575,1730 核磁気共鳴スペクトル（重クロロホルム，δppm）:1.26
（3H,t,J＝7Hz）,1.63〜2.33（2H,m）,2.43〜3.10（3H,
m）,3.30（1H,d,J＝6Hz）,4.23（2H,q,J＝7Hz）,5.13
（1H,d,J＝4Hz）,6.73（1H,d,J＝5Hz）,7.20（1H,d,J＝
5Hz） マススペクトル:M+＝226
（3H,t,J＝7Hz）,1.63〜2.33（2H,m）,2.43〜3.10（3H,
m）,3.30（1H,d,J＝6Hz）,4.23（2H,q,J＝7Hz）,5.13
（1H,d,J＝4Hz）,6.73（1H,d,J＝5Hz）,7.20（1H,d,J＝
5Hz） マススペクトル:M+＝226
Claims (1)
- 【請求項１】式 を有する化合物をアルカリの存在下、水素化ホウ素アル
カリ金属で還元することを特徴とする 式 を有する化合物の製法 式中、R1,R2,R3およびR4は同一または異なって水素原
子，ハロゲン原子，低級アルキル基または置換基を有し
てもよいアリール基を示し、R5はカルボキシル基の保護
基を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200927A JP2642680B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | β−ケトエステルの還元 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63200927A JP2642680B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | β−ケトエステルの還元 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249780A JPH0249780A (ja) | 1990-02-20 |
| JP2642680B2 true JP2642680B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=16432597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63200927A Expired - Lifetime JP2642680B2 (ja) | 1988-08-11 | 1988-08-11 | β−ケトエステルの還元 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2642680B2 (ja) |
-
1988
- 1988-08-11 JP JP63200927A patent/JP2642680B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0249780A (ja) | 1990-02-20 |
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