JP2635417B2 - 鉱物質基体のブルーミング性向を阻止する方法 - Google Patents
鉱物質基体のブルーミング性向を阻止する方法Info
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- JP2635417B2 JP2635417B2 JP1208030A JP20803089A JP2635417B2 JP 2635417 B2 JP2635417 B2 JP 2635417B2 JP 1208030 A JP1208030 A JP 1208030A JP 20803089 A JP20803089 A JP 20803089A JP 2635417 B2 JP2635417 B2 JP 2635417B2
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
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- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/48—Macromolecular compounds
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Description
【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は鉱物質基体の表面にポリアクリラート水性分
散液で層形成し、この形成層を場合により加熱下に乾燥
することにより鉱物質基体のブルーミング性向を阻止す
る方法に関するものである。
散液で層形成し、この形成層を場合により加熱下に乾燥
することにより鉱物質基体のブルーミング性向を阻止す
る方法に関するものである。
（従来技術） ことにコンクリート製屋根がわら、さらに慣用のかわ
らのような鉱物質基体は、気象影響下に一般に白色の発
疹状滲出物の形態におけるブルーミングをもたらす傾向
がある。これはやがて次第に鉱物質基体に障害を与える
に至る。従って、このようなブルーミング性向を耐水性
被覆を施すことにより抑圧する試みが古くからなされて
いる。これらのうち、ことに重合体分散液、例えばポリ
アクリラート分散液から成る層の形成はことに興味があ
る（米国特許4511699号及び英国特許1411268号明細書参
照）。しかしながらポリアクリラートの気象的影響に対
する比較的良好な耐性にかかわらず、これまでのポリア
クリラート層形成では満足すべきブルーミング抑圧結果
は得られていない。
らのような鉱物質基体は、気象影響下に一般に白色の発
疹状滲出物の形態におけるブルーミングをもたらす傾向
がある。これはやがて次第に鉱物質基体に障害を与える
に至る。従って、このようなブルーミング性向を耐水性
被覆を施すことにより抑圧する試みが古くからなされて
いる。これらのうち、ことに重合体分散液、例えばポリ
アクリラート分散液から成る層の形成はことに興味があ
る（米国特許4511699号及び英国特許1411268号明細書参
照）。しかしながらポリアクリラートの気象的影響に対
する比較的良好な耐性にかかわらず、これまでのポリア
クリラート層形成では満足すべきブルーミング抑圧結果
は得られていない。
そこでこの分野の技術的課題は、鉱物質基体、ことに
コンクリート屋根がわらのブルーミング性無を、改善さ
れたポラクリラート層形成により長期間にわたり阻止す
ることである。
コンクリート屋根がわらのブルーミング性無を、改善さ
れたポラクリラート層形成により長期間にわたり阻止す
ることである。
（発明の要約） しかるに、この技術的課題は、鉱物質基体の表面にポ
リアクリラート水性分散液で層形成し、この形成層を場
合により加熱下に乾燥することにより鉱物質基体のブル
ーミング性向を阻止する方法において、（Ａ）（ａ）３
乃至20個の炭素原子を有し、３級CH基を有するアルカノ
ールの（メタ）アクリル酸エステル20乃至70重量％、
（ｂ）スチレン、α−メチルスチレン、メタクリル酸メ
チルエステル、（メタ）アクリル酸−tert−ブチルエス
テル及び／或は（メタ）アクリルニトリル30乃至60重量
％及び（ｃ）３乃至５個の炭素原子を有し、モノ及び／
或はジカルボン酸及び／或は場合によりＮ原子で１乃至
４個の炭素原子を有するアルキル基により置換されてい
るアミド0.2乃至７％から構成される、−30乃至＋30℃
のフィルム形成最低温度を有する共重合体の20乃至65重
量％水性分散液と、（Ｂ）上記組成分（Ａ）中に含有さ
れる共重合体量に対して0.1乃至５重量％の芳香族ケト
ンとから成る混合物を上記層形成のために使用し、この
形成層をその乾燥の際に、かつ／もしくはその後に紫外
線で照射する本発明により解決されることが見出され
た。
リアクリラート水性分散液で層形成し、この形成層を場
合により加熱下に乾燥することにより鉱物質基体のブル
ーミング性向を阻止する方法において、（Ａ）（ａ）３
乃至20個の炭素原子を有し、３級CH基を有するアルカノ
ールの（メタ）アクリル酸エステル20乃至70重量％、
（ｂ）スチレン、α−メチルスチレン、メタクリル酸メ
チルエステル、（メタ）アクリル酸−tert−ブチルエス
テル及び／或は（メタ）アクリルニトリル30乃至60重量
％及び（ｃ）３乃至５個の炭素原子を有し、モノ及び／
或はジカルボン酸及び／或は場合によりＮ原子で１乃至
４個の炭素原子を有するアルキル基により置換されてい
るアミド0.2乃至７％から構成される、−30乃至＋30℃
のフィルム形成最低温度を有する共重合体の20乃至65重
量％水性分散液と、（Ｂ）上記組成分（Ａ）中に含有さ
れる共重合体量に対して0.1乃至５重量％の芳香族ケト
ンとから成る混合物を上記層形成のために使用し、この
形成層をその乾燥の際に、かつ／もしくはその後に紫外
線で照射する本発明により解決されることが見出され
た。
（発明の構成） 上記モノマー（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）から構成され
る、−30乃至＋30℃のフィルム形成最低温度を有する共
重合体の20乃至65重量％水性分散液及びその製法自体は
公知である。これはモノマー（ａ）として、２−エチル
ヘキシルアクリラート及び／或は２−エチルヘキシルメ
タクリラート及び／或はイソオクチルアクリラート及び
／或はイソオクチルメタクリラートを重合含有するのが
好ましい。モノマー（ａ）として、イソプロピルアクリ
ラート及びメタクリラート、イソブチルアクリラート及
びメタクリラート、イソデシルアクリラート及びメタク
リラート、イソドデシルアクリラート及びメタクリラー
トならびにイソステアリルアクリラート及びメタクリラ
ートも適当である。この場合炭素原子６乃至12個の、上
述の種類の３級CH基含有アルカノールのアクリル及びメ
タクリル酸エステルが一般に好ましく、その量は共重合
体の30乃至60重量％であるのが好ましい。
る、−30乃至＋30℃のフィルム形成最低温度を有する共
重合体の20乃至65重量％水性分散液及びその製法自体は
公知である。これはモノマー（ａ）として、２−エチル
ヘキシルアクリラート及び／或は２−エチルヘキシルメ
タクリラート及び／或はイソオクチルアクリラート及び
／或はイソオクチルメタクリラートを重合含有するのが
好ましい。モノマー（ａ）として、イソプロピルアクリ
ラート及びメタクリラート、イソブチルアクリラート及
びメタクリラート、イソデシルアクリラート及びメタク
リラート、イソドデシルアクリラート及びメタクリラー
トならびにイソステアリルアクリラート及びメタクリラ
ートも適当である。この場合炭素原子６乃至12個の、上
述の種類の３級CH基含有アルカノールのアクリル及びメ
タクリル酸エステルが一般に好ましく、その量は共重合
体の30乃至60重量％であるのが好ましい。
コモノマー（ｂ）としては、スチレン及びメタクリル
酸メチルエステルならびにα−メチルスチレンを共重合
体の30乃至50重量％含有するのが好ましい。コモノマー
（ｂ）として、さらにアクリル酸−及びメタクリル酸−
tert−ブチルエステル、アクリルニトリル及びメタクリ
ルニトリルも適当である。
酸メチルエステルならびにα−メチルスチレンを共重合
体の30乃至50重量％含有するのが好ましい。コモノマー
（ｂ）として、さらにアクリル酸−及びメタクリル酸−
tert−ブチルエステル、アクリルニトリル及びメタクリ
ルニトリルも適当である。
コモノマー（ｃ）は、分散液（Ａ）の共重合体中１乃
至４重量％の割合で重合含有されているのが好ましい。
コモノマーとして好ましいのは、アクリル酸、メタクリ
ル酸及びイタコン酸、ならびにさらにクロトン酸、マレ
イン酸、フマル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチルアクリルアミド及びメタクリルアミド、
Ｎ−ブチル−アクリルアミド及びメタクリルアミド、Ｎ
−エチル−アクリルアミド、マレイン酸モノアミド及び
ジアミド、フマル酸アミド及びイタコン酸アミドであ
る。
至４重量％の割合で重合含有されているのが好ましい。
コモノマーとして好ましいのは、アクリル酸、メタクリ
ル酸及びイタコン酸、ならびにさらにクロトン酸、マレ
イン酸、フマル酸、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−メチルアクリルアミド及びメタクリルアミド、
Ｎ−ブチル−アクリルアミド及びメタクリルアミド、Ｎ
−エチル−アクリルアミド、マレイン酸モノアミド及び
ジアミド、フマル酸アミド及びイタコン酸アミドであ
る。
−20乃至＋10℃のフィルム形成最低温度を有するのが
好ましい分散液Ａの共重合体は、さらに０乃至６重量％
の他のモノマー（ｄ）を重合含有し得る。このコモノマ
ー（ｄ）としてはテトラヒドロフルフリル−アクリラー
ト及びメタクリラートが好ましい。さらにアルコキシア
ルキラート、例えば３−メトキシ−ｎ−ブチル−アクリ
ラート及びメタクリラート、２−及び３−ｎ−ブトキシ
メチル−ｎ−ブチルアクリラート及びメタクリラート、
２−エトキシ−ｎ−プロピル、アクリラート及びメタク
リラート、３−エトキシヘキシルアクリラート、４−ｎ
−プロポキシ−ｎ−ヘキシルメタクリラート、５−メト
キシ−ｎ−ヘキシルアクリラート及びメタクリラート、
２−メチル−４−メトキシヘキシル−アクリラート及び
メタクリラートも適当である。分散液（Ａ）の共重合体
は、上述の如きモノマー（ｄ）をその１乃至４重量％重
合含有している。ことにテトラヒドロフルフリル−２−
アクリラート及びメタクリラートならびに２−及び３−
メトキシ−ｎ−ブチルアクリラート及びメタクリラート
が好ましい。
好ましい分散液Ａの共重合体は、さらに０乃至６重量％
の他のモノマー（ｄ）を重合含有し得る。このコモノマ
ー（ｄ）としてはテトラヒドロフルフリル−アクリラー
ト及びメタクリラートが好ましい。さらにアルコキシア
ルキラート、例えば３−メトキシ−ｎ−ブチル−アクリ
ラート及びメタクリラート、２−及び３−ｎ−ブトキシ
メチル−ｎ−ブチルアクリラート及びメタクリラート、
２−エトキシ−ｎ−プロピル、アクリラート及びメタク
リラート、３−エトキシヘキシルアクリラート、４−ｎ
−プロポキシ−ｎ−ヘキシルメタクリラート、５−メト
キシ−ｎ−ヘキシルアクリラート及びメタクリラート、
２−メチル−４−メトキシヘキシル−アクリラート及び
メタクリラートも適当である。分散液（Ａ）の共重合体
は、上述の如きモノマー（ｄ）をその１乃至４重量％重
合含有している。ことにテトラヒドロフルフリル−２−
アクリラート及びメタクリラートならびに２−及び３−
メトキシ−ｎ−ブチルアクリラート及びメタクリラート
が好ましい。
分散液（Ａ）中の共重合体において、モノマー（ａ）
の25重量％までは、エチルアクリラート、エチルメタク
リラート、ｎ−ブチルアクリラート及びメタクリラート
及び／或はｎ−ヘキシルアクリラート及び／或はメタク
リラート及び／或は１乃至12個の炭素原子を有するカル
ボン酸のビニルエステル、例えばビニルホルミアート、
ビニルアセタート、ビニルプロピオナート、ビニル−ｎ
−ブチラート及び／或はビニルラウラートで代替され得
る。
の25重量％までは、エチルアクリラート、エチルメタク
リラート、ｎ−ブチルアクリラート及びメタクリラート
及び／或はｎ−ヘキシルアクリラート及び／或はメタク
リラート及び／或は１乃至12個の炭素原子を有するカル
ボン酸のビニルエステル、例えばビニルホルミアート、
ビニルアセタート、ビニルプロピオナート、ビニル−ｎ
−ブチラート及び／或はビニルラウラートで代替され得
る。
ポリアクリラート分散液（Ａ）は、慣用のラジカル形
成重合開始剤、ならびに慣用の陰イオン性分散助剤及び
場合により追加的に非イオン性分散助剤を使用して、そ
れ自体慣用の方法で製造され得る。一般的にこの製造の
ためには、例えばアンモニウムペルスルファート、カリ
ウムペルスルファートのようなペルスルファートが使用
され、陰イオン性乳化剤として、モノマーに対して0.5
乃至2.5重量％の、炭素原子12乃至20個を有する硫酸化
アルコキシル化生成物、場合によりモノオレフィン不飽
和アルカノール、例えばラウリルアルコール、ステアリ
ルアルコール、オレイルアルコールもしくは抹香鯨油ア
ルコール、或は炭素原子12個乃至20個を有するモノオレ
フィン不飽和アルキルアミン或は８乃至12個の炭素原子
をアルキル基中に有するアルキルフェノール、例えばｎ
−オクチルフェノール、ｎ−ノニルフェノール、イソノ
ニルフェノールもしくはｎ−ドデシルフェノールが使用
される。この場合アルコキシ化のため、一般にエチレン
オンキシド及び／或はプロピレンオキシドを使用するこ
とができ、アルコキシ化度は脂肪酸アルコール、脂肪酸
アミンもしくはアルキルフェノール１モルに対してアル
キレンオキシド、ことにエチレンオキシド５乃至80モ
ル、ことに10乃至30モルである。この種のアルコキシル
化生成物は、一般にその水溶性アルカリ塩乃至アンモニ
ウム塩の形態で使用される。追加的に相当する非硫酸化
アルコキシル化脂肪酸アルコール、脂肪酸アミンもしく
はアルキルフェノールも使用され得る。ポリアクリラー
ト分散液（Ａ）を製造するための乳化重合は、一般に40
乃至90℃の慣用温度条件下に、好ましくはモノマー乃至
エマルジョン注入法で行われることができる。新規共重
合体のＫ値（DIN 53726により測定）は25℃、テトラヒ
ドロフラン0.5％溶液で一般に50乃至150、好ましくは75
乃至85である。
成重合開始剤、ならびに慣用の陰イオン性分散助剤及び
場合により追加的に非イオン性分散助剤を使用して、そ
れ自体慣用の方法で製造され得る。一般的にこの製造の
ためには、例えばアンモニウムペルスルファート、カリ
ウムペルスルファートのようなペルスルファートが使用
され、陰イオン性乳化剤として、モノマーに対して0.5
乃至2.5重量％の、炭素原子12乃至20個を有する硫酸化
アルコキシル化生成物、場合によりモノオレフィン不飽
和アルカノール、例えばラウリルアルコール、ステアリ
ルアルコール、オレイルアルコールもしくは抹香鯨油ア
ルコール、或は炭素原子12個乃至20個を有するモノオレ
フィン不飽和アルキルアミン或は８乃至12個の炭素原子
をアルキル基中に有するアルキルフェノール、例えばｎ
−オクチルフェノール、ｎ−ノニルフェノール、イソノ
ニルフェノールもしくはｎ−ドデシルフェノールが使用
される。この場合アルコキシ化のため、一般にエチレン
オンキシド及び／或はプロピレンオキシドを使用するこ
とができ、アルコキシ化度は脂肪酸アルコール、脂肪酸
アミンもしくはアルキルフェノール１モルに対してアル
キレンオキシド、ことにエチレンオキシド５乃至80モ
ル、ことに10乃至30モルである。この種のアルコキシル
化生成物は、一般にその水溶性アルカリ塩乃至アンモニ
ウム塩の形態で使用される。追加的に相当する非硫酸化
アルコキシル化脂肪酸アルコール、脂肪酸アミンもしく
はアルキルフェノールも使用され得る。ポリアクリラー
ト分散液（Ａ）を製造するための乳化重合は、一般に40
乃至90℃の慣用温度条件下に、好ましくはモノマー乃至
エマルジョン注入法で行われることができる。新規共重
合体のＫ値（DIN 53726により測定）は25℃、テトラヒ
ドロフラン0.5％溶液で一般に50乃至150、好ましくは75
乃至85である。
芳香族ケトンは、組成分（Ａ）中に含有される共重合
体に対して一般に0.1乃至５重量％、ことに0.2乃至2.5
重量％使用されるのが好ましい。ことに好ましいのはベ
ンゾフェノン及びその誘導体、例えば3,3′−ジメチル
−４−メトキシベンゾフェノン、３−及び４−ヒドロキ
シベンゾフェノン、ベンゾフェノン−２−カルボン酸、
ベンゾフェノン−３−カルボン酸、ベンゾフェノン−４
−カルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸アンヒドリド、3,3′4,4′−テトラ（tert−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンならびに２−,3
−及び４−フェニルベンゾフェノン、アルキル基に１乃
至10個の炭素原子を有する２−、３−及び４−アルキル
ベンゾフェノン、例えば２−、３−及び４−メチルベン
ゾフェノン、２−、３−及び４−ノニルベンゾフェノ
ン、ジアルキルベンゾフェノン、例えば4,4′−ジイソ
プロピルベンゾフェノン、ならびにオレフィン不飽和
の、ならびに水溶性のベンゾフェノン誘導体である。適
当な芳香族ケトン乃至−ベンゾフェノン誘導体は、さら
に２−アセトナフトン、４−アミノベンゾフェノン及び
4,4′−テトラメチルアミノベンゾフェンである。この
種の芳香族ケトンは、一般に微細粉懸濁液の形態、或は
多くの場合その純粋形態で、場合により加熱下に、一般
に撹拌下においてポリアクリラート分散液（Ａ）に添加
される。
体に対して一般に0.1乃至５重量％、ことに0.2乃至2.5
重量％使用されるのが好ましい。ことに好ましいのはベ
ンゾフェノン及びその誘導体、例えば3,3′−ジメチル
−４−メトキシベンゾフェノン、３−及び４−ヒドロキ
シベンゾフェノン、ベンゾフェノン−２−カルボン酸、
ベンゾフェノン−３−カルボン酸、ベンゾフェノン−４
−カルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸アンヒドリド、3,3′4,4′−テトラ（tert−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンならびに２−,3
−及び４−フェニルベンゾフェノン、アルキル基に１乃
至10個の炭素原子を有する２−、３−及び４−アルキル
ベンゾフェノン、例えば２−、３−及び４−メチルベン
ゾフェノン、２−、３−及び４−ノニルベンゾフェノ
ン、ジアルキルベンゾフェノン、例えば4,4′−ジイソ
プロピルベンゾフェノン、ならびにオレフィン不飽和
の、ならびに水溶性のベンゾフェノン誘導体である。適
当な芳香族ケトン乃至−ベンゾフェノン誘導体は、さら
に２−アセトナフトン、４−アミノベンゾフェノン及び
4,4′−テトラメチルアミノベンゾフェンである。この
種の芳香族ケトンは、一般に微細粉懸濁液の形態、或は
多くの場合その純粋形態で、場合により加熱下に、一般
に撹拌下においてポリアクリラート分散液（Ａ）に添加
される。
分散液にはさらに顔料及び顔料調剤、例えば酸化チタ
ン、酸化鉄及び着色ピグメント調剤が慣用量添加され得
る。
ン、酸化鉄及び着色ピグメント調剤が慣用量添加され得
る。
本発明方法において、ポリアクリラート分散液及び芳
香族ケトンから成り、場合により充填剤を含有する混合
物は、それ自体公知の方法で鉱物質基体上に施される。
この鉱物質基体としては、例えばアスベストセメント、
コンクリート、発泡コンクリートなどの成形体、例えば
板体、管体、ことに屋根がわらであって、塗布はこの成
形体、ことにコンクリート屋根がわらの未硬化状態にお
いても行われ得る。塗布はそれ自体公知の方法で、例え
ば噴霧、こて塗り、ローラ塗りなどで行れ、量は一般に
100乃至250g/m2が使用される。この塗布はことに装着さ
れたままのコンクリート屋根がわらに施されるのが重要
である。乾燥はそれ自体公知の方法で、室温乃至若干の
加熱下、例えば20乃至100℃、ことに50乃至80℃で行わ
れ得る。この場合、熱線輻射装置乃至加熱空気送風装置
が使用され得る。この場合塗布鉱物質基体は同時に紫外
線照射するのが好ましい。この場合不活性ガス雰囲気を
必要としない。装置としは慣用の紫外線照射装置、例え
ば80W/cm乃至160W/cm或はそれ以上の出力の低圧、中圧
或は高圧水銀灯が使用される。このような紫外線照射装
置を複数個使用するのが有利である。
香族ケトンから成り、場合により充填剤を含有する混合
物は、それ自体公知の方法で鉱物質基体上に施される。
この鉱物質基体としては、例えばアスベストセメント、
コンクリート、発泡コンクリートなどの成形体、例えば
板体、管体、ことに屋根がわらであって、塗布はこの成
形体、ことにコンクリート屋根がわらの未硬化状態にお
いても行われ得る。塗布はそれ自体公知の方法で、例え
ば噴霧、こて塗り、ローラ塗りなどで行れ、量は一般に
100乃至250g/m2が使用される。この塗布はことに装着さ
れたままのコンクリート屋根がわらに施されるのが重要
である。乾燥はそれ自体公知の方法で、室温乃至若干の
加熱下、例えば20乃至100℃、ことに50乃至80℃で行わ
れ得る。この場合、熱線輻射装置乃至加熱空気送風装置
が使用され得る。この場合塗布鉱物質基体は同時に紫外
線照射するのが好ましい。この場合不活性ガス雰囲気を
必要としない。装置としは慣用の紫外線照射装置、例え
ば80W/cm乃至160W/cm或はそれ以上の出力の低圧、中圧
或は高圧水銀灯が使用される。このような紫外線照射装
置を複数個使用するのが有利である。
これにより鉱物質基体上に良好な接着性の被覆が形成
され、これは良好な耐老化性、従って長期間の耐用寿命
を有する。本発明による新規方法で層形成された鉱物質
基体、ことにコンクリート屋根がわらは、その被覆層表
面は長期間にわたり自然気象条件下に被曝されても侵蝕
されず、仮にそのようになっても、さらに下層の芳香族
ケトンが露出され、太陽光線中に含まれる紫外線部分に
より新たに架橋され、これによりその下方の被覆層が有
好的に保護される。この「自動的補修」により本発明に
より処理された鉱物質基体、すなわち被覆層は、従来の
剤により処理された層よりも本質的に長い耐用寿命を有
する。
され、これは良好な耐老化性、従って長期間の耐用寿命
を有する。本発明による新規方法で層形成された鉱物質
基体、ことにコンクリート屋根がわらは、その被覆層表
面は長期間にわたり自然気象条件下に被曝されても侵蝕
されず、仮にそのようになっても、さらに下層の芳香族
ケトンが露出され、太陽光線中に含まれる紫外線部分に
より新たに架橋され、これによりその下方の被覆層が有
好的に保護される。この「自動的補修」により本発明に
より処理された鉱物質基体、すなわち被覆層は、従来の
剤により処理された層よりも本質的に長い耐用寿命を有
する。
以下の実施例に示される部及びパーセントは重量に関
するものである。またＫ値はすべてDIN 53726により25
℃、テトラヒドロフラン0.5％溶液で測定されたもので
あり、フィルム形成最低温度はDIN 53783によるもので
ある。
するものである。またＫ値はすべてDIN 53726により25
℃、テトラヒドロフラン0.5％溶液で測定されたもので
あり、フィルム形成最低温度はDIN 53783によるもので
ある。
実施例１ それ自体慣用の方法で、49部の２−エチルヘキシルア
クリラート、49部のメチルメタクリラート及び２部のア
クリル酸から、これにモノマーに対してそれぞれ0.4％
のナトリウムペルオクソジルスルファートを重合開始剤
として、また1.5％の市販の乳化剤を添加して、乳濁液
法により共重合体水性分散液を調製する。重合は80℃で
行われる。得られるポリアクリラートは80のＫ値を、分
散液は80℃のフィルム形成最低温度を有する。
クリラート、49部のメチルメタクリラート及び２部のア
クリル酸から、これにモノマーに対してそれぞれ0.4％
のナトリウムペルオクソジルスルファートを重合開始剤
として、また1.5％の市販の乳化剤を添加して、乳濁液
法により共重合体水性分散液を調製する。重合は80℃で
行われる。得られるポリアクリラートは80のＫ値を、分
散液は80℃のフィルム形成最低温度を有する。
このポリアクリラート分散液に、60℃において、ポリ
アクリラートに対して0.5％のベンゾフェノンを添加し
て撹拌する。混合物を水で希釈してポリアクリラート分
を40％とし、市販の消泡剤0.5％を添加する。
アクリラートに対して0.5％のベンゾフェノンを添加し
て撹拌する。混合物を水で希釈してポリアクリラート分
を40％とし、市販の消泡剤0.5％を添加する。
得られる層形成剤を噴射ピストル（約２バールの噴射
圧力）で「生」のコンクリート屋根がわらに噴射して12
0g/m2の被覆層を形成する。この「生」のコンクリート
屋根がわらは、砂（粒径0.3mm以下）及びセメント（割
合1:3）の水／セメント係数0.4のモルタルに３％に酸化
鉄ピグメントを添加して黒色に着色したものから押出し
成形した30×20×1.8cm寸法の板体である。養生硬化さ
せるため層形成したコンクリート屋根がわらを空調室内
において50％の相対温度で30分間保管し、次いで10W紫
外線灯で10分間露光し、約50％の相対温度で2.5時間、
約95％の相対温度で３時間保管した。次いで室温で24時
間保管し、被覆を60℃の水蒸気で24時間処理した。室温
で７日間乾燥した後、視覚的検査を行った、その結果は
後掲の表に一括表示される。
圧力）で「生」のコンクリート屋根がわらに噴射して12
0g/m2の被覆層を形成する。この「生」のコンクリート
屋根がわらは、砂（粒径0.3mm以下）及びセメント（割
合1:3）の水／セメント係数0.4のモルタルに３％に酸化
鉄ピグメントを添加して黒色に着色したものから押出し
成形した30×20×1.8cm寸法の板体である。養生硬化さ
せるため層形成したコンクリート屋根がわらを空調室内
において50％の相対温度で30分間保管し、次いで10W紫
外線灯で10分間露光し、約50％の相対温度で2.5時間、
約95％の相対温度で３時間保管した。次いで室温で24時
間保管し、被覆を60℃の水蒸気で24時間処理した。室温
で７日間乾燥した後、視覚的検査を行った、その結果は
後掲の表に一括表示される。
実施例２ それ自体公知の態様で、46部の２−エチルヘキシルア
クリラート、48部のメチルメタクリラート、４部のテト
ラヒドロフルフリル−２−アクリラート及び２部のアク
リル酸から共重合体50％水溶液を乳濁液法により製造す
る。この場合、重合開始剤としてナトリウムペルオクソ
ジスルファート（モノマーに対し0.4％）及び市販の乳
化剤（モノマーに対し1.5％）を使用し、85℃で重合さ
せた。得られる共重合体のＫ値は78、分散液のフィルム
形成最低温度は９℃である。
クリラート、48部のメチルメタクリラート、４部のテト
ラヒドロフルフリル−２−アクリラート及び２部のアク
リル酸から共重合体50％水溶液を乳濁液法により製造す
る。この場合、重合開始剤としてナトリウムペルオクソ
ジスルファート（モノマーに対し0.4％）及び市販の乳
化剤（モノマーに対し1.5％）を使用し、85℃で重合さ
せた。得られる共重合体のＫ値は78、分散液のフィルム
形成最低温度は９℃である。
60℃に加熱したポリアクリラート分散液に、ポリアク
リラートに対し0.4％のベンゾフェノンを添加して40％
ポリアクリラート含有分となるように希釈し、0.5％の
市販消泡剤を添加する。
リラートに対し0.4％のベンゾフェノンを添加して40％
ポリアクリラート含有分となるように希釈し、0.5％の
市販消泡剤を添加する。
実施例１におけると同様にして生コンクリート屋根が
わらに上記の剤を塗布する。その結果は後掲の表に示さ
れる。
わらに上記の剤を塗布する。その結果は後掲の表に示さ
れる。
実施例３ 53部の２−エチルヘキシルアクリラート、40部のスチ
レン、３部のアクリル酸、２部のアクリルアミド及び２
部のテトラヒドロフルフリル−２−メタクリラートから
乳化共重合体の50％水性分散液を製造する。この場合、
開始剤としてモノマーに対し0.4％のナトリウムペルオ
クソジスルファートと、モノマーに対し2.0％の乳化剤
を添加し、85℃で重合させる。得られた分散液は約０℃
のフィルム形成最低温度を示し、重合体は90のＫ値を示
す。
レン、３部のアクリル酸、２部のアクリルアミド及び２
部のテトラヒドロフルフリル−２−メタクリラートから
乳化共重合体の50％水性分散液を製造する。この場合、
開始剤としてモノマーに対し0.4％のナトリウムペルオ
クソジスルファートと、モノマーに対し2.0％の乳化剤
を添加し、85℃で重合させる。得られた分散液は約０℃
のフィルム形成最低温度を示し、重合体は90のＫ値を示
す。
ポリアクリラート分散液を水で40％に希釈し、0.5部
の２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフェノキシ）
−N,N,N−トリメチル−１−プロパンアンモニウムクロ
リドモノヒドラート及び0.5部の市販消泡剤を添加し、
実施例１におけると同様に生コンクリート屋根がわらに
塗布する。結果は同様に下表に示される。
の２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイルフェノキシ）
−N,N,N−トリメチル−１−プロパンアンモニウムクロ
リドモノヒドラート及び0.5部の市販消泡剤を添加し、
実施例１におけると同様に生コンクリート屋根がわらに
塗布する。結果は同様に下表に示される。
実施例４ 40部のスチレン、50部の２−エチル−ヘキシルアクリ
ラート、２部のアクリルアミド、２部のアクリル酸、３
部のテトラヒドロフルフリル−２−アクリラート及び３
部の市販共重合可能ベンゾフェノン誘導体から、実施例
３におけると同様にして、乳化共重合体の50％水生分散
液を得る。生成分散液のフィルム形成最低温度は約０
℃、ポリアクリラートＫ値は87を示す。
ラート、２部のアクリルアミド、２部のアクリル酸、３
部のテトラヒドロフルフリル−２−アクリラート及び３
部の市販共重合可能ベンゾフェノン誘導体から、実施例
３におけると同様にして、乳化共重合体の50％水生分散
液を得る。生成分散液のフィルム形成最低温度は約０
℃、ポリアクリラートＫ値は87を示す。
水で40％に希釈されたポリアクリラート分散液に市販
消泡剤0.5部を添加する。これを実施例１におけると同
様にして生コンクリート屋根がわらに塗布する。結果は
以下の表に示される。
消泡剤0.5部を添加する。これを実施例１におけると同
様にして生コンクリート屋根がわらに塗布する。結果は
以下の表に示される。
実施例５ 実施例４におけるようにして、ただし共重合可能ベン
ゾフェノン誘導体の代りに、ポリアクリラートに対し１
％のベンゾフェノンを添加する。これにより達成される
結果は以下の表に示される。
ゾフェノン誘導体の代りに、ポリアクリラートに対し１
％のベンゾフェノンを添加する。これにより達成される
結果は以下の表に示される。
実施例６ 実施例２におけると同様にして、ただし１％のベンゾ
フェノンの代りに（ａ）1.5％のベンゾフェノン乃至
（ｂ）1.5％の４−ヒドロキシベンゾフェノン乃至
（ｃ）２％のチオキサントンを添加する。実施例２と同
様に処理し、その結果は下表に示される。
フェノンの代りに（ａ）1.5％のベンゾフェノン乃至
（ｂ）1.5％の４−ヒドロキシベンゾフェノン乃至
（ｃ）２％のチオキサントンを添加する。実施例２と同
様に処理し、その結果は下表に示される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０９Ｄ 4/02 ＰＤＱ Ｃ０９Ｄ 4/02 ＰＤＱ ＰＤＲ ＰＤＲ (72)発明者 ベルンハルト、ドッツアウエル ドイツ連邦共和国、6701、マクスドル フ、ヴェーラーシュトラーセ、12 エフ
Claims (3)
- 【請求項１】鉱物質基体の表面にポリアクリラート水性
分散液で層形成し、この形成層を場合により加熱下に乾
燥することにより鉱物質基体のブルーミング性向を阻止
する方法において、（Ａ）（ａ）３乃至20個の炭素原子
を有し、３級CH基を有するアルカノールの（メタ）アク
リル酸エステル20乃至70重量％、（ｂ）スチレン、α−
メチルスチレン、メタクリル酸メチルエステル、（メ
タ）アクリル酸−tert−ブチルエステル及び／或は（メ
タ）アクリルニトリル30乃至60重量％及び（ｃ）３乃至
５個の炭素原子を有し、モノ及び／或はジカルボン酸及
び／或は場合によりＮ原子で１乃至４個の炭素原子を有
するアルキル基により置換されているアミド0.2乃至７
％から構成される、−30乃至＋30℃のフィルム形成最低
温度を有する共重合体の20乃至65重量％水性分散液と、
（Ｂ）上記組成分（Ａ）中に含有される共重合体量に対
して0.1乃至５重量％の芳香族ケトンとから成る混合物
を上記層形成のために使用し、この形成層をその乾燥の
際に、かつ／もしくはその後に紫外線で照射することを
特徴とする方法。 - 【請求項２】請求項（１）による方法において、上記水
性懸濁液（Ａ）が−20乃至＋10℃のフィルム形成最低温
度を有し、その共重合体が（ａ）６乃至12個の炭素原子
を有し、３級CH基を有するアルカノールの（メタ）アク
リル酸エステル20乃至70重量％、（ｂ）スチレン、α−
メチルスチレン及び／或はメタクリル酸メチルエステル
30乃至60重量％、（ｃ）３乃至５個の炭素原子を有する
モノ及び／或はジカルボン酸、及び／或は場合によりＮ
原子で１乃至４個の炭素原子を有するアルキル基により
置換されているアミド１乃至４重量％及び（ｄ）テトラ
ヒドロフルフリル（メタ）アクリラート及び／或はアル
コキシ基が１乃至４個の炭素原子を有し、かつ中間に位
置するCH2基と結合されているアルコキシアルキル（メ
タ）アクリラート０乃至６重量％から構成されているこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項３】請求項（１）或は（２）による方法におい
て、層形成のために使用される混合物が、組成分（Ａ）
に含有される共重合体に対して0.2乃至2.5重量％のベン
ゾフェノン及び／或はベンゾフェノン誘導体を組成分
（Ｂ）として含有することを特徴とする方法。
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|---|---|---|---|
| DE3827975.4 | 1988-08-18 | ||
| DE19883827975 DE3827975A1 (de) | 1988-08-18 | 1988-08-18 | Verfahren zur verhinderung von ausblueherscheinungen auf mineralischen substraten |
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|---|---|
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Country Status (8)
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|---|---|---|---|---|
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| DE4021502A1 (de) * | 1990-07-05 | 1992-01-16 | Basf Ag | Mit copolymerfilmen beschichteter betonstein |
| DE4041466A1 (de) * | 1990-12-22 | 1992-06-25 | Basf Ag | Polymerbeschichteter betonstein |
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| DE4237014C2 (de) * | 1992-11-02 | 1995-05-24 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung eines Pyrolyseproduktes aus Polyacrylnitril und dessen Copolymeren, mit dem Verfahren erhältliche Pyrolyseprodukte und deren Verwendung |
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| DE102007033595A1 (de) | 2007-07-19 | 2009-01-22 | Celanese Emulsions Gmbh | Polyvinylesterdispersionen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
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