JP2622559B2 - 高純度銅の製造方法 - Google Patents
高純度銅の製造方法Info
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- JP2622559B2 JP2622559B2 JP62311005A JP31100587A JP2622559B2 JP 2622559 B2 JP2622559 B2 JP 2622559B2 JP 62311005 A JP62311005 A JP 62311005A JP 31100587 A JP31100587 A JP 31100587A JP 2622559 B2 JP2622559 B2 JP 2622559B2
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- ppm
- sulfur
- electrolysis
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （発明の技術分野） 本発明は7N以上の高純度銅の製造方法に関する。
（発明の従来技術） 従来、高純度銅を得るため硫酸浴では、チオール系樹
脂で脱銀して、得られる銅は、銀0.02ppm、硫黄2ppmで
硫黄が高くより好ましい電気銅が得られなかった。
脂で脱銀して、得られる銅は、銀0.02ppm、硫黄2ppmで
硫黄が高くより好ましい電気銅が得られなかった。
また、硝酸浴で、高純度銅を得る方法では、浄液処理
工程で樹脂の破壊の問題があった。
工程で樹脂の破壊の問題があった。
いずれの方法においても一長一短があり、99.9999％
の銅は得られても銀、硫黄ともに十分低い99.99999％の
高純度電気銅は得られていない。
の銅は得られても銀、硫黄ともに十分低い99.99999％の
高純度電気銅は得られていない。
本発明者等は鋭意研究した結果、上記の問題を解決す
べく下記の発明をなした。
べく下記の発明をなした。
（発明の構成） 本発明は、樹脂、溶媒抽出及び又は金属銅によって浄
液処理し乍ら第１回目の電気銅の隔膜電解を実施し、銀
＜0.01ppm、硫黄２〜8ppmを含有する一次精製銅を得た
後、該一次精製銅を陽極とし硝酸銅浴で第２回目の隔膜
再電解をすることを特徴とする、銀＜0.01ppm、硫黄＜
0.05ppm、鉄＜0.05ppm、残部銅および不可避不純物から
なる高純度銅の製造方法に関する。
液処理し乍ら第１回目の電気銅の隔膜電解を実施し、銀
＜0.01ppm、硫黄２〜8ppmを含有する一次精製銅を得た
後、該一次精製銅を陽極とし硝酸銅浴で第２回目の隔膜
再電解をすることを特徴とする、銀＜0.01ppm、硫黄＜
0.05ppm、鉄＜0.05ppm、残部銅および不可避不純物から
なる高純度銅の製造方法に関する。
（発明の具体的説明） 本発明で原料として用いる銅は、銀７〜12ppm、硫黄
２〜6ppmである通常の電気銅である。この電気銅中の不
純物には電解液中に溶解濃縮されるものと微小固形物で
液中に懸濁するものとがあるが、隔膜電解と各種樹脂及
び又は溶媒抽出さらにメタリック銅、塩素イオン添加等
によって脱銀主体に精製する。電解浴は、硝酸浴、硫酸
浴等問わないが、好ましくは浄液工程の樹脂、溶媒等を
破損しない電解浴、例えば硫酸銅、ピロリン酸銅、シア
ン銅、酢酸銅浴等を用いる。硫酸濃度は20〜200g/、
硝酸であればPH1〜２、銅濃度は25〜80g/、電流密度
は、0.5〜5A/dm2、SV＝２〜８、給液量は陰極面1dm2当
たり２〜5ml/分で行う。樹脂、溶媒抽出及び又は金属銅
によって浄液し乍ら隔膜電解を実施し、銀＜0.01ppm、
硫黄２〜8ppmの一次精製電気銅を得る。この電解におい
ては、平滑面を得るための有機高分子系添加剤の使用も
好ましい。
２〜6ppmである通常の電気銅である。この電気銅中の不
純物には電解液中に溶解濃縮されるものと微小固形物で
液中に懸濁するものとがあるが、隔膜電解と各種樹脂及
び又は溶媒抽出さらにメタリック銅、塩素イオン添加等
によって脱銀主体に精製する。電解浴は、硝酸浴、硫酸
浴等問わないが、好ましくは浄液工程の樹脂、溶媒等を
破損しない電解浴、例えば硫酸銅、ピロリン酸銅、シア
ン銅、酢酸銅浴等を用いる。硫酸濃度は20〜200g/、
硝酸であればPH1〜２、銅濃度は25〜80g/、電流密度
は、0.5〜5A/dm2、SV＝２〜８、給液量は陰極面1dm2当
たり２〜5ml/分で行う。樹脂、溶媒抽出及び又は金属銅
によって浄液し乍ら隔膜電解を実施し、銀＜0.01ppm、
硫黄２〜8ppmの一次精製電気銅を得る。この電解におい
ては、平滑面を得るための有機高分子系添加剤の使用も
好ましい。
一次精製電気銅を硝酸銅浴の隔膜電解で再電解し高純
度電気銅が得られる。電解条件はCu25〜80g/、pH＝1.
0〜2.0、浴は硝酸等である。電流密度は0.5〜5A/dm2、
浴温は10〜40℃、給液量は陰極面1dm2当たり1.0〜3ml/
分である。該電気銅は銀＜0.01ppm、硫黄＜0.05ppm、鉄
＜0.05ppm、ニッケル＜0.01ppm、その他の成分も分析定
量下限以下 （〈0.0nppm）の極めて高純度品である。
度電気銅が得られる。電解条件はCu25〜80g/、pH＝1.
0〜2.0、浴は硝酸等である。電流密度は0.5〜5A/dm2、
浴温は10〜40℃、給液量は陰極面1dm2当たり1.0〜3ml/
分である。該電気銅は銀＜0.01ppm、硫黄＜0.05ppm、鉄
＜0.05ppm、ニッケル＜0.01ppm、その他の成分も分析定
量下限以下 （〈0.0nppm）の極めて高純度品である。
（発明の効果） （１）銀＜0.01ppm、硫黄＜0.05ppm、鉄＜0.05ppm、そ
の他の成分も分析定量下限以下（〈0.0nppm）の極めて
高純度品が得られる。
の他の成分も分析定量下限以下（〈0.0nppm）の極めて
高純度品が得られる。
（２）第１回目の再電解で十分に銀等を除けば、第２回
目の再電解では樹脂等での浄液を実施しないので浄液処
理関連のトラブルは全くない。
目の再電解では樹脂等での浄液を実施しないので浄液処
理関連のトラブルは全くない。
（３）第１回目の浴を硫酸浴とすれば樹脂の破壊がな
く、効率的に銀の除去が行われ得る。
く、効率的に銀の除去が行われ得る。
（４）高純度であるため、3R値が、10,000以上と極めて
高い値を示す銅材を提供し得る。これにより、オーディ
オ線、ビデオ、テレビ等の画像用線、超電導線、ボンデ
ィングワイヤー等好ましく用いられる銅材を簡易、確実
に得ることができる。
高い値を示す銅材を提供し得る。これにより、オーディ
オ線、ビデオ、テレビ等の画像用線、超電導線、ボンデ
ィングワイヤー等好ましく用いられる銅材を簡易、確実
に得ることができる。
実施例 １ 通常の電気銅、銀10ppm、硫黄4ppm、鉄0.5ppmのもの
を陽極とし、陰極チタン板を隔膜室（陰極室）に配置
し、硫酸濃度150g/、銅50g/の電解浴で、陽極液を
キレート樹脂塔（樹脂；ミヨシ油脂（株）エポラスＺ−
７）にて浄液したのち、陰極室に給液する液循環で電解
を行った。この電解は電流密度ＤA、Dkとも1.0A/dm2、
浴液50〜55℃、浄液のSV値５、陰極面1dm2当り3.6ml/分
の給液量で10日間実施し、一次精製電気銅を得た。該電
気銅中の銀〈0.01ppm、硫黄6ppmであった。この一次精
製電気銅を陽極とし、陰極チタン板を陰極室に配して銅
濃度 50g/、pH1.5〜1.7の硝酸銅浴で隔膜電解を実施
した。この電解は、電流密度ＤA、Dkとも1A/dm2、浴液2
5〜30℃、給液量陰極面1dm2当り1.8ml/分とし、10日間
実施した。得られた高純度銅は、銀＜0.01ppm、硫黄＜
0.05ppm、鉄＜0.05ppm、その他の成分も定量下限以下
（〈0.0nppm）で、極めて高品質の高純度銅であった。
を陽極とし、陰極チタン板を隔膜室（陰極室）に配置
し、硫酸濃度150g/、銅50g/の電解浴で、陽極液を
キレート樹脂塔（樹脂；ミヨシ油脂（株）エポラスＺ−
７）にて浄液したのち、陰極室に給液する液循環で電解
を行った。この電解は電流密度ＤA、Dkとも1.0A/dm2、
浴液50〜55℃、浄液のSV値５、陰極面1dm2当り3.6ml/分
の給液量で10日間実施し、一次精製電気銅を得た。該電
気銅中の銀〈0.01ppm、硫黄6ppmであった。この一次精
製電気銅を陽極とし、陰極チタン板を陰極室に配して銅
濃度 50g/、pH1.5〜1.7の硝酸銅浴で隔膜電解を実施
した。この電解は、電流密度ＤA、Dkとも1A/dm2、浴液2
5〜30℃、給液量陰極面1dm2当り1.8ml/分とし、10日間
実施した。得られた高純度銅は、銀＜0.01ppm、硫黄＜
0.05ppm、鉄＜0.05ppm、その他の成分も定量下限以下
（〈0.0nppm）で、極めて高品質の高純度銅であった。
Claims (1)
- 【請求項１】樹脂、溶媒抽出及び又は金属銅によって浄
液処理し乍ら第１回目の電気銅の隔膜再電解を実施し、
銀＜0.01ppm、硫黄２〜8ppmを含有する一次精製銅を得
た後、該一次精製銅を陽極とし硝酸銅浴で第２回目の隔
膜再電解をすることを特徴とする、銀＜0.01ppm、硫黄
＜0.05ppm、鉄＜0.05ppm、残部銅および不可避不純物か
らなる高純度銅の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62311005A JP2622559B2 (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 高純度銅の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62311005A JP2622559B2 (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 高純度銅の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01152291A JPH01152291A (ja) | 1989-06-14 |
| JP2622559B2 true JP2622559B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=18011978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62311005A Expired - Lifetime JP2622559B2 (ja) | 1987-12-10 | 1987-12-10 | 高純度銅の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2622559B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010038642A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 日鉱金属株式会社 | 高純度銅又は高純度銅合金スパッタリングターゲット、同スパッタリングターゲットの製造方法及び高純度銅又は高純度銅合金スパッタ膜 |
| WO2010038641A1 (ja) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | 日鉱金属株式会社 | 高純度銅及び電解による高純度銅の製造方法 |
| JP6066007B1 (ja) * | 2016-05-10 | 2017-01-25 | 日立金属株式会社 | 精製銅の製造方法及び電線の製造方法 |
| JP6066010B1 (ja) * | 2016-06-28 | 2017-01-25 | 日立金属株式会社 | 精製銅並びに電線の製造方法 |
| JP7084541B1 (ja) * | 2021-11-29 | 2022-06-14 | Ｊｘ金属株式会社 | 易破砕性電析銅 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4033838A (en) * | 1976-05-19 | 1977-07-05 | Kawecki Berylco Industries, Inc. | Recovery of copper from waste nitrate liquors by electrolysis |
| JPS5395804A (en) * | 1977-02-01 | 1978-08-22 | Nippon Tungsten | Separating and recovering of valuable metal |
| JPS6270589A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-01 | Nippon Mining Co Ltd | 高純度電気銅の製造法 |
| JPH034629A (ja) * | 1989-05-31 | 1991-01-10 | Nec Corp | 光中継器 |
-
1987
- 1987-12-10 JP JP62311005A patent/JP2622559B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01152291A (ja) | 1989-06-14 |
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