JPS63118024A - 高純度銅の製造方法 - Google Patents
高純度銅の製造方法Info
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- JPS63118024A JPS63118024A JP26267086A JP26267086A JPS63118024A JP S63118024 A JPS63118024 A JP S63118024A JP 26267086 A JP26267086 A JP 26267086A JP 26267086 A JP26267086 A JP 26267086A JP S63118024 A JPS63118024 A JP S63118024A
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Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、銀イオンを含む水溶液の脱銀又は銀の回収方
法に関する。
法に関する。
(従来の技術及び問題点)
従来、水溶液中の銀の除去又は回収方法として、簡易簡
便な方法が、提供されていない。さらに詳しくは、例え
ば高純度銅を得るためには、その電解液中の好ましいA
gの除去方法が望まれている。
便な方法が、提供されていない。さらに詳しくは、例え
ば高純度銅を得るためには、その電解液中の好ましいA
gの除去方法が望まれている。
通常の電気銅中には、10ppm前後の銀が含まれてい
る。この銀は、電気銅の溶解時には溶存銀となり、銅イ
オン還元時には優先的に還元される。従って、通常の電
気銅を溶解した銅塩1容液は銀含有量がlppm以下の
金属銅及び又は銅化合物を得るための出発原料となる銅
塩水溶液とならない。
る。この銀は、電気銅の溶解時には溶存銀となり、銅イ
オン還元時には優先的に還元される。従って、通常の電
気銅を溶解した銅塩1容液は銀含有量がlppm以下の
金属銅及び又は銅化合物を得るための出発原料となる銅
塩水溶液とならない。
すなわち、電気銅を溶解して得られる銅塩水溶液中には
、銅1度約50g/’Qのときで約o、smg/Qの銀
が溶存している。この含銀水溶液にa丑の塩化物例えば
塩酸添加で脱銀処理を行っても銀濃度は0.05mg/
Q程度であり、これを原料として得られる金属銅及び又
は銅化合物中の銀ヲlppm以下にすることは困難であ
る。近年技術の高度化に伴い、それらに利用される基幹
素材である謂についても高純度化の要請が強まっており
。
、銅1度約50g/’Qのときで約o、smg/Qの銀
が溶存している。この含銀水溶液にa丑の塩化物例えば
塩酸添加で脱銀処理を行っても銀濃度は0.05mg/
Q程度であり、これを原料として得られる金属銅及び又
は銅化合物中の銀ヲlppm以下にすることは困難であ
る。近年技術の高度化に伴い、それらに利用される基幹
素材である謂についても高純度化の要請が強まっており
。
不純物としての銀品位の低下も強く望まれている。
(発明の構成)
上記問題点を解決するため、抑々検討した結果含銀塩水
溶液を金属銅と接触させることによって溶存銀濃度を数
μg/Qに低下させ得ることを見いだした。また金属銅
との接触に先立ち塩素イオンを添加することによって更
に低下させ得ることを見い出した。
溶液を金属銅と接触させることによって溶存銀濃度を数
μg/Qに低下させ得ることを見いだした。また金属銅
との接触に先立ち塩素イオンを添加することによって更
に低下させ得ることを見い出した。
(発明の詳細な説明)
以下本発明について、具体的に説明する。
本発明の対象とする液は、銀を含有する液である。例え
ば、メッキ液、写真の現像液、銅の電解液等である。従
って、硫酸溶液、硝酸溶液等の液中の銀の除去方法であ
る。
ば、メッキ液、写真の現像液、銅の電解液等である。従
って、硫酸溶液、硝酸溶液等の液中の銀の除去方法であ
る。
上記対象の中で、銅の電解液中の(′P液六方法関して
、本発明を具体的に説明する。
、本発明を具体的に説明する。
上記゛1ヒ解液としては、通常の銅の電解精錬の場合だ
けでなく、好ましい態様としては、高純度銅を製造する
ための再電解における電解液である。
けでなく、好ましい態様としては、高純度銅を製造する
ための再電解における電解液である。
またさらには、電気銅を酸性溶液で再溶解した含銅溶液
をも含むものである。
をも含むものである。
電解液としては、例えば銅の濃度は30〜60g/(i
、〕IJ−(7)硫酸は20〜200g/Q、銀の濃度
は0.02〜0.1g/12程度である。
、〕IJ−(7)硫酸は20〜200g/Q、銀の濃度
は0.02〜0.1g/12程度である。
前記の液に金属銅を単に接触するのみで銀が晶出し、こ
れをか過処理等で除去することにより、脱銀が効率的に
行われろ。
れをか過処理等で除去することにより、脱銀が効率的に
行われろ。
この場合、金属銅は表面積0.1〜0.5m’/Qであ
ることが好ましい。液との接触面積をできる限り得るた
めである。
ることが好ましい。液との接触面積をできる限り得るた
めである。
また、反応上は、銅粉でもよいが、未反応の金属銅が脱
銀された銀と混ってしまうため使用上好ましくない。従
って、銅の細線であることが好ましい。
銀された銀と混ってしまうため使用上好ましくない。従
って、銅の細線であることが好ましい。
脱銀処理の時間は、30〜90分前後である。
さらに、脱銀効率を高めるために塩化物、好ましくは塩
酸を適当量添加しておくことが好ましい。
酸を適当量添加しておくことが好ましい。
このように脱銀された銅溶液を電解することにより、銀
の少ない電気銅が回収できる。
の少ない電気銅が回収できる。
通常の電気鋼であればAgは10ppm前後であるが、
本発明により得られる電気銅は、銀濃度が0.05”0
.3 p p mと極めて低い値となる。
本発明により得られる電気銅は、銀濃度が0.05”0
.3 p p mと極めて低い値となる。
実施例1
銀0.5■/Q、銅50 g / Q 、遊離硫酸50
g/flの含銀硫酸銅水溶液をIQ副調整た。虚1酸純
分0.1gを添加し、混合したのち直径0.01111
11の金属銅線を表面積が約0 * 2 m 2となる
様に添加し、室温にて100m12/分の循環量で約6
0分間脱銀処理を行った。引き続きミリポアフィルタ−
で濾過し、低銀a酸銅水溶液を得た。銀1度は0.00
2■/Qであった。更に、上記低銀硫酸銅水、@液を濃
縮し、5水塩の硫酸銅の結晶を得た。結晶中の銀含有量
はO,lppm以下であった。
g/flの含銀硫酸銅水溶液をIQ副調整た。虚1酸純
分0.1gを添加し、混合したのち直径0.01111
11の金属銅線を表面積が約0 * 2 m 2となる
様に添加し、室温にて100m12/分の循環量で約6
0分間脱銀処理を行った。引き続きミリポアフィルタ−
で濾過し、低銀a酸銅水溶液を得た。銀1度は0.00
2■/Qであった。更に、上記低銀硫酸銅水、@液を濃
縮し、5水塩の硫酸銅の結晶を得た。結晶中の銀含有量
はO,lppm以下であった。
実施例2
銀0 、5 mg / Q、銅50 g / Q、遊離
硝酸1.0g/Qの含銀硝酸銅水溶液をIQ副調整た。
硝酸1.0g/Qの含銀硝酸銅水溶液をIQ副調整た。
塩酸純分0.1gを添加し、混合したのち、実施例1同
様に脱銀処理を行って、低銀硝酸銅水溶液を得た。銀濃
度はO,OO3mg/’12であった。
様に脱銀処理を行って、低銀硝酸銅水溶液を得た。銀濃
度はO,OO3mg/’12であった。
実施例3
銀0.5mg/f1.fi450g/Q、遊離硫酸50
g/Qの含銀硫酸銅水溶液をIQ副調整た。この液に、
実施例1同様金属銅線を入れ脱銀処理を行って、低銀硫
酸銅水溶液を得た、銀1度は0.004mg/Qであっ
た。
g/Qの含銀硫酸銅水溶液をIQ副調整た。この液に、
実施例1同様金属銅線を入れ脱銀処理を行って、低銀硫
酸銅水溶液を得た、銀1度は0.004mg/Qであっ
た。
次いで白金メッキチタン板を陽極とし、純チタン板を陰
極として、電解採取を行った。得られた電気銅中の銀含
有量はQ、25ppmであった。
極として、電解採取を行った。得られた電気銅中の銀含
有量はQ、25ppmであった。
実施例4
通常の電気鋼(99,99%Cu、 13ppmAg)
を再電解を行い、その電解液中に含まれるAgを除去す
l\く電解液の一部を抜き出し、塩酸を電解液IQ当た
り0.1gになるように添加し、銅の極細線を前記液に
接触させ銀を晶出させた。その後ミリポアフィルタ−で
濾過した後、電解槽に戻し電M、夜中の銀の濃度を低く
保持しつつ、再電解を継続した。再電解後得られた電気
胴中の銀はO,!5ppmと低い値であった。
を再電解を行い、その電解液中に含まれるAgを除去す
l\く電解液の一部を抜き出し、塩酸を電解液IQ当た
り0.1gになるように添加し、銅の極細線を前記液に
接触させ銀を晶出させた。その後ミリポアフィルタ−で
濾過した後、電解槽に戻し電M、夜中の銀の濃度を低く
保持しつつ、再電解を継続した。再電解後得られた電気
胴中の銀はO,!5ppmと低い値であった。
比較例
銀0.5+ng/Q、銅50 g / Q、遊離硫酸5
0g/Qの含銀硫酸銅水溶液をIQ副調整、塩酸純分0
.1gを添加し、脱銀処理を行った。引き、続きミリポ
アフィルタ−で濾過し、脱iU f、h液を得た。
0g/Qの含銀硫酸銅水溶液をIQ副調整、塩酸純分0
.1gを添加し、脱銀処理を行った。引き、続きミリポ
アフィルタ−で濾過し、脱iU f、h液を得た。
溶存銀は0.05mg/Qであった。更に、この税銀後
肢を用いて、実施例3同様電解採取を行った。
肢を用いて、実施例3同様電解採取を行った。
得られた電気銅中の銀含有量は1.2ppmであった・
(発明の効果)
以上説明したように、本発明では、含銀銅水溶液を金属
銅と接触させるたけで溶存銀濃度を大riに低下せしめ
られる。すなわち、含銀量かIPPm以下の金属銅及び
又は銅化合物が得られる。更に、金属銅との接触に先立
ち塩素イオンを添加することによってその度合は大1↑
Jとなる。
銅と接触させるたけで溶存銀濃度を大riに低下せしめ
られる。すなわち、含銀量かIPPm以下の金属銅及び
又は銅化合物が得られる。更に、金属銅との接触に先立
ち塩素イオンを添加することによってその度合は大1↑
Jとなる。
特に高純度鋼を得る場合のAgの低減対策の方法として
好適である。
好適である。
また、銀の有効な回収方法としても好ましく用いられる
。
。
Claims (2)
- (1)含銀溶液を金属銅と接触させることを特徴とする
脱銀又は銀の回収方法。 - (2)金属銅との接触に先立ち塩化物を添加することを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の脱銀又は銀の回
収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26267086A JPS63118024A (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | 高純度銅の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26267086A JPS63118024A (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | 高純度銅の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63118024A true JPS63118024A (ja) | 1988-05-23 |
JPH0527695B2 JPH0527695B2 (ja) | 1993-04-22 |
Family
ID=17378970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26267086A Granted JPS63118024A (ja) | 1986-11-06 | 1986-11-06 | 高純度銅の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63118024A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06172881A (ja) * | 1992-12-07 | 1994-06-21 | Japan Energy Corp | 脱銀又は銀の回収方法 |
JP2015183204A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銀の回収方法 |
JP2018009250A (ja) * | 2017-09-13 | 2018-01-18 | Jx金属株式会社 | 銀の回収方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS527322A (en) * | 1975-07-08 | 1977-01-20 | Stanley Electric Co Ltd | Process for recovery of noble metals from waste liquid |
JPS5743628A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-11 | Kousuke Kawabata | Water purifying , oxygen enriching and temperature raising apparatus for fish breeding pond |
-
1986
- 1986-11-06 JP JP26267086A patent/JPS63118024A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS527322A (en) * | 1975-07-08 | 1977-01-20 | Stanley Electric Co Ltd | Process for recovery of noble metals from waste liquid |
JPS5743628A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-11 | Kousuke Kawabata | Water purifying , oxygen enriching and temperature raising apparatus for fish breeding pond |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06172881A (ja) * | 1992-12-07 | 1994-06-21 | Japan Energy Corp | 脱銀又は銀の回収方法 |
JP2015183204A (ja) * | 2014-03-20 | 2015-10-22 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銀の回収方法 |
JP2018009250A (ja) * | 2017-09-13 | 2018-01-18 | Jx金属株式会社 | 銀の回収方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0527695B2 (ja) | 1993-04-22 |
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