JP4842426B2 - 高純度銀の製造方法 - Google Patents
高純度銀の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4842426B2 JP4842426B2 JP2000270971A JP2000270971A JP4842426B2 JP 4842426 B2 JP4842426 B2 JP 4842426B2 JP 2000270971 A JP2000270971 A JP 2000270971A JP 2000270971 A JP2000270971 A JP 2000270971A JP 4842426 B2 JP4842426 B2 JP 4842426B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silver
- purity
- producing high
- raw material
- ppm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/44—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical processes
- C22B3/46—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical processes by substitution, e.g. by cementation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B11/00—Obtaining noble metals
- C22B11/04—Obtaining noble metals by wet processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/04—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching
- C22B3/06—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes by leaching in inorganic acid solutions, e.g. with acids generated in situ; in inorganic salt solutions other than ammonium salt solutions
- C22B3/065—Nitric acids or salts thereof
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Geology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、高純度銀の製造方法に関し、特に低品位の銀含有原料から99.999%以上の純度をもつ高純度銀を安価に製造できる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、高純度銀は粗銀原料を電解精製法により製造されている。例えば、鉛電解のアノードスライム等を出発原料とし、これに含有される銀を濃縮して得た品位の低い粗銀板を陽極とし、硝酸を含有する硝酸銀溶液を電解液として電解し、陰極板に銀を析出させて製造している。
この粗銀板は98〜99%(重量%、以下同様)程度の銀と、その他金、白金、パラジウム及びビスマス、銅、鉄、テルル等の微量不純物を含有している。
電解精製においては、粗銀板から銀が溶解するにともなって、上記不純物として含まれるパラジウム、ビスマス、銅、鉄、テルル等の微量不純物も電解液中に溶け出し、電解液中のこれらの不純物濃度が増加する。
【0003】
このような重金属の不純物濃度が増加すると、析出する銀の純度が低下したり、又は析出した銀と不純物が置換して銀の純度が低下するという問題を生じた。
したがって、このような重金属による不純物濃度増加を防止するために、電解尾液の清浄化処理が必要であった。
この電解尾液の清浄化処理は、液に酸化銀を添加してpHを上げ、適当なpHに経験的に調製し、電解尾液中の不純物(重金属)を水酸化物として沈殿除去していた。しかし、このような経験に基づく作業の場合に、必ずしも適切なpH調製が行われているとは言えない。
このようなことから、従来の上記方法では99.99%以上の高純度銀を安定して得ることはできず、また銀の収率も低くなるという問題があった。
【0004】
上記の問題はpH調製が厳密に行われていないことが原因であると考えられ、特別に工夫したpH計を用いて酸化銀添加による2段階のpH調製を行い、厳重な液管理を行って高純度銀を製造する方法が提案された(特開2000−38692)。 しかし、上記の方法は、コスト高となる電解精製法を用いるということ以外に、さらに液の清浄化工程が必要であり、またさらに純度を上げようとすれば、pH計を用いる等の手段により厳密な液管理が必要であるという工程の複雑さの問題があり、それだけよりコスト高になるという欠点を有していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の問題を解決するために、上記のような電解精製方法を用いずに、99.999%以上の高純度銀を簡単な工程でかつ低コストで製造できる方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明は、2回の酸処理により銀の高純度化が達成できるとの知見を得、次の方法を提供する。
1.低品位の銀含有原料から高純度の銀を製造する方法であって、原料を硝酸で溶解し、次に塩酸を添加して塩化銀結晶を得、さらにこの塩化銀結晶を還元することを特徴とする高純度銀の製造方法
2.塩化銀結晶を水素還元することを特徴とする上記1記載の高純度銀の製造方法
3.200°C以上で還元することを特徴とする上記1又は2記載の高純度銀の製造方法
4.還元後に得られた銀の純度が99.999%以上であることを特徴とする上記1〜3のそれぞれに記載の高純度銀の製造方法
5.銀含有原料の品位が99.99%以下であることを特徴とする上記1〜4のそれぞれに記載の高純度銀の製造方法
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明は、品位が99.99%以下である低品位の銀含有原料に1.2当量以上の硝酸を加えて、該銀含有原料を硝酸で溶解する。この場合、添加する硝酸の量が1.2当量未満では十分な溶解が得られないので、1.2当量以上が必要である。この際に、銀及び原料に含有される不純物の殆どが溶解する。
次に、1.2当量以上の塩酸を添加して塩化銀結晶を得る。この場合、銀は選択的に塩化銀結晶となり、上記原料中の不純物の塩化物は水溶液に溶解し、塩化銀のみが溶解度がなく分離が効率良くできる。
塩酸の添加は1.2当量以上必要である。これ未満であると塩化銀の収率が悪くなるので好ましくない。
【0008】
次に、得られた塩化銀結晶を200°C以上で水素還元し、99.999%以上の純度の高純度銀を得る。この場合、200°C未満では還元効率が低下するので、200°C以上で水素還元するのが望ましい。
上記硝酸による溶解及び塩化銀結晶を得る工程で分離された不純物は貴金属が微量存在するが、その量は極めて少ないので通常は廃棄する。しかし、これを濃縮して回収することもできる。還元工程により生成する塩酸は上記塩酸による塩化銀の工程において再使用できる。
上記に示すとおり、硝酸による原料の溶解工程及び塩酸による塩化銀の生成工程という2回の酸処理により銀の高純度化を達成することが可能であり、簡単な工程で99.999%以上の純度の高純度銀を得ることができる。
【0009】
【実施例】
次に、実施例について説明する。なお、本実施例は発明の一例を示すためのものであり、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。すなわち、本発明の技術思想に含まれる他の態様及び変形を含むものである。
表1に示す不純物含有量の低品位(3Nレベル)の銀含有原料100gに61%硝酸2倍当量140mLを添加し、温度60°Cで溶解した。原料に含有される不純物は、パラジウム2.0ppm(重量、以下同様)、セレン1.3ppm、アンチモン0.3ppm、銅1.0ppm、鉄1.0ppm、チタン1.0ppm、白金0.1ppm、ロジウム0.1ppm、硫黄1.0ppmであった。硝酸溶解の際には、これらの不純物はほぼ全量溶解した。
【0010】
次に、この溶液に36%塩酸を2倍当量160mL添加して塩化銀結晶130gを得た。この時、前記不純物の塩化物は殆ど水溶液に溶解するが、銀の塩化物のみは殆ど溶解度がなく固体として析出した。
得られた塩化銀結晶を400°Cで水素還元した。収率は97.8%であった。表1に示す不純物含有量の高純度銀(精製後)が得られた。なお、水素還元の際、200°C未満では還元効率が低下するので好ましくないことが分かった。還元工程により生成する塩酸は上記塩酸による塩化銀の工程において再利用した。上記硝酸による溶解及び塩化銀結晶を得る工程で分離された不純物中の貴金属は、ごく微量のため通常廃棄するが、これを濃縮して、例えば塩化アンモニウム反応により塩化白金酸アンモニウムにしたり、グラファイトに吸着させて回収することができる。
【0011】
表1に示す通り、本実施例により得られた高純度銀中に含有される不純物は、パラジウム0.02ppm、セレン0.01ppm、アンチモン0.03ppm、銅0.01ppm、鉄0.05ppm、チタン<0.01ppm、白金<0.01ppm、ロジウム<0.01ppm、硫黄0.03ppmとなった。
上記のように、硝酸による原料の溶解工程及び塩酸による塩化銀の生成工程という2回の酸処理により銀の高純度化を達成することが可能であり、簡単な工程で99.999%以上の純度の高純度銀を得ることができた。
【0012】
【表1】
【0013】
【発明の効果】
本発明は、電解精製方法を用いずに、99.999%以上の高純度銀を2回の酸処理工程で精製することができ、安定かつ低コストで製造できるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高純度銀の精製工程説明図である。
Claims (2)
- 低品位の銀含有原料から高純度の銀を製造する方法であって、原料を1.2当量以上の硝酸で溶解し、次に1.2当量以上の塩酸を添加して塩化銀結晶を得、さらに分離した塩化銀結晶を200°C以上で水素還元することにより、還元後に得られた銀の純度が99.999%以上であることを特徴とする高純度銀の製造方法。
- 銀含有原料の品位が99.99%以下であることを特徴とする請求項1記載の高純度銀の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000270971A JP4842426B2 (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 高純度銀の製造方法 |
PCT/JP2001/004296 WO2002020857A1 (fr) | 2000-09-07 | 2001-05-23 | Procede de production d'argent de grande purete |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000270971A JP4842426B2 (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 高純度銀の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002080919A JP2002080919A (ja) | 2002-03-22 |
JP4842426B2 true JP4842426B2 (ja) | 2011-12-21 |
Family
ID=18757324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000270971A Expired - Fee Related JP4842426B2 (ja) | 2000-09-07 | 2000-09-07 | 高純度銀の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4842426B2 (ja) |
WO (1) | WO2002020857A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100610816B1 (ko) | 2004-08-02 | 2006-08-10 | 한국지질자원연구원 | 은(銀)분말 제조방법 |
JP4882125B2 (ja) * | 2005-06-20 | 2012-02-22 | Dowaエコシステム株式会社 | 銀回収方法 |
CN106191971A (zh) * | 2016-08-19 | 2016-12-07 | 南通皋鑫电子股份有限公司 | 回收高压二极管引脚镀银挂具的方法 |
KR102289961B1 (ko) * | 2019-10-14 | 2021-08-12 | 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 | 염기성 용액 분사 공정을 통해 전도성이 향상된 투명 전도성 전극 필름의 제조 방법 |
JP7453002B2 (ja) | 2020-01-22 | 2024-03-19 | 大口電子株式会社 | 銀の回収方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS563630A (en) * | 1979-06-15 | 1981-01-14 | Inst Obu Niyuukuria Enaajii Re | Recovery of metals |
JPS6345330A (ja) * | 1986-08-12 | 1988-02-26 | Nobuaki Terai | 金属ハロゲン化物の水素による還元法 |
JPH10265863A (ja) * | 1997-03-27 | 1998-10-06 | Mitsubishi Materials Corp | 製錬残渣からの貴金属回収方法 |
JPH10280059A (ja) * | 1997-04-10 | 1998-10-20 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 貴金属合金からの金と銀の分離方法 |
-
2000
- 2000-09-07 JP JP2000270971A patent/JP4842426B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-23 WO PCT/JP2001/004296 patent/WO2002020857A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002020857A1 (fr) | 2002-03-14 |
JP2002080919A (ja) | 2002-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3879126B2 (ja) | 貴金属製錬方法 | |
CN102041393A (zh) | 银阳极泥的处理工艺 | |
TWI428451B (zh) | 由無鉛廢焊料回收貴重金屬的方法 | |
JP2009035808A (ja) | スズと共存金属の分離方法 | |
JP3987069B2 (ja) | 高純度硫酸銅及びその製造方法 | |
JP4842426B2 (ja) | 高純度銀の製造方法 | |
KR20090106067A (ko) | 치기공소 폐금에서 귀금속을 회수하는 방법 | |
JP4100671B2 (ja) | 液中の白金とパラジウムの除去方法 | |
JP4821486B2 (ja) | スズを含有する白金原料の精製方法 | |
JP5447824B2 (ja) | 亜硝酸ロジウム錯イオン溶液の精製方法と、そのアンモニウム塩の製造方法。 | |
JP2005054249A (ja) | 銅電解アノードスライムの脱銅方法 | |
JP3666337B2 (ja) | パラジウムの回収方法 | |
JPH10280059A (ja) | 貴金属合金からの金と銀の分離方法 | |
JP3753554B2 (ja) | 銀の回収方法 | |
JPH11229053A (ja) | 高純度金の製造方法 | |
JP3837879B2 (ja) | 金属イオンの還元析出方法 | |
JP2000038692A (ja) | 高純度銀の製造方法 | |
JP3286212B2 (ja) | Pdを含有する金電解液の浄液方法 | |
JP3479483B2 (ja) | 高純度白金の回収方法 | |
JPH09241768A (ja) | 白金の精製方法 | |
JP3309801B2 (ja) | 金の回収方法 | |
JP2008208438A (ja) | インジウムとスズの分離方法 | |
JP4872097B2 (ja) | ガリウム含有溶液の精製方法 | |
JP2506487B2 (ja) | パラジウム錯体の精製方法 | |
JPH0527695B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070612 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100810 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20100813 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110628 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111004 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111006 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141014 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |