JPS6289880A - 錫剥離液の処理方法 - Google Patents

錫剥離液の処理方法

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JPS6289880A
JPS6289880A JP22834385A JP22834385A JPS6289880A JP S6289880 A JPS6289880 A JP S6289880A JP 22834385 A JP22834385 A JP 22834385A JP 22834385 A JP22834385 A JP 22834385A JP S6289880 A JPS6289880 A JP S6289880A
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山本 繁登
Sumio Inoue
井上 純雄
Kusuo Sumi
角 九州男
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は錫剥離液の処理方法に関しさらに詳しくは、銅
および銅合金等に被覆されている錫を溶解後回収し、か
つ、この錫回収後の溶液を再生する錫剥離液の処理方法
に関する。
[従米枝術1 従来より、銅および銅合金を基材とする錫めっきされた
材料は、端子或いはコネクタ一部材として電子(茂器分
野において広く使用されている。
これら錫めっき材料は省力化、コストダウンのため7−
プ状でめっき処理された後、端子、コネクター等に打抜
きされるのが通常である。
しかし、この打抜外加工により発生するスクランプは錫
を5〜30s/l程度も含有されているので、銅屑とし
ての取扱いが困難で、かつ、用途が限定されている。
このようなスクラップを資源として有効に利用するため
には錫めっぎ層を除去する必要がある。
いままでにも、銅および銅合金の錫層の剥離法として、
熱濃燐酸或いは熱濃塩酸中に浸漬したり、また、水酸化
ナトリウム中で溶解することが行なわれてきている。
しかしなが呟これらの方法はその何れも錫層が?8解除
去された後においてもそのまま浸漬を続けると、銅およ
び銅合金の基材が侵蝕されるので基材の回収率が悪べ、
その剥離液中に基材から溶出した不純物が混入されるの
で、剥離液は錫層の溶解性が低下した時点で廃棄される
のが通常であ従って、剥離液に要求される性質としては
、錫層のみを溶解し、剥離液中に銅および銅合金の基材
が露出しても基材の侵蝕されないものが望ましいのであ
る。
そして、このような特性を具備した錫層の剥離法として
、特開昭58−087275号公報に記載されているよ
うに、強酸の稀薄水溶液に銅の塩類を添加した剥離液に
錫層が被覆されている銅合金を浸漬して、錫と銅の電気
化学的序列の差を利用して錫層を溶解剥離する方法が提
案されている。
この剥離液に錫層が被覆されている銅および銅合金を浸
漬すると、 Cu”+Sn−+Sn”+Cu の反応により、錫層は剥離液中に優先的に溶出し銅は析
出することになり、析出した銅は錫に比し水素過電圧が
少ないため有効なカンード点を形成し、アノード反応で
ある錫の溶解な増々促進する。
一方、銅および銅合金に被覆されている錫層が溶解除去
された銅および銅合金の基材は稀酸溶液に接触するが、
強力な酸化剤を含有しない稀酸溶液中の銅および銅合金
の侵蝕率は軽微であり、たとえ、長時間そのまま浸漬さ
れていたとしても基材の回収効率を上げることが可能で
ある。
従って、このような剥離液を使用すると基材からの不純
物の混入量が減少するが、このままの状態において剥離
作業を続行すると、Sn2→が酸化されてメタ錫酸(S
n02・XH20)として沈澱するため、この時点で廃
棄するか、メタ錫酸を回収後廃棄しているので剥離コス
トが高く、かつ、回収した錫の利用についても限定され
るという問題があった。
[発明が解決しようとする問題点1 本発明は上記に説明したように、従来における錫層が被
覆されている銅および銅合金基材から錫層を回収する際
の種々の問題点に鑑みなされたちのであり、本発明者が
鋭意研究を行ない、検討を加えた結果、錫層が被覆され
ている銅および銅合金基材をCuイオンを含有する硫酸
水溶液中に浸漬して錫層を剥離する際に、剥離液中から
錫を効率よ(回収すると共に、剥離液を廃棄することな
く再生して繰返し使用することができる錫剥離液の処理
方法を開発したのである。
[問題点を解決するための手段] 本発明に係る錫剥離液の処理方法の特徴とするところは
、錫層で被覆されている銅および銅合金をCuイオンを
含有する硫酸水溶液中に浸漬して錫層を溶解し、この溶
液中のCuイオン濃度を4g/I以下、Sn2暑オン濃
度を5〜30g/lとして錫を電解回収し、この銀回収
後の溶液に硫酸銅を添加してCuイオン濃度を5〜25
g/lとすることにある。
この錫を電解により回収する際に、陽極を陰イオン交換
膜で隔離して行なうとよい。
本発明に係る錫剥離液の処理方法について以下詳細に説
明する。
Cuイオンを含有する硫酸水溶液中に錫層が被覆されて
いる銅および銅合金を浸漬すると、錫が優先的に溶出し
て銅は析出するので、剥離作業を継続して行なうとCu
イオン濃度が減少し−て溶解能が低下する。
従って、Cuイオン、例えば、硫酸鋼の形で補給すると
溶解能が再び向上するので剥離作業を継続して行なえる
が、これを繰返して行なうと溶液中に錫の濃度が増加し
てメタ錫酸が析出するようになる。
しかし、溶液中にメタ錫酸が析出しても銅および銅合金
に被覆されている錫層の剥離能力はあるが、次第に反応
速度が遅くなり、また、剥離液が混濁して作業性が悪く
なるので、通常はこのような状態で剥離液は廃棄される
が、また、錫をメタ錫酸として回収後廃棄していたので
剥離作業全体における時間が相当かかり、カリ、不経済
である。
本発明に係る錫剥離液の処理方法によれば、剥離液中の
Cuイオン)農度を4g/l以下、Sn”イオン濃度を
5〜30g/lとして電解により回収するのであり、こ
の電解回収においては銅の析出が優先するためCuイオ
ン濃度が4g/lを越えると電解析出物中に銅含有量が
増加して錫純度が低下するようになるので、Cuイオン
濃度を4g/l以下とし、次に、Sn”宮オン)農度か
5g/1未満では錫回収効率が悪く不経済であり、また
、308/1を越える濃度ではメタ錫酸が生成し易くな
って効率のよい回収を行なうことができなくなるので、
Sn”″4オン濃度は5〜30g/lとする。
さらに、錫を電解回収した後の溶液のCuイオン濃度は
5g/1未満では錫層の剥離速度が減少し、また、25
g/lを越える濃度では過剰のCuイオンは錫層の剥離
率の向上には寄与せず不経済であるので、Cuイオン濃
度は5〜25g/lとする。
また、本発明に係る銀剤離液の処理方法において、新し
い剥離液を製造後、2〜3回は本発明に係る銀剤離液の
処理方法の範囲内のCuイオン、Sn”イオンの濃度で
あれば、陰イオン交換膜を使用した電解方法と略同様の
高い回収率が得られるが、剥離液中のS02″イオンは
電解時陽極から発生する酸素ガスによって酸化されるた
め6回収率は次第に低下してくる。
そして、剥離液を再生しないで廃棄する方法においては
、錫回収に際して隔膜1史用の必要性はないが、剥離液
を再生する場合には陽極を陰イオン交換膜で隔離する電
解回収法を行なうことにより回収効率か向上する。
さらに、剥離液中の空買酸化を防止するために、剥離作
業中や休止中にN2およびAr等の不活性ガスを少量吹
き込むことで、メタ錫酸の生成を著しく軽減することか
゛できる。
[実 施 例1 本考案に係る銀剤雑波の処理方法について実施例を説明
する。
実施例1 試験条件 電解条件 陰極電流密度      1 、 l) A/d+a’
電解時間        5時間 陽極隔膜        なし 電解液         撹拌 液温           15〜40 ’C第1表に
電解回収時の上記電解条件に上り得られたCuイオン濃
度、Sn”土イオン濃度を示す。さらに、6回収率およ
び電析物中のCu含有量を示す。
第  1  表 この第1表から明らかなように、本発明に係る銀剤離液
の処理方法において規定している、溶液中のCuイオン
、Snイオン濃度であれば、錫回収が高く、がっ、電析
物中の銅含有量も少ないが、比較例は錫回収率が低く、
電析物中の銅含有量ら多く(No、7〜1())、回収
率が高いが銅含有量も高い(No、 6 )という相開
が本ス−実施例2 試験条件 1)試験材 錫層で被覆されている銅合金(錫被覆量約5μ)2)剥
離条件 液温    50℃ 浸漬時間   5分 このような試験条件における錫電析後における溶液(再
生液)のCuイオン濃度と錫層の溶解能を第2表に示す
第 2 表 この第2表から明らかであるが、本発明に係る剥離液の
処理方法において規定されているCuイオン濃度とする
ことにより、錫回収率は99%以上であI)、この規定
範囲以下では回収率が悪く、以上では回収率はよいが、
それ以上の向上はなく、不経済である。
実施例3 試験条件 剥離液      S!12÷イオン 30./1電解
条件 陰極電流密度   1.0 A /cl+o2陰極面積
      4dm2 陽極隔膜 陰イオン交換膜(例えば、旭ガラス製セレミオン) 電解液      撹拌 液温       15〜40°に の条件で、本発明に係る錫剥離液の処理方法において隔
膜を使用した場合と隔膜を使用しない場合とにおける電
解時間と錫回収率との関係を第1図に示す。
第1図において、1は本発明に係る新しい剥離液使用に
よる処理方法の場合であり、2は本発明に係る錫剥離液
の処理方法により錫剥離後の溶液のCuイオン濃度を繰
返し調整した(20回)場合を示し、3は新しい剥離液
使用による隔膜を使用しない場合の処理方法であ!)、
4は隔膜を使用せず錫剥離後の溶液のCuイオン濃度繰
返し調整した(20回)場合を示しているが、隔膜を使
用することにより、錫回収率が格段に向上することがわ
かる。
[発明の効果1 以上説明したよ〕に、本発明に係る錫剥離液の処理方法
は上記の構成であるか呟錫が被覆されている銅および銅
合金から錫を効率的に高い回収率で回収することができ
、さらに、銀回収後の溶液を廃棄することなく再生して
錫を被覆された銅および錫合金から錫を溶解するために
使用することができるという優れた効果を有するもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は電解時間と錫回収率との関係を示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 錫層で被覆されている銅および銅合金をCuイオンを含
    有する硫酸水溶液に浸漬して錫層を溶解し、この溶液中
    のCuイオン濃度を4g/l以下、Sn^2^+イオン
    濃度を5〜30g/lとして錫を電解回収し、この錫回
    収後の溶液に硫酸銅を添加してCuイオン濃度を5〜2
    5g/lとすることを特徴とする錫剥離液の処理方法。
JP22834385A 1985-10-14 1985-10-14 錫剥離液の処理方法 Granted JPS6289880A (ja)

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JPH0438834B2 JPH0438834B2 (ja) 1992-06-25

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0432223A1 (en) * 1989-06-05 1991-06-19 Macdermid Incorporated Electrolytic method for regenerating tin or tin-lead alloy stripping compositions
JP2011177696A (ja) * 2010-03-04 2011-09-15 Dowa Metaltech Kk Snイオンを含有する廃液の再生処理方法
JP2012052205A (ja) * 2010-09-03 2012-03-15 Dowa Metaltech Kk 銅または銅合金材の表面の錫または錫合金層の剥離方法
CN110129799A (zh) * 2019-04-30 2019-08-16 广东工业大学 一种基于硫酸-铁盐体系的退锡废液的回收利用方法

Cited By (4)

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