JP2616889B2 - シリコーン系ゴムシール材およびその製造方法 - Google Patents
シリコーン系ゴムシール材およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、シリコーン系ゴムシー
ル材およびその製造方法に関し、詳しくは石英のような
Ｓｉ含有材に対して優れた非粘着性を有するシリコーン
系ゴムシール材およびその製造方法に関する。
ル材およびその製造方法に関し、詳しくは石英のような
Ｓｉ含有材に対して優れた非粘着性を有するシリコーン
系ゴムシール材およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】半導体の
製造に用いられるＯ2 プラズマ処理は、石英（組成式Ｓ
ｉＯ2 ）製のＯ2 プラズマ処理装置（アッシャー）の減
圧した容器中に、酸素（Ｏ2 ）ガスを導入し、低圧状態
に保ちながら高周波などによりプラズマを発生させ、目
的物をプラズマ処理することによってなされている。し
たがって、アッシャーの開閉部に真空シール材を取付け
ることが必要である。また、このシール材は、Ｏ2 プラ
ズマ処理時にＯ2 プラズマ照射を受けて劣化するので、
Ｏ2 プラズマに対して耐性を有する材料を用いることが
必要である。
製造に用いられるＯ2 プラズマ処理は、石英（組成式Ｓ
ｉＯ2 ）製のＯ2 プラズマ処理装置（アッシャー）の減
圧した容器中に、酸素（Ｏ2 ）ガスを導入し、低圧状態
に保ちながら高周波などによりプラズマを発生させ、目
的物をプラズマ処理することによってなされている。し
たがって、アッシャーの開閉部に真空シール材を取付け
ることが必要である。また、このシール材は、Ｏ2 プラ
ズマ処理時にＯ2 プラズマ照射を受けて劣化するので、
Ｏ2 プラズマに対して耐性を有する材料を用いることが
必要である。
【０００３】Ｏ2 プラズマに対して耐性を有するシール
材として、シリコーン系ゴム製のシール材が知られてい
る。ところが、石英製のプラズマ処理装置の開閉部に、
上記シリコーンゴム製シール材を取付けた場合、該シー
ル材は石英面に粘着し易く、ドアの開閉が困難になった
り、場合によってはシール材が接触する石英面に強固に
粘着して、開閉部の開閉時にシール材が接触する石英面
に部分的に取られてシール材が破壊され再使用できなく
なる問題がある。さらに、上記状態になると、シール材
の取り替え等のメンテナンスが必要になる。したがっ
て、シリコーンゴム製のシール材は、石英製のＯ2 プラ
ズマ処理装置用のシール材としては好ましいものではな
かった。
材として、シリコーン系ゴム製のシール材が知られてい
る。ところが、石英製のプラズマ処理装置の開閉部に、
上記シリコーンゴム製シール材を取付けた場合、該シー
ル材は石英面に粘着し易く、ドアの開閉が困難になった
り、場合によってはシール材が接触する石英面に強固に
粘着して、開閉部の開閉時にシール材が接触する石英面
に部分的に取られてシール材が破壊され再使用できなく
なる問題がある。さらに、上記状態になると、シール材
の取り替え等のメンテナンスが必要になる。したがっ
て、シリコーンゴム製のシール材は、石英製のＯ2 プラ
ズマ処理装置用のシール材としては好ましいものではな
かった。
【０００４】本発明の第１の目的は、上記問題を解消し
Ｏ2 プラズマ照射を受けても石英のようなＳｉ含有材に
対して非粘着性であり、かつ、高寿命を有するシリコー
ン系ゴムシール材を提供することである。また、本発明
の第２の目的は、Ｏ2 プラズマ照射を受けても石英のよ
うなＳｉ含有材に対して非粘着性であり、かつ、高寿命
のシール材が容易に得られるシリコーン系ゴムシール材
の製造方法を提供することである。
Ｏ2 プラズマ照射を受けても石英のようなＳｉ含有材に
対して非粘着性であり、かつ、高寿命を有するシリコー
ン系ゴムシール材を提供することである。また、本発明
の第２の目的は、Ｏ2 プラズマ照射を受けても石英のよ
うなＳｉ含有材に対して非粘着性であり、かつ、高寿命
のシール材が容易に得られるシリコーン系ゴムシール材
の製造方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】本発明者は上
記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、シリコ
ーン系ゴム製シール材が、Ｏ2 プラズマ照射によりＳｉ
含有材例えば石英に粘着するメカニズムは、以下のよう
なものであると推定するに至った。シリコーン系ゴムの
主鎖は主としてジメチルシロキサンであるが、Ｏ2 プラ
ズマ照射を受けることにより、化１に示すようにメチル
基がはずれるか、または、化２に示すようにメチル基の
Ｈがはずれてラジカルが発生し、これが酸素原子と結合
して酸素ラジカルが生じる。この結果、シリコーン系ゴ
ムは酸素ラジカルを側鎖に有するようになり、この酸素
ラジカルが石英のＳｉと結合して、シリコーン系ゴムが
石英に粘着するようになる。
記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、シリコ
ーン系ゴム製シール材が、Ｏ2 プラズマ照射によりＳｉ
含有材例えば石英に粘着するメカニズムは、以下のよう
なものであると推定するに至った。シリコーン系ゴムの
主鎖は主としてジメチルシロキサンであるが、Ｏ2 プラ
ズマ照射を受けることにより、化１に示すようにメチル
基がはずれるか、または、化２に示すようにメチル基の
Ｈがはずれてラジカルが発生し、これが酸素原子と結合
して酸素ラジカルが生じる。この結果、シリコーン系ゴ
ムは酸素ラジカルを側鎖に有するようになり、この酸素
ラジカルが石英のＳｉと結合して、シリコーン系ゴムが
石英に粘着するようになる。
【０００６】
【化１】
【０００７】
【化２】
【０００８】これを根拠に上記シリコーン系ゴムに発生
する酸素ラジカルを消費させることに着目しさらに研究
を重ねた結果、シリカを含有させたシリコーン系ゴムの
組成物からシール材を形成し、このシール材の使用前に
予め酸素プラズマを照射し、シリコーン系ゴムに発生す
る酸素ラジカルをシリカのＳｉと結合させ消費させるよ
うにすると、その後に該シール材が酸素プラズマの照射
を受けても、もはやＳｉと結合しなくなる知見を得た。
する酸素ラジカルを消費させることに着目しさらに研究
を重ねた結果、シリカを含有させたシリコーン系ゴムの
組成物からシール材を形成し、このシール材の使用前に
予め酸素プラズマを照射し、シリコーン系ゴムに発生す
る酸素ラジカルをシリカのＳｉと結合させ消費させるよ
うにすると、その後に該シール材が酸素プラズマの照射
を受けても、もはやＳｉと結合しなくなる知見を得た。
【０００９】本発明は、上記知見に基づいて完成したも
のであって、上記第１の目的は下記本発明のシリコーン
系ゴムシール材によって達成される。 （１）シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物
から形成されるシリコーン系ゴムシール材に、予めＯ2
プラズマ照射処理がなされてなるものである。 （２）上記（１）のシリコーン系ゴムシール材は、シリ
コーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物が、シリコ
ーン系ゴム１００重量部に対して、シリカを１５〜８０
重量部含有する組成物である。 （３）上記（１）または（２）のシリコーン系ゴムシー
ル材は、酸素ガス雰囲気にて放電電力１０Ｗ以上、圧力
０．１〜３Ｔｏｒｒで０．５〜１００時間Ｏ2 プラズマ
照射処理されてなるものである。 （４）上記（１）〜（３）のシリコーン系ゴムシール材
は、JIS K 6253のタイプＡデュロメータ硬さ試験による
硬さが６０〜９５である。
のであって、上記第１の目的は下記本発明のシリコーン
系ゴムシール材によって達成される。 （１）シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物
から形成されるシリコーン系ゴムシール材に、予めＯ2
プラズマ照射処理がなされてなるものである。 （２）上記（１）のシリコーン系ゴムシール材は、シリ
コーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物が、シリコ
ーン系ゴム１００重量部に対して、シリカを１５〜８０
重量部含有する組成物である。 （３）上記（１）または（２）のシリコーン系ゴムシー
ル材は、酸素ガス雰囲気にて放電電力１０Ｗ以上、圧力
０．１〜３Ｔｏｒｒで０．５〜１００時間Ｏ2 プラズマ
照射処理されてなるものである。 （４）上記（１）〜（３）のシリコーン系ゴムシール材
は、JIS K 6253のタイプＡデュロメータ硬さ試験による
硬さが６０〜９５である。
【００１０】また、上記第２の目的は下記本発明のシリ
コーン系ゴムシール材の製造方法によって達成される。 （５）シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物
からシール材を成形する工程およびシール材にＯ2 プラ
ズマ照射処理を施す工程を有するものである。 （６）上記（５）のシリコーン系ゴムシール材の製造方
法において、シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする
組成物は、シリコーン系ゴム１００重量部に対して、シ
リカを１５〜８０重量部含有するものである。 （７）上記（５）または（６）のシリコーン系ゴムシー
ル材の製造方法において、Ｏ2 プラズマ照射処理を、酸
素ガス雰囲気にて放電電力１０Ｗ以上、圧力０．１〜３
Ｔｏｒｒで０．５〜１００時間施すものである。
コーン系ゴムシール材の製造方法によって達成される。 （５）シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物
からシール材を成形する工程およびシール材にＯ2 プラ
ズマ照射処理を施す工程を有するものである。 （６）上記（５）のシリコーン系ゴムシール材の製造方
法において、シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする
組成物は、シリコーン系ゴム１００重量部に対して、シ
リカを１５〜８０重量部含有するものである。 （７）上記（５）または（６）のシリコーン系ゴムシー
ル材の製造方法において、Ｏ2 プラズマ照射処理を、酸
素ガス雰囲気にて放電電力１０Ｗ以上、圧力０．１〜３
Ｔｏｒｒで０．５〜１００時間施すものである。
【００１１】シリコーン系ゴムとしては、特に限定され
ずこの分野において公知のものが用いられ、例えば、ビ
ニルメチルシリコーン、フルオロビニルメチルシリコー
ン、フェニルビニルメチルシリコーン等が挙げられる。
ずこの分野において公知のものが用いられ、例えば、ビ
ニルメチルシリコーン、フルオロビニルメチルシリコー
ン、フェニルビニルメチルシリコーン等が挙げられる。
【００１２】また、シリカとしては、公知の湿式シリ
カ、乾式シリカが挙げられ、単独でも両者の併用系でも
よいが、湿式シリカは水分を含んでいるため、乾式シリ
カの方が好ましく、特に、半導体製造装置の加工室内を
真空状態にして使用する半導体製造装置用シール材に
は、乾式シリカの方が好ましい。市販品のシリカとして
は、日本アエロジル社製アエロジル２００、G.L.CabotC
orp. 製Cab-O-Sil 、日本シリカ社製ニップシールVN３
等が挙げられる。
カ、乾式シリカが挙げられ、単独でも両者の併用系でも
よいが、湿式シリカは水分を含んでいるため、乾式シリ
カの方が好ましく、特に、半導体製造装置の加工室内を
真空状態にして使用する半導体製造装置用シール材に
は、乾式シリカの方が好ましい。市販品のシリカとして
は、日本アエロジル社製アエロジル２００、G.L.CabotC
orp. 製Cab-O-Sil 、日本シリカ社製ニップシールVN３
等が挙げられる。
【００１３】シリカの含有量は、シリコーン系ゴム１０
０重量部に対して、好ましくは１５〜８０重量部、より
好ましくは２０〜７０重量部、さらに好ましくは２５〜
６０重量部程度が望ましい。シリカの配合量が１５重量
部未満であると、シリコーン系ゴムの側鎖に生じる酸素
ラジカルと結合するシリカが少なく、シール材にＳｉ含
有材に対する十分な非粘着性を付与できず、また、８０
重量部を越えると、シール材自体が硬くもろくなり取扱
いにくくなる傾向がある。
０重量部に対して、好ましくは１５〜８０重量部、より
好ましくは２０〜７０重量部、さらに好ましくは２５〜
６０重量部程度が望ましい。シリカの配合量が１５重量
部未満であると、シリコーン系ゴムの側鎖に生じる酸素
ラジカルと結合するシリカが少なく、シール材にＳｉ含
有材に対する十分な非粘着性を付与できず、また、８０
重量部を越えると、シール材自体が硬くもろくなり取扱
いにくくなる傾向がある。
【００１４】上記シリカの平均粒子径は、通常１〜５０
ｍμ、好ましくは１０〜４０ｍμ程度である。また、シ
リカ純度は、９９％以上、好ましくは９９．８％以上で
ある。
ｍμ、好ましくは１０〜４０ｍμ程度である。また、シ
リカ純度は、９９％以上、好ましくは９９．８％以上で
ある。
【００１５】上記シリコーン系ゴムとシリカを主成分と
する組成物には、通常、架橋剤が配合される。架橋剤と
しては、公知の有機過酸化物等が好適に使用でき、例え
ば２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオキ
シヘキサン、ベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオ
キサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等が用い
られる。
する組成物には、通常、架橋剤が配合される。架橋剤と
しては、公知の有機過酸化物等が好適に使用でき、例え
ば２，５−ジメチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルパーオキ
シヘキサン、ベンゾイルパーオキシド、ジクミルパーオ
キサイド、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等が用い
られる。
【００１６】上記有機過酸化物は、通常、シリコーン系
ゴム１００重量部に対して、０．１〜５重量部、好まし
くは０．４〜２重量部程度用いられる。有機過酸化物の
配合量が０．１重量部未満であると、架橋不足となり永
久変形しやすくなる傾向がある。また、５重量部よりも
多いと、伸びが小さくなりもろくなる傾向がある。
ゴム１００重量部に対して、０．１〜５重量部、好まし
くは０．４〜２重量部程度用いられる。有機過酸化物の
配合量が０．１重量部未満であると、架橋不足となり永
久変形しやすくなる傾向がある。また、５重量部よりも
多いと、伸びが小さくなりもろくなる傾向がある。
【００１７】また、上記組成物には、必要に応じてさら
に例えばトリアリルシアヌレート等の公知の架橋助剤を
添加することもできる。当該架橋助剤を配合する場合、
その配合量は、シリコーン系ゴム１００重量部に対し
て、０．１〜５重量部、好ましくは０．５〜２重量部程
度が望ましい。
に例えばトリアリルシアヌレート等の公知の架橋助剤を
添加することもできる。当該架橋助剤を配合する場合、
その配合量は、シリコーン系ゴム１００重量部に対し
て、０．１〜５重量部、好ましくは０．５〜２重量部程
度が望ましい。
【００１８】本発明のシリコーン系ゴムシール材は、上
記シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物から
シール材を成形する工程と、そのシール材にＯ2 プラズ
マ照射処理を施す工程を有する方法によって製造され
る。シール材を成形する工程は、前記シリコーン系ゴム
およびシリカを主成分とする組成物を調製した後、これ
を圧縮成形、押出成形等の公知の方法により成形し、さ
らに加熱、放射線等の公知の方法にて架橋を施すことを
含有し、この工程によって、所望の形状、大きさのシー
ル材を形成することができる。
記シリコーン系ゴムとシリカを主成分とする組成物から
シール材を成形する工程と、そのシール材にＯ2 プラズ
マ照射処理を施す工程を有する方法によって製造され
る。シール材を成形する工程は、前記シリコーン系ゴム
およびシリカを主成分とする組成物を調製した後、これ
を圧縮成形、押出成形等の公知の方法により成形し、さ
らに加熱、放射線等の公知の方法にて架橋を施すことを
含有し、この工程によって、所望の形状、大きさのシー
ル材を形成することができる。
【００１９】Ｏ2 プラズマ照射処理を施す工程は、減圧
した容器中にＯ2 ガスを導入し、低圧状態に保ちながら
高周波などによりＯ2 プラズマを発生させ、シール材を
Ｏ2プラズマ処理すればよい。
した容器中にＯ2 ガスを導入し、低圧状態に保ちながら
高周波などによりＯ2 プラズマを発生させ、シール材を
Ｏ2プラズマ処理すればよい。
【００２０】放電電力は１０Ｗ以上、好ましくは１００
Ｗ〜２ＫＷである。この放電電力が１０Ｗ未満では十分
な処理効果がえられない傾向がある。
Ｗ〜２ＫＷである。この放電電力が１０Ｗ未満では十分
な処理効果がえられない傾向がある。
【００２１】圧力は０．１〜３Ｔｏｒｒ、好ましくは
０．２〜１Ｔｏｒｒである。圧力が０．１Ｔｏｒｒ未満
では処理時間が長くなり、３Ｔｏｒｒを越えると実用的
なシール材が得られない傾向がある。
０．２〜１Ｔｏｒｒである。圧力が０．１Ｔｏｒｒ未満
では処理時間が長くなり、３Ｔｏｒｒを越えると実用的
なシール材が得られない傾向がある。
【００２２】照射時間は０．５〜１００時間、好ましく
は１〜２４時間である。照射時間が０．５時間未満では
十分な処理効果がえられず、１００時間を越えると製造
能率が低下する傾向がある。
は１〜２４時間である。照射時間が０．５時間未満では
十分な処理効果がえられず、１００時間を越えると製造
能率が低下する傾向がある。
【００２３】上記シール材の製造方法によれば、形成し
たシール材にＯ2 プラズマを照射するので、シリコーン
系ゴムの側鎖に発生する酸素ラジカルが、シリカ表面の
Ｓｉと結合するようになる。したがって、その後さらに
Ｏ2 プラズマ照射を受けても、該シリコーン系ゴムシー
ル材に酸素ラジカルが発生することがない。
たシール材にＯ2 プラズマを照射するので、シリコーン
系ゴムの側鎖に発生する酸素ラジカルが、シリカ表面の
Ｓｉと結合するようになる。したがって、その後さらに
Ｏ2 プラズマ照射を受けても、該シリコーン系ゴムシー
ル材に酸素ラジカルが発生することがない。
【００２４】上記方法で製造されるシリコーン系ゴムシ
ール材は、Ｏ2 プラズマ照射を受けても該シリコーン系
ゴムシール材に酸素ラジカルが発生することが防止され
ているので、Ｓｉ含有材に対して優れた非粘着性を示
し、特に石英製のＯ2 プラズマ処理装置用のシール材と
して好適に使用できる。
ール材は、Ｏ2 プラズマ照射を受けても該シリコーン系
ゴムシール材に酸素ラジカルが発生することが防止され
ているので、Ｓｉ含有材に対して優れた非粘着性を示
し、特に石英製のＯ2 プラズマ処理装置用のシール材と
して好適に使用できる。
【００２５】なお、本発明のシリコーン系ゴムシール材
は、前記したように、シリカ含有量が多いほど非粘着性
が良好になるが、シリカ含有量が多過ぎると硬くもろく
なり過ぎてシール材としては不適当である。そこで、本
発明のシリコーン系ゴムシール材の硬さは、JIS K 6253
のタイプＡデュロメータ硬さ試験による値が６０〜９５
程度、好ましくは７０〜９０程度であることが望まし
い。硬さが６０未満であると、シリカ含有量が少なく、
非粘着性に劣る傾向がある。また、９５を越える（JIS
K 6253のタイプＡデュロメータでは測定不可能）と、硬
すぎてシール材としては好ましくない。なお、上記シリ
コーン系ゴムシール材の硬さは、シリカの含有量を調節
することにより調整可能である。
は、前記したように、シリカ含有量が多いほど非粘着性
が良好になるが、シリカ含有量が多過ぎると硬くもろく
なり過ぎてシール材としては不適当である。そこで、本
発明のシリコーン系ゴムシール材の硬さは、JIS K 6253
のタイプＡデュロメータ硬さ試験による値が６０〜９５
程度、好ましくは７０〜９０程度であることが望まし
い。硬さが６０未満であると、シリカ含有量が少なく、
非粘着性に劣る傾向がある。また、９５を越える（JIS
K 6253のタイプＡデュロメータでは測定不可能）と、硬
すぎてシール材としては好ましくない。なお、上記シリ
コーン系ゴムシール材の硬さは、シリカの含有量を調節
することにより調整可能である。
【００２６】
【実施例】以下、本発明をより具体的に説明するため実
施例を挙げるが、本発明は実施例によって何ら限定され
るものではない。
施例を挙げるが、本発明は実施例によって何ら限定され
るものではない。
【００２７】実施例１〜４および比較例１〜２ 表１に示すシール材用組成物を、１７５℃で１０分間圧
縮成型架橋した後、オーブン室内で２００℃で４時間の
２次架橋を行い、それぞれＯリング（断面径３．１ｍ
ｍ、Ｏリングの内径２４．５ｍｍ−JIS B 2401, G-25）
を形成した。ついで、得られたＯリングを、実施例１〜
４および比較例３〜４のものは下記条件下で酸素プラズ
マ照射処理し、比較例１〜２のものは酸素プラズマ未照
射とした。 放電電力：５００Ｗ 周波数 ：１３．５６ＭＨｚ 酸素ガス：１００ｓｃｃｍ 圧力 ：０．３Ｔｏｒｒ 照射時間：３時間
縮成型架橋した後、オーブン室内で２００℃で４時間の
２次架橋を行い、それぞれＯリング（断面径３．１ｍ
ｍ、Ｏリングの内径２４．５ｍｍ−JIS B 2401, G-25）
を形成した。ついで、得られたＯリングを、実施例１〜
４および比較例３〜４のものは下記条件下で酸素プラズ
マ照射処理し、比較例１〜２のものは酸素プラズマ未照
射とした。 放電電力：５００Ｗ 周波数 ：１３．５６ＭＨｚ 酸素ガス：１００ｓｃｃｍ 圧力 ：０．３Ｔｏｒｒ 照射時間：３時間
【００２８】実験例１ 上記実施例および比較例で得られた各Ｏリングをそれぞ
れ２分の１にカットし、これらを石英板の上に載せ、Ｊ
ＩＳ Ｋ６３０１で用いる圧縮試験治具を用いて２５％
圧縮した。ついでこれらを２００℃の恒温槽にいれて５
日間放置し室温まで冷却した後、各Ｏリングを石英板か
ら剥離した。このときの各Ｏリングの石英面との粘着性
を、下記評価基準に基づいて評価し、表１にその結果を
示した。 ○：石英板にシール材は全く付着せず容易に剥離でき
た。（再使用可能） △：石英板に少しすじ状のシール材が付着した。（再使
用可能であるがシール性が低下） ×：石英板にシール材が強固に付着し剥離できなかっ
た。（再使用不可）
れ２分の１にカットし、これらを石英板の上に載せ、Ｊ
ＩＳ Ｋ６３０１で用いる圧縮試験治具を用いて２５％
圧縮した。ついでこれらを２００℃の恒温槽にいれて５
日間放置し室温まで冷却した後、各Ｏリングを石英板か
ら剥離した。このときの各Ｏリングの石英面との粘着性
を、下記評価基準に基づいて評価し、表１にその結果を
示した。 ○：石英板にシール材は全く付着せず容易に剥離でき
た。（再使用可能） △：石英板に少しすじ状のシール材が付着した。（再使
用可能であるがシール性が低下） ×：石英板にシール材が強固に付着し剥離できなかっ
た。（再使用不可）
【００２９】また、上記石英面との粘着性試験を繰り返
し実施し、シール材が再使用不可になるまでの回数を測
定し、その結果を表１に示した。
し実施し、シール材が再使用不可になるまでの回数を測
定し、その結果を表１に示した。
【００３０】実験例２ 上記実施例および比較例と同様にして、各シール材用組
成物から試験片（厚さ6.5mm のシート状物）をそれぞれ
形成し、その硬さをJIS K 6253のタイプＡデュロメータ
硬さ試験に準じて調べた。その結果を表１に示した。
成物から試験片（厚さ6.5mm のシート状物）をそれぞれ
形成し、その硬さをJIS K 6253のタイプＡデュロメータ
硬さ試験に準じて調べた。その結果を表１に示した。
【００３１】
【表１】
【００３２】上記表１から明らかなように、実施例で得
られたシール材は、石英板に付着し難く優れた非粘着性
を示し、また、再使用が可能であり、たとえば２回以上
の再使用、さらには５回以上の再使用も可能なものもあ
り、比較例のシール材と対比すると長寿命のものであっ
た。また、硬度もシール材に適する６０〜９５を有する
ものであった。
られたシール材は、石英板に付着し難く優れた非粘着性
を示し、また、再使用が可能であり、たとえば２回以上
の再使用、さらには５回以上の再使用も可能なものもあ
り、比較例のシール材と対比すると長寿命のものであっ
た。また、硬度もシール材に適する６０〜９５を有する
ものであった。
【００３３】
【発明の効果】本発明のシリコーン系ゴムシール材は、
Ｓｉ含有材に対して優れた非粘着性を有するので、従来
その粘着性のために使用できなかった石英製のＯ2 プラ
ズマ処理装置のシール材として使用可能になる。また、
本発明のシリコーン系ゴムシール材は、Ｏ2 プラズマ照
射されても石英に対して非粘着であるので、再使用が可
能になり、従来のシリコーン系ゴムシール材に比べて大
幅に高寿命のものになる。このように、本発明のシリコ
ーン系ゴムシール材は、Ｓｉ含有材に対して非粘着性で
あり、また、高寿命のものであるので、シール材の交換
頻度を低下でき、メンテナンス作業を軽減できる。さら
に、本発明のシリコーン系ゴムシール材は石英に対して
非粘着であり、再使用が可能であるので、Ｏ2 プラズマ
処理装置の真空シールの信頼性を高くできる。この結
果、高濃度のＯ2 プラズマを発生する装置の開発が可能
になり、半導体製造能率の向上が期待できる。
Ｓｉ含有材に対して優れた非粘着性を有するので、従来
その粘着性のために使用できなかった石英製のＯ2 プラ
ズマ処理装置のシール材として使用可能になる。また、
本発明のシリコーン系ゴムシール材は、Ｏ2 プラズマ照
射されても石英に対して非粘着であるので、再使用が可
能になり、従来のシリコーン系ゴムシール材に比べて大
幅に高寿命のものになる。このように、本発明のシリコ
ーン系ゴムシール材は、Ｓｉ含有材に対して非粘着性で
あり、また、高寿命のものであるので、シール材の交換
頻度を低下でき、メンテナンス作業を軽減できる。さら
に、本発明のシリコーン系ゴムシール材は石英に対して
非粘着であり、再使用が可能であるので、Ｏ2 プラズマ
処理装置の真空シールの信頼性を高くできる。この結
果、高濃度のＯ2 プラズマを発生する装置の開発が可能
になり、半導体製造能率の向上が期待できる。
【００３４】また、本発明のシリコーン系ゴムシール材
の製造方法によれば、従来公知の装置、方法にて容易に
Ｓｉ含有材に対して非粘着であるシリコーン系ゴムシー
ル材を製造できる。
の製造方法によれば、従来公知の装置、方法にて容易に
Ｓｉ含有材に対して非粘着であるシリコーン系ゴムシー
ル材を製造できる。
Claims (7)
- 【請求項１】 シリコーン系ゴムとシリカを主成分とす
る組成物からなり、Ｏ2 プラズマ照射処理がなされてな
るシリコーン系ゴムシール材。 - 【請求項２】 シリコーン系ゴムとシリカを主成分とす
る組成物が、シリコーン系ゴム１００重量部に対して、
シリカを１５〜８０重量部含有する組成物である請求項
１記載のシリコーン系ゴムシール材。 - 【請求項３】 酸素ガス雰囲気にて放電電力１０Ｗ以
上、圧力０．１〜３Ｔｏｒｒで０．５〜１００時間Ｏ2
プラズマ照射処理されたものである請求項１または２記
載のシリコーン系ゴムシール材。 - 【請求項４】 JIS K 6253のタイプＡデュロメータ硬さ
試験による硬さが６０〜９５である請求項１〜３のいず
れかに記載のシリコーン系ゴムシール材。 - 【請求項５】 シリコーン系ゴムとシリカを主成分とす
る組成物からシール材を成形する工程およびシール材に
Ｏ2 プラズマ照射処理を施す工程を有することを特徴と
するシリコーン系ゴムシール材の製造方法。 - 【請求項６】 シリコーン系ゴムとシリカを主成分とす
る組成物が、シリコーン系ゴム１００重量部に対して、
シリカを１５〜８０重量部含有するものである請求項５
記載のシリコーン系ゴムシール材の製造方法。 - 【請求項７】 Ｏ2 プラズマ照射処理を、酸素ガス雰囲
気にて放電電力１０Ｗ以上、圧力０．１〜３Ｔｏｒｒで
０．５〜１００時間施すものである請求項５または６記
載のシリコーン系ゴムシール材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6077629A JP2616889B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | シリコーン系ゴムシール材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6077629A JP2616889B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | シリコーン系ゴムシール材およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278526A JPH07278526A (ja) | 1995-10-24 |
| JP2616889B2 true JP2616889B2 (ja) | 1997-06-04 |
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ID=13639200
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6077629A Expired - Fee Related JP2616889B2 (ja) | 1994-04-15 | 1994-04-15 | シリコーン系ゴムシール材およびその製造方法 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP2616889B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5318941B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2013-10-16 | テルモ株式会社 | 弁体の製造方法、弁体および医療用具 |
| JP2015225888A (ja) * | 2014-05-26 | 2015-12-14 | エレコム株式会社 | 電子機器用保護カバー |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH075878B2 (ja) * | 1989-12-05 | 1995-01-25 | 信越化学工業株式会社 | プラズマエッチング装置用シーリング材 |
| JPH04209633A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-31 | Fukui Pref Gov | 非粘着性シリコンゴム材料およびその製造法 |
| JP2606527B2 (ja) * | 1992-04-10 | 1997-05-07 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンゴムガスケット |
-
1994
- 1994-04-15 JP JP6077629A patent/JP2616889B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07278526A (ja) | 1995-10-24 |
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