JP2597830B2 - 被覆用材料のためのクリプト光安定剤 - Google Patents
被覆用材料のためのクリプト光安定剤Info
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- JP2597830B2 JP2597830B2 JP60246089A JP24608985A JP2597830B2 JP 2597830 B2 JP2597830 B2 JP 2597830B2 JP 60246089 A JP60246089 A JP 60246089A JP 24608985 A JP24608985 A JP 24608985A JP 2597830 B2 JP2597830 B2 JP 2597830B2
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- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3472—Five-membered rings
- C08K5/3475—Five-membered rings condensed with carbocyclic rings
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/16—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D249/18—Benzotriazoles
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、被覆用材料のためのクリプト光安定剤に関
する。
する。
上記の如き化合物は、短波光の作用により活性化され
て、光化学的に光安定剤に転化する。それに関する化合
物はブロックトヒドロキシル基を有する2-（2-ヒドロキ
シフェニル）‐ベンゾトリアゾールの特定の誘導体であ
る。
て、光化学的に光安定剤に転化する。それに関する化合
物はブロックトヒドロキシル基を有する2-（2-ヒドロキ
シフェニル）‐ベンゾトリアゾールの特定の誘導体であ
る。
（従来の技術） オルソンとシュレーテル〔Olson and Schroeter;J.Ap
pl.Pol.Science 22（1978）,2165-72〕により、2-（2-
ヒドロキシフェニル）‐ベンゾトリアゾールのフェノー
ル性水酸基を例えば加水分解、光分解または加熱によっ
て引き続き除去できる化学的保護基でブロックすること
がすでに提案されている。これらのブロックトベンゾト
リアゾール誘導体は、330ないし400nmの範囲の紫外線を
吸収しないので、その結果として紫外線（UV）‐硬化性
組成物の光重合を妨げない。しかし、それらの変化した
UV-吸収レベル（それらの吸収の最大は約290ないし310n
mである。）のために、それらは光安定剤として適当で
なく、従って光重合の後、公知の光安定剤である、遊離
のOH基を有するベンゾトリアゾールに転化しなければな
らない。前記の著者は、シリル化により、カルバモイル
化により、そして、後の著作（J.Appl.Pol.Science 28
（1983）,1159-65）においてはエーテル化、エステル化
及びスルホニル化によりOH基をブロックする可能性につ
いて研究した。これに関連して種々の問題例えば不十分
な開裂または副生成物の形成に由来する変色が生じてい
る。O-スルホニル化及び光化学的開裂は最も優れた方法
であるように記載されている。この開裂の場合には、本
質的にオルト−スルホニルフェノールに対して光化学的
フリース転位を発生する。これは、全ての試験された化
合物がオルトー位において未置換であるから可能である
（OH基に関して）。
pl.Pol.Science 22（1978）,2165-72〕により、2-（2-
ヒドロキシフェニル）‐ベンゾトリアゾールのフェノー
ル性水酸基を例えば加水分解、光分解または加熱によっ
て引き続き除去できる化学的保護基でブロックすること
がすでに提案されている。これらのブロックトベンゾト
リアゾール誘導体は、330ないし400nmの範囲の紫外線を
吸収しないので、その結果として紫外線（UV）‐硬化性
組成物の光重合を妨げない。しかし、それらの変化した
UV-吸収レベル（それらの吸収の最大は約290ないし310n
mである。）のために、それらは光安定剤として適当で
なく、従って光重合の後、公知の光安定剤である、遊離
のOH基を有するベンゾトリアゾールに転化しなければな
らない。前記の著者は、シリル化により、カルバモイル
化により、そして、後の著作（J.Appl.Pol.Science 28
（1983）,1159-65）においてはエーテル化、エステル化
及びスルホニル化によりOH基をブロックする可能性につ
いて研究した。これに関連して種々の問題例えば不十分
な開裂または副生成物の形成に由来する変色が生じてい
る。O-スルホニル化及び光化学的開裂は最も優れた方法
であるように記載されている。この開裂の場合には、本
質的にオルト−スルホニルフェノールに対して光化学的
フリース転位を発生する。これは、全ての試験された化
合物がオルトー位において未置換であるから可能である
（OH基に関して）。
（問題点を解決するための手段） 本発明者等は、OH基に関してパラ−位及びオルト−位
の双方が置換されている2-（2-ヒドロキシフェニル）‐
ベンゾトリアゾールを使用し、OH基をブロックすること
により、同様に290−310nmで吸収最大を有するが、パラ
−位及びオルト−位に置換基があるにもかかわらず、遊
離のOH基を有する化合物に光化学的に再変換できるクリ
プト光安定剤が得られることを見い出した。それらは、
未置換のオルト−位を有する化合物のレベルよりも高い
暗所における安定性レベルを有する。この因子は、ラッ
カーがしばしば長期間貯蔵されるから、市販する場合に
は重要である。
の双方が置換されている2-（2-ヒドロキシフェニル）‐
ベンゾトリアゾールを使用し、OH基をブロックすること
により、同様に290−310nmで吸収最大を有するが、パラ
−位及びオルト−位に置換基があるにもかかわらず、遊
離のOH基を有する化合物に光化学的に再変換できるクリ
プト光安定剤が得られることを見い出した。それらは、
未置換のオルト−位を有する化合物のレベルよりも高い
暗所における安定性レベルを有する。この因子は、ラッ
カーがしばしば長期間貯蔵されるから、市販する場合に
は重要である。
遊離のOH基を有する公知のベンゾトリアゾール光安定
剤と比較して、被覆用材料が塗布前または塗布中に金属
と接触するとき、これらのクリプト光安定剤は有利であ
る。全ての2-（2-ヒドロキシフェニル）‐ベンゾトリア
ゾールは、しばしば有色である金属イオンと錯体を形成
し、（例えばCu,NiまたはCoの場合）そしてそれらは被
覆用材料の変色を引き起こす。クリプト光安定剤のため
の別の意義深い適用分野は、硬化触媒（ドライヤー）と
して有機金属化合物を含有する酸化乾燥被覆用材料を包
含している。遊離の2-（2-ヒドロキシフェニル）‐ベン
ゾトリアゾールの存在中で、これらの金属化合物はベン
ゾトリアゾールに配位結合し、そして硬化触媒としては
もはや有効でなくなる。
剤と比較して、被覆用材料が塗布前または塗布中に金属
と接触するとき、これらのクリプト光安定剤は有利であ
る。全ての2-（2-ヒドロキシフェニル）‐ベンゾトリア
ゾールは、しばしば有色である金属イオンと錯体を形成
し、（例えばCu,NiまたはCoの場合）そしてそれらは被
覆用材料の変色を引き起こす。クリプト光安定剤のため
の別の意義深い適用分野は、硬化触媒（ドライヤー）と
して有機金属化合物を含有する酸化乾燥被覆用材料を包
含している。遊離の2-（2-ヒドロキシフェニル）‐ベン
ゾトリアゾールの存在中で、これらの金属化合物はベン
ゾトリアゾールに配位結合し、そして硬化触媒としては
もはや有効でなくなる。
したがって、本発明は、明確には、次式I: （式中、 Ｘは、１または２を表わし、 R1は、式：−CO−R5で表わされるアシル基、式：−SO
2−R6で表わされるスルホニル基または式：−Ｐ（Ｏ）
（R14）（R15）で表わされるホスホリル基を表わし、 R2は、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、 Ｘが１を表わすとき、R3は、炭素原子数１ないし12の
アルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基または式：−(CH2)n−COOR9で表わされる基を表わ
し、そしてＸが２を表わすとき、R3は、式：−(CH2)n−
CO−NH−R12−NH−CO−(CH2)n−で表わされる二価の基
を表わし、 R4は、水素原子またはハロゲン原子を表わし、 R5は、炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子
数２ないし18のアルケニル基、フェニル基、ベンゾイル
基により置換されたフェニル基を表わすか、あるいは炭
素原子数７ないし12のアリールアルキル基を表わすか、
または炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたベン
ジル基を表わすか、ベンゾイル基またはカルボニル−炭
素原子数１ないし４のアルコキシ基を表わし、 R6は、炭素原子数１ないし11のアルキル基または炭素
原子数７ないし18のアルキルアリール基を表わし、 R9は、水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基
または式：−(CH2CH2O)P−R16で表わされる基を表わ
し、 R12は、炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わ
し、 R14およびR15は、互いに独立してそれぞれ炭素原子数
１ないし12のアルコキシ基を表わし、 R16は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
し、 ｎは、１または２を表わし、 ｐは、１ないし10の数を表わし、 ｑは、２ないし12の数を表わす。）で表わされる化合
物よりなる、被覆用材料のためのクリプト光安定剤に関
する。
2−R6で表わされるスルホニル基または式：−Ｐ（Ｏ）
（R14）（R15）で表わされるホスホリル基を表わし、 R2は、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、 Ｘが１を表わすとき、R3は、炭素原子数１ないし12の
アルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基または式：−(CH2)n−COOR9で表わされる基を表わ
し、そしてＸが２を表わすとき、R3は、式：−(CH2)n−
CO−NH−R12−NH−CO−(CH2)n−で表わされる二価の基
を表わし、 R4は、水素原子またはハロゲン原子を表わし、 R5は、炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子
数２ないし18のアルケニル基、フェニル基、ベンゾイル
基により置換されたフェニル基を表わすか、あるいは炭
素原子数７ないし12のアリールアルキル基を表わすか、
または炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたベン
ジル基を表わすか、ベンゾイル基またはカルボニル−炭
素原子数１ないし４のアルコキシ基を表わし、 R6は、炭素原子数１ないし11のアルキル基または炭素
原子数７ないし18のアルキルアリール基を表わし、 R9は、水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基
または式：−(CH2CH2O)P−R16で表わされる基を表わ
し、 R12は、炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わ
し、 R14およびR15は、互いに独立してそれぞれ炭素原子数
１ないし12のアルコキシ基を表わし、 R16は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
し、 ｎは、１または２を表わし、 ｐは、１ないし10の数を表わし、 ｑは、２ないし12の数を表わす。）で表わされる化合
物よりなる、被覆用材料のためのクリプト光安定剤に関
する。
R1は一価のアシル基としては例えば次のものを表わ
す： アセチル、プロピニル、ブチリル、バレリアニル、カプ
ロニル（ｎ−ヘキサノニル）、２−エチルヘキサノニ
ル、カプリロイル（ｎ−オクタノイル）、カプリオニル
（ｎ−デカノイル）、ラウロイル（ｎ−ドデカノイ
ル）、パルミチル（ｎ−ヘキサデカノイル）、ステアロ
イル（ｎ−オクタデカノイル）、アクリロイル、メタク
リロイル、クロトニル、オレイル、リノレイル、ベンゾ
イル、３−メチルベンゾイル、４−第三ブチルベンゾイ
ル、４−ヘキシルベンゾイル、４−ドデシルベンゾイ
ル、３−若しくは４−メトキシ−またはエトキシベンゾ
イル、４−ベンゾイルベンゾイル、フェニルアセチル、
フェニルプロピオニル、ナフチルアセチル、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
オクチルオキシカルボニルまたはドデシルオキシカルボ
ニル基。
す： アセチル、プロピニル、ブチリル、バレリアニル、カプ
ロニル（ｎ−ヘキサノニル）、２−エチルヘキサノニ
ル、カプリロイル（ｎ−オクタノイル）、カプリオニル
（ｎ−デカノイル）、ラウロイル（ｎ−ドデカノイ
ル）、パルミチル（ｎ−ヘキサデカノイル）、ステアロ
イル（ｎ−オクタデカノイル）、アクリロイル、メタク
リロイル、クロトニル、オレイル、リノレイル、ベンゾ
イル、３−メチルベンゾイル、４−第三ブチルベンゾイ
ル、４−ヘキシルベンゾイル、４−ドデシルベンゾイ
ル、３−若しくは４−メトキシ−またはエトキシベンゾ
イル、４−ベンゾイルベンゾイル、フェニルアセチル、
フェニルプロピオニル、ナフチルアセチル、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、
オクチルオキシカルボニルまたはドデシルオキシカルボ
ニル基。
スルホニル基としてのR1の例はたとえばメチル−、第
三ブチル−、オクチル−、ドデシル−、フェニル−、ト
リル−、ナフチル−、４−ノニルフェニル−、４−ドデ
シルフェニル−またはメシチレンスルホニル基である。
三ブチル−、オクチル−、ドデシル−、フェニル−、ト
リル−、ナフチル−、４−ノニルフェニル−、４−ドデ
シルフェニル−またはメシチレンスルホニル基である。
アルキル基としてのR2、R3は、与えられた炭素原子数
の範囲内で、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシ
ルまたはドデシル基であることができる。
の範囲内で、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシ
ルまたはドデシル基であることができる。
R2およびR3は、好ましくは枝分かれ鎖のアルキル基で
ある。
ある。
アルコキシ基としてのR14およびR15は、例えばメトキ
シ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオ
キシ、オクチルオキシ、デシルオキシまたはドデシルオ
キシ基であることができる。
シ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオ
キシ、オクチルオキシ、デシルオキシまたはドデシルオ
キシ基であることができる。
フェニルアルキル基としてのR2およびR3は、例えばベ
ンジル、α−メチルベンジル、α−ジメチルベンジルま
たは２−フェニルエチル基であることができる。フェニ
ルアルキル基としてのR2およびR3は好ましくはα−ジメ
チルベンジル基である。
ンジル、α−メチルベンジル、α−ジメチルベンジルま
たは２−フェニルエチル基であることができる。フェニ
ルアルキル基としてのR2およびR3は好ましくはα−ジメ
チルベンジル基である。
R12は、例えば1,2−エチレン、トリ−、テトラ−、ペ
ンタ−、ヘキサ−、オクタ−、またはドデカメチレン、
2,4,4−トリメチルヘキサメチレン、３−オキサヘプタ
メチレンまたは3,6−ジオキサデカメチレン基であるこ
とができる。
ンタ−、ヘキサ−、オクタ−、またはドデカメチレン、
2,4,4−トリメチルヘキサメチレン、３−オキサヘプタ
メチレンまたは3,6−ジオキサデカメチレン基であるこ
とができる。
本発明に係る好ましいクリプト光安定剤は、上記式Ｉ
において、 Ｘが、１を表わし、 R1が、式：−CO−R5、−SO2−R6または−Ｐ（Ｏ）（R
14）（R15）で表わされる基を表わし、 R2が、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基または基：−CH2CH2
COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、 R5が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子
数２ないし４のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基
またはナフチルメチル基を表わし、 R6が、メチル基または炭素原子数７ないし18のアルキ
ルフェニル基を表わし、 R9が、炭素原子数１ないし12のアルキル基を表わし、
そして R14およびR15が、互いに独立してそれぞれ炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基を表わすところのクリプト光
安定剤である。
において、 Ｘが、１を表わし、 R1が、式：−CO−R5、−SO2−R6または−Ｐ（Ｏ）（R
14）（R15）で表わされる基を表わし、 R2が、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子
数７ないし９のフェニルアルキル基または基：−CH2CH2
COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、 R5が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子
数２ないし４のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基
またはナフチルメチル基を表わし、 R6が、メチル基または炭素原子数７ないし18のアルキ
ルフェニル基を表わし、 R9が、炭素原子数１ないし12のアルキル基を表わし、
そして R14およびR15が、互いに独立してそれぞれ炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基を表わすところのクリプト光
安定剤である。
特に好ましいクリプト光安定剤は、前記式Ｉにおい
て、 R1が、式：−CO−R5または−SO2−R6で表わされる基
を表わし、そして、 R5およびR6が、上記で定義した意味を有するところの
クリプト光安定剤である。
て、 R1が、式：−CO−R5または−SO2−R6で表わされる基
を表わし、そして、 R5およびR6が、上記で定義した意味を有するところの
クリプト光安定剤である。
別の特に好ましいクリプト光安定剤は、前記式Ｉにお
いて、 R2が、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはα−
ジメチルベンジル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、α−ジメ
チルベンジル基または基：−CH2CH2COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、そして、 R1およびR9が、上記で定義した意味を有するところの
クリプト光安定剤である。
いて、 R2が、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはα−
ジメチルベンジル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、α−ジメ
チルベンジル基または基：−CH2CH2COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、そして、 R1およびR9が、上記で定義した意味を有するところの
クリプト光安定剤である。
さらに好ましいクリプト光安定剤は、前記式Ｉにおい
て、 Ｘが、１を表わし、 R1が、基：−CO−R5または−SO2−R6を表わし、 R2が、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはα−
ジメチルベンジル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、α−ジメ
チルベンジル基または基：−CH2CH2COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、 R5が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子
数２ないし４のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基
またはナフチルメチル基を表わし、 R6が、メチル基または炭素原子数７ないし18のアルキ
ルフェニル基を表わし、そして R9が、炭素原子数１ないし12のアルキル基を表わすと
ころのクリプト光安定剤である。
て、 Ｘが、１を表わし、 R1が、基：−CO−R5または−SO2−R6を表わし、 R2が、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはα−
ジメチルベンジル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、α−ジメ
チルベンジル基または基：−CH2CH2COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、 R5が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子
数２ないし４のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基
またはナフチルメチル基を表わし、 R6が、メチル基または炭素原子数７ないし18のアルキ
ルフェニル基を表わし、そして R9が、炭素原子数１ないし12のアルキル基を表わすと
ころのクリプト光安定剤である。
これらの化合物のうちある種のものは公知であり、ま
たある種のものは新規化合物である。それらは本質的に
はフェノール性OH基のアシル化という慣用な方法により
水酸基をエステル化することによって、例えばカルボン
酸無水物、カルボン酸塩化物、スルホン酸塩化物または
クロロホスフェート反応させることによって、対応する
ヒドロキシル化合物（R1＝Ｈ）から製造することができ
る。これらの例は、後記製造例に挙げる。出発物質とし
て使用するヒドロキシル化合物は、一部は市販されてお
り、他のものは２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベン
ゾトリアゾールの製造のために一般に知られている方法
により製造することができる。
たある種のものは新規化合物である。それらは本質的に
はフェノール性OH基のアシル化という慣用な方法により
水酸基をエステル化することによって、例えばカルボン
酸無水物、カルボン酸塩化物、スルホン酸塩化物または
クロロホスフェート反応させることによって、対応する
ヒドロキシル化合物（R1＝Ｈ）から製造することができ
る。これらの例は、後記製造例に挙げる。出発物質とし
て使用するヒドロキシル化合物は、一部は市販されてお
り、他のものは２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベン
ゾトリアゾールの製造のために一般に知られている方法
により製造することができる。
新規化合物は、例えば、Ｘが１を表わすとき、R3が基
−(CH2)n−COOR9を表わす化合物、および、Ｘが２を表
わすとき、R3が−(CH2)n−CO−NH−R12−NH−CO−(CH2)
n−で表わされる二価の基を表わす化合物である。
−(CH2)n−COOR9を表わす化合物、および、Ｘが２を表
わすとき、R3が−(CH2)n−CO−NH−R12−NH−CO−(CH2)
n−で表わされる二価の基を表わす化合物である。
式Ｉで表わされる個々の化合物の例は、次のものであ
る： ２−（２−アセトキシ−３−メチル−５−第三ブチル−
フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−〔２−アセトキ
シ−3,5−ジ（第三ブチル）−フェニル〕−ベンゾトリ
アゾール、２−（２−プロピオニルオキシ−３−イソプ
ロピル−５−第三ブチル−フェニル）−ベンゾトリアゾ
ール、２−（２−ブチロイルオキシ−３−第二ブチル−
５−第三ブチル−フェニル）−ベンゾトリアゾール、２
−〔２−ヘキサノイルオキシ−3,5−ジ（第三ペンチ
ル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−
２−オクタノニルオキシ−3,5−ジ（第三ブチル）−フ
ェニル〕−ベンゾトリアゾール、５−メチル−２−（２
−ベンゾイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル）−ベ
ンゾトリアゾール、５−メトキシ−２−〔２−（４−ク
ロロベンゾイルオキシ）−3,5−ジ（第三ブチル）−フ
ェニル〕−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ−3,5−ジ（第三ブチル）−フェニ
ル〕−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ドデシルスルホ
ニルオキシ−3,5−ジ（1,1−ジメチルベンジル）−フェ
ニル〕−ベンゾトリアゾール、２−〔２−（ｐ−ドデシ
ルベンゼンスルホニルオキシ）−３−第二ブチル−５−
第三ブチル−フェニル〕−ベンゾトリアゾール、β−
〔３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−アセト
キシ−５−第三ブチル−フェニル〕−プロピオン酸メチ
ルエステル、〔３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）
−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−５−第三ブチル
−フェニル〕−酢酸ブチルエステル、β−〔３−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−ベンゾイルオキシ−
５−シクロヘキシルフェニル〕−プロピオン酸−２−ブ
トキシエチルエステル、ジエチレングリコール ジ−
〔３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−アセトキ
シ−５−第三ブチル−フェニル−酢酸エステル、ブタン
ジオール 1,4−ジ−〔β−（３−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−５
−第二ブチル−フェニル）−プロピオン酸エステル〕、
および、N,N′−ヘキサメチレン−ビス〔β−（３−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−４−ブチロイルオキシ
−５−メチル−フェニル）−プロピオン酸アミド〕。
る： ２−（２−アセトキシ−３−メチル−５−第三ブチル−
フェニル）−ベンゾトリアゾール、２−〔２−アセトキ
シ−3,5−ジ（第三ブチル）−フェニル〕−ベンゾトリ
アゾール、２−（２−プロピオニルオキシ−３−イソプ
ロピル−５−第三ブチル−フェニル）−ベンゾトリアゾ
ール、２−（２−ブチロイルオキシ−３−第二ブチル−
５−第三ブチル−フェニル）−ベンゾトリアゾール、２
−〔２−ヘキサノイルオキシ−3,5−ジ（第三ペンチ
ル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−
２−オクタノニルオキシ−3,5−ジ（第三ブチル）−フ
ェニル〕−ベンゾトリアゾール、５−メチル−２−（２
−ベンゾイルオキシ−3,5−ジメチル−フェニル）−ベ
ンゾトリアゾール、５−メトキシ−２−〔２−（４−ク
ロロベンゾイルオキシ）−3,5−ジ（第三ブチル）−フ
ェニル〕−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ｐ−トルエ
ンスルホニルオキシ−3,5−ジ（第三ブチル）−フェニ
ル〕−ベンゾトリアゾール、２−〔２−ドデシルスルホ
ニルオキシ−3,5−ジ（1,1−ジメチルベンジル）−フェ
ニル〕−ベンゾトリアゾール、２−〔２−（ｐ−ドデシ
ルベンゼンスルホニルオキシ）−３−第二ブチル−５−
第三ブチル−フェニル〕−ベンゾトリアゾール、β−
〔３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−アセト
キシ−５−第三ブチル−フェニル〕−プロピオン酸メチ
ルエステル、〔３−（ベンゾトリアゾール−２−イル）
−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−５−第三ブチル
−フェニル〕−酢酸ブチルエステル、β−〔３−（ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−４−ベンゾイルオキシ−
５−シクロヘキシルフェニル〕−プロピオン酸−２−ブ
トキシエチルエステル、ジエチレングリコール ジ−
〔３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−アセトキ
シ−５−第三ブチル−フェニル−酢酸エステル、ブタン
ジオール 1,4−ジ−〔β−（３−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−４−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−５
−第二ブチル−フェニル）−プロピオン酸エステル〕、
および、N,N′−ヘキサメチレン−ビス〔β−（３−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−４−ブチロイルオキシ
−５−メチル−フェニル）−プロピオン酸アミド〕。
以下の実施例で、上記の如き化合物の製造例を更に詳
しく説明する。
しく説明する。
製造例 実施例A-アセチル化 無水酢酸100mlを5-クロロ‐2-〔2-ヒドロキシ‐3,5-
ジ（第三‐ブチル）‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾール
１モルに加え、その混合物を還流する（140℃）。ジメ
チルアミノピリジン0.6gを添加した後、その混合物を更
に７時間還流する。その試料は薄層クロマトグラフィー
においてもはや出発物質が存在していないことを示す。
過剰の無水酢酸を減圧下に蒸留して除き、そしてその茶
色の残留物をメチレンクロライド中に溶解する。その溶
液を５％のNa2CO3溶液及び水で洗い、次にNa2SO4で乾燥
し、そして蒸発により濃縮する。結晶質の残留物をメタ
ノールから再結晶して、132ないし134℃で溶融する白色
結晶の形態で5-クロロ‐2-〔2-アセトキシ‐3,5-ジ（第
三‐ブチル（‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾールを得
る。（化合物No.1）。
ジ（第三‐ブチル）‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾール
１モルに加え、その混合物を還流する（140℃）。ジメ
チルアミノピリジン0.6gを添加した後、その混合物を更
に７時間還流する。その試料は薄層クロマトグラフィー
においてもはや出発物質が存在していないことを示す。
過剰の無水酢酸を減圧下に蒸留して除き、そしてその茶
色の残留物をメチレンクロライド中に溶解する。その溶
液を５％のNa2CO3溶液及び水で洗い、次にNa2SO4で乾燥
し、そして蒸発により濃縮する。結晶質の残留物をメタ
ノールから再結晶して、132ないし134℃で溶融する白色
結晶の形態で5-クロロ‐2-〔2-アセトキシ‐3,5-ジ（第
三‐ブチル（‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾールを得
る。（化合物No.1）。
で表わされる下記のアセトキシ化合物は、類似の方法に
より得られる。
より得られる。
実施例B-トシル化 2-（2-ヒドロキシ‐3-第二‐ブチル‐5-第三‐ブチル
‐フェニル）‐ベンゾトリアゾール0.1モルをトルエン2
00mlに溶解する。次に攪拌しながら、NaOH20gを水20gに
溶解した溶液及び硫酸水素テトラブチルアンモニウム
（相間移動触媒として）0.01モルを加えるがその間に有
機層がどぎつい黄色がかった橙色に着色する。次に、p-
トルエンスルホニルクロライド0.11モルをトルエン50ml
に溶解した溶液を室温でゆっくりと少しづつ加える。そ
の発熱反応は氷‐水で冷却することにより補なう。続い
て、その混合物を室温で３時間攪拌すると、その間にト
ルエン溶液の色はしだいに消える。試料は薄層クロマト
グラフィーにおいて、もはや出発物質が存在しないこと
を示す。その反応混合物を氷‐水１に注ぎ、その有機
層を分離し、各々300mlの水で２回洗い、そしてNa2SO4
で乾燥する。その溶液を減圧下に濃縮し、そして残留物
をエタノールから結晶化すると、139ないし141℃で溶融
する白色結晶の形態で2-（2-トルエンスルホニルオキシ
‐3-第二‐ブチル‐5-第三‐ブチル‐フェニル）‐ベン
ゾトリアゾールが得られる。（化合物No.11）。
‐フェニル）‐ベンゾトリアゾール0.1モルをトルエン2
00mlに溶解する。次に攪拌しながら、NaOH20gを水20gに
溶解した溶液及び硫酸水素テトラブチルアンモニウム
（相間移動触媒として）0.01モルを加えるがその間に有
機層がどぎつい黄色がかった橙色に着色する。次に、p-
トルエンスルホニルクロライド0.11モルをトルエン50ml
に溶解した溶液を室温でゆっくりと少しづつ加える。そ
の発熱反応は氷‐水で冷却することにより補なう。続い
て、その混合物を室温で３時間攪拌すると、その間にト
ルエン溶液の色はしだいに消える。試料は薄層クロマト
グラフィーにおいて、もはや出発物質が存在しないこと
を示す。その反応混合物を氷‐水１に注ぎ、その有機
層を分離し、各々300mlの水で２回洗い、そしてNa2SO4
で乾燥する。その溶液を減圧下に濃縮し、そして残留物
をエタノールから結晶化すると、139ないし141℃で溶融
する白色結晶の形態で2-（2-トルエンスルホニルオキシ
‐3-第二‐ブチル‐5-第三‐ブチル‐フェニル）‐ベン
ゾトリアゾールが得られる。（化合物No.11）。
で表わされる下記のスルホネートは、類似の方法により
得られる。
得られる。
下記式で表わされるビス‐トシレートは、類似の方法
で製造される： （化合物No.24）融点:215ないし217℃。
で製造される： （化合物No.24）融点:215ないし217℃。
実施例C-酸塩化物でエステル化 トリエチルアミン0.12モルを、2-〔2-ヒドロキシ‐3,
5-ジ（第三‐ブチル）‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾー
ル0.08モルをメチレンクロライド150mlに溶解した溶液
に加える。この溶液に、10ないし15℃で攪拌しながら、
2-ナフチルアセチルクロライド0.08モルをメチレンクロ
ライド50mlに溶解した溶液をゆっくりと少しづつ加え
る。次に温度を20ないし25℃に上昇させ、そしてその混
合物を６時間この温度で攪拌する。沈殿したトリエチル
アンモニウムクロライドを別し、そしてその液を水
で洗い、Na2SO4で乾燥し、そして蒸発により濃縮する。
その結晶性で赤色を帯びた残留物をヘキサンから再結晶
して、150ないし151℃で溶融する白色結晶の形態である
2-〔2-（1-ナフチルアセトキシ）‐3,5-ジ（第三‐ブチ
ル‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾールが得られる。（化
合物No.25）。
5-ジ（第三‐ブチル）‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾー
ル0.08モルをメチレンクロライド150mlに溶解した溶液
に加える。この溶液に、10ないし15℃で攪拌しながら、
2-ナフチルアセチルクロライド0.08モルをメチレンクロ
ライド50mlに溶解した溶液をゆっくりと少しづつ加え
る。次に温度を20ないし25℃に上昇させ、そしてその混
合物を６時間この温度で攪拌する。沈殿したトリエチル
アンモニウムクロライドを別し、そしてその液を水
で洗い、Na2SO4で乾燥し、そして蒸発により濃縮する。
その結晶性で赤色を帯びた残留物をヘキサンから再結晶
して、150ないし151℃で溶融する白色結晶の形態である
2-〔2-（1-ナフチルアセトキシ）‐3,5-ジ（第三‐ブチ
ル‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾールが得られる。（化
合物No.25）。
で表わされる下記のフェノールエステルは、類似の方法
で得られる。
で得られる。
実施例Ｄ−相間移動触媒による酸塩化物でのエステル化 2-〔2-ヒドロキシ‐3,5-ジ（第三‐ブチル）‐フェニ
ル〕‐ベンゾトリアゾール0.1モルをトルエン150ないし
200mlに溶解する。この溶液に、水20mlに溶解したNaOH2
0g（50％NaOH溶液）及び硫酸水素テトラブチルアンモニ
ウム（PTC）0.01モルを加える。すぐに橙色に着色した
乳濁液を形成し、そしてこれを40℃に加熱する。この温
度でトルエン約30ml中にクロロギ酸ブチルエステル0.11
モルを溶解した溶液をゆっくり少しづつ加える。その反
応は発熱的に進行し、そして45ないし50℃から氷‐水で
冷却する。少量づつの添加が終了したとき、その反応溶
液は、明るい黄色になる。攪拌を更に２時間つづける
と、その後もはや出発物質は薄層クロマトグラフィーに
おいては確認できない。その反応溶液を室温まで冷却
し、そして約200mlの水を加える。次に、その有機層を
分離し、そして各々100mlの水で２回洗う。そのトルエ
ン溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、その後ロータリーエ
バポレータで濃縮する。その明るい黄色の残留物をエタ
ノールから再結晶すると、116ないし118℃で溶融する白
色結晶の形態で2-〔2-ブトキシ‐カルボニルオキシ）‐
3,5-ジ（第三‐ブチル）‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾ
ール（化合物No.39）が得られる。
ル〕‐ベンゾトリアゾール0.1モルをトルエン150ないし
200mlに溶解する。この溶液に、水20mlに溶解したNaOH2
0g（50％NaOH溶液）及び硫酸水素テトラブチルアンモニ
ウム（PTC）0.01モルを加える。すぐに橙色に着色した
乳濁液を形成し、そしてこれを40℃に加熱する。この温
度でトルエン約30ml中にクロロギ酸ブチルエステル0.11
モルを溶解した溶液をゆっくり少しづつ加える。その反
応は発熱的に進行し、そして45ないし50℃から氷‐水で
冷却する。少量づつの添加が終了したとき、その反応溶
液は、明るい黄色になる。攪拌を更に２時間つづける
と、その後もはや出発物質は薄層クロマトグラフィーに
おいては確認できない。その反応溶液を室温まで冷却
し、そして約200mlの水を加える。次に、その有機層を
分離し、そして各々100mlの水で２回洗う。そのトルエ
ン溶液を硫酸ナトリウムで乾燥し、その後ロータリーエ
バポレータで濃縮する。その明るい黄色の残留物をエタ
ノールから再結晶すると、116ないし118℃で溶融する白
色結晶の形態で2-〔2-ブトキシ‐カルボニルオキシ）‐
3,5-ジ（第三‐ブチル）‐フェニル〕‐ベンゾトリアゾ
ール（化合物No.39）が得られる。
酸塩化物を変えることにより、下記のフェノール性エ
ステルが類似の方法で得られる： 本発明の被覆用材料は着色されるか、末着色であるこ
とができる。それらは主成分として最初は可溶性樹脂
で、塗布後不溶性の状態に転化する結合剤を含有する。
硬化は加熱によるか、あるいは化学反応により行なうこ
とができる。そのような結合剤の例は、たとえばアルキ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシド樹脂、メラミン樹
脂、尿素樹脂、ポリウレタン、ポリエステルまたはフェ
ノール性樹脂及びこれらの相互の混合物である。
ステルが類似の方法で得られる： 本発明の被覆用材料は着色されるか、末着色であるこ
とができる。それらは主成分として最初は可溶性樹脂
で、塗布後不溶性の状態に転化する結合剤を含有する。
硬化は加熱によるか、あるいは化学反応により行なうこ
とができる。そのような結合剤の例は、たとえばアルキ
ル樹脂、アクリル樹脂、エポキシド樹脂、メラミン樹
脂、尿素樹脂、ポリウレタン、ポリエステルまたはフェ
ノール性樹脂及びこれらの相互の混合物である。
被覆用材料は通常溶液として塗布する。少量の溶媒を
使用する（ハイソリッド）あるいは溶媒を使用しない
（反応性希釈剤を添加する）被覆用材料が、近年、塗装
の実際においてますます重要になっている。全ての場合
において、光安定剤の添加は意義深い。これに関する例
は、たとえば多層被覆のための表面ラッカーであり、そ
のラッカーは光による損傷から着色された低層を保護し
ようとするものである。このタイプの表面被覆は特に車
両の製造において使用される。別の例は、家具またはプ
ラスチックフィルム若しくはシートのためのUV保護ラッ
カーである。本発明は塗布の際銅とあるいは銅合金と接
触するようになる被覆用材料に関して殊に重要である。
使用する（ハイソリッド）あるいは溶媒を使用しない
（反応性希釈剤を添加する）被覆用材料が、近年、塗装
の実際においてますます重要になっている。全ての場合
において、光安定剤の添加は意義深い。これに関する例
は、たとえば多層被覆のための表面ラッカーであり、そ
のラッカーは光による損傷から着色された低層を保護し
ようとするものである。このタイプの表面被覆は特に車
両の製造において使用される。別の例は、家具またはプ
ラスチックフィルム若しくはシートのためのUV保護ラッ
カーである。本発明は塗布の際銅とあるいは銅合金と接
触するようになる被覆用材料に関して殊に重要である。
塗布の目的により、被覆用材料が顔料及び溶媒のほか
に、別の添加剤例えば流動調節剤、チキソトロープ剤、
湿潤剤、金属不活性化剤または酸化防止剤を含有するこ
とができる。それらは、また本発明のクリプト光安定剤
に加えて、立体障害アミン類からの別の光安定剤を含有
することもでき、これは、これらの光安定剤が同様に33
0ないし400nmの範囲のUVを吸収しないからである。
に、別の添加剤例えば流動調節剤、チキソトロープ剤、
湿潤剤、金属不活性化剤または酸化防止剤を含有するこ
とができる。それらは、また本発明のクリプト光安定剤
に加えて、立体障害アミン類からの別の光安定剤を含有
することもでき、これは、これらの光安定剤が同様に33
0ないし400nmの範囲のUVを吸収しないからである。
本発明の被覆用材料は、いかなる所望の基材例えば金
属、ガラス、セラミック、木材、紙またはプラスチック
の表面にも塗布することができる。その塗布は被覆用材
料のための慣用方法により、例えばはけ塗り、浸漬また
は噴霧により、あるいは静電加工により行なわれる。光
安定剤の活性化の程度は、短波光が塗料に作用する程度
によって決定される。したがって、照射が低い水準では
ゆっくりした活性化を生じ、これに対して強烈な照射は
急速な活性化を生ずる。その光安定剤はまた塗布前の塗
料をUV光にさらすことによって人為的に活性化すること
もできる。これは塗料の硬化前または後に行なうことが
できる。硬化を行なう方法は、使用する結合剤の性質に
より、例えば加熱または酸化硬化によるだろう。
属、ガラス、セラミック、木材、紙またはプラスチック
の表面にも塗布することができる。その塗布は被覆用材
料のための慣用方法により、例えばはけ塗り、浸漬また
は噴霧により、あるいは静電加工により行なわれる。光
安定剤の活性化の程度は、短波光が塗料に作用する程度
によって決定される。したがって、照射が低い水準では
ゆっくりした活性化を生じ、これに対して強烈な照射は
急速な活性化を生ずる。その光安定剤はまた塗布前の塗
料をUV光にさらすことによって人為的に活性化すること
もできる。これは塗料の硬化前または後に行なうことが
できる。硬化を行なう方法は、使用する結合剤の性質に
より、例えば加熱または酸化硬化によるだろう。
以下の実施例で、クリプト光安定剤の本発明による適
用を詳しく説明する。特に記載しなければ、記号％は重
量％を示す。
用を詳しく説明する。特に記載しなければ、記号％は重
量％を示す。
実施例1:2層のメタリック効果のラッカーの安定化 厚さ0.5mmのアルミニウムシートを、ポリエステル／
セルロースアセトブチレート／メラミン樹脂に基づくア
ルミニウムで着色された基材ラッカーで被覆する。次
に、その湿った基材ラッカーに下記の組成を有する透明
なラッカーを噴霧する： ビアクリル（Viacryl ）VC373 58.3部 〔アクリル樹脂、ビアノバ（Vianova）、ビエンナ（V
ienna）〕マプレナール（Maprenal ）MF590 27.3部 〔メラミン樹脂、ヘキストアクチエンゲゼルシヤフト
（ＨchstAG）、フランクフルト〕キシレン中にシリコ
ーン油を入れた１％溶液 1.0部 ソルベッソ（Solvesso ）150（芳香族溶媒の混合
物） 4.0部 キシレン 5.4部、及び エチルグリコールアセテート 4.0部。
セルロースアセトブチレート／メラミン樹脂に基づくア
ルミニウムで着色された基材ラッカーで被覆する。次
に、その湿った基材ラッカーに下記の組成を有する透明
なラッカーを噴霧する： ビアクリル（Viacryl ）VC373 58.3部 〔アクリル樹脂、ビアノバ（Vianova）、ビエンナ（V
ienna）〕マプレナール（Maprenal ）MF590 27.3部 〔メラミン樹脂、ヘキストアクチエンゲゼルシヤフト
（ＨchstAG）、フランクフルト〕キシレン中にシリコ
ーン油を入れた１％溶液 1.0部 ソルベッソ（Solvesso ）150（芳香族溶媒の混合
物） 4.0部 キシレン 5.4部、及び エチルグリコールアセテート 4.0部。
更に、表１に挙げたクリプト光安定剤0.9部（結合剤
に対して２％に相当する。）を加える。
に対して２％に相当する。）を加える。
この透明なラッカーの粘度は、21秒/DINカップ４に調
整する。それを乾燥層厚40μｍに塗布し、そして130℃
で30分間焼付ける。
整する。それを乾燥層厚40μｍに塗布し、そして130℃
で30分間焼付ける。
その試験片を、一方の場合にはQUVラピッドウエザロ
メーター（Q-パネル社製）にて風化させ、そして他方の
場合にはキセノテスト（Xenotest ）1200〔ヘラエウス
（Heraeus）社製〕にて5200時間まで風化させる。各々
の場合において800時間後、DIN67530による20°の光沢
度を測定し、そして試験片の表面は立体顕微鏡によりク
ラックの発生を検査する。比較の基礎として、ａ）安定
化していない試験片、及び で表わされるブロック化されていないUV吸収剤を使用す
る（比較例Ａ）。
メーター（Q-パネル社製）にて風化させ、そして他方の
場合にはキセノテスト（Xenotest ）1200〔ヘラエウス
（Heraeus）社製〕にて5200時間まで風化させる。各々
の場合において800時間後、DIN67530による20°の光沢
度を測定し、そして試験片の表面は立体顕微鏡によりク
ラックの発生を検査する。比較の基礎として、ａ）安定
化していない試験片、及び で表わされるブロック化されていないUV吸収剤を使用す
る（比較例Ａ）。
結果を表１及び２に要約する。
上記表から明らかなように、クリプト光安定剤の保護
作用はブロックしていない光安定剤のものとほぼ等し
い。
作用はブロックしていない光安定剤のものとほぼ等し
い。
実施例2:銅と接触した結果としての変色 実施例１において記載した透明なラッカーを、塗布前
に銅板と48時間接触する。次に、ポリエステル樹脂に基
づくTiO2で着色された白色のラッカーで下塗されたシー
トに、40μｍの層厚にて塗布する。続いて、その試験片
を30分間130℃で焼付ける。
に銅板と48時間接触する。次に、ポリエステル樹脂に基
づくTiO2で着色された白色のラッカーで下塗されたシー
トに、40μｍの層厚にて塗布する。続いて、その試験片
を30分間130℃で焼付ける。
その試験片の変色は、一方の場合には、黄色インデッ
クス（YI）に従って、他方の場合には、DIN6174（ΔＥ
として）に従って測定する。
クス（YI）に従って、他方の場合には、DIN6174（ΔＥ
として）に従って測定する。
比較例として市販のUV吸収剤２−〔２−ヒドロキシ−
3,5−ジ−（1,1−ジメチルベンジル）−フェニル〕−ベ
ンゾトリアゾール（＝比較例Ｂ）を使用する。
3,5−ジ−（1,1−ジメチルベンジル）−フェニル〕−ベ
ンゾトリアゾール（＝比較例Ｂ）を使用する。
結果を表３に要約する。
表から明らかなように、遊離のヒドロキシフェニルベ
ンゾトリアゾールは、黄変を引き起こすが、これに対し
てクリプト光安定剤は黄変を引き起こさない。
ンゾトリアゾールは、黄変を引き起こすが、これに対し
てクリプト光安定剤は黄変を引き起こさない。
実施例3:クリプト光安定剤の貯蔵安定性 ベンゾトリアゾール誘導体のメタノール溶液５×10-5
モル/lを14日間暗所に貯蔵する。その溶液のUVスペクト
ルを貯蔵前及び後に測定する。化合物Nos,2,5,6,7,8,1
1,12,13,14,15,17及び18の溶液は、スペクトルの変化を
示さなかった。
モル/lを14日間暗所に貯蔵する。その溶液のUVスペクト
ルを貯蔵前及び後に測定する。化合物Nos,2,5,6,7,8,1
1,12,13,14,15,17及び18の溶液は、スペクトルの変化を
示さなかった。
ブロックされたOH基ついてのオルト−位において未置
換である同様のブロックトベンゾトリアゾール誘導体
は、貯蔵後スペクトルの変化を示す。これは暗所におけ
る貯蔵中に、部分的に非ブロック化が発生することを示
している。
換である同様のブロックトベンゾトリアゾール誘導体
は、貯蔵後スペクトルの変化を示す。これは暗所におけ
る貯蔵中に、部分的に非ブロック化が発生することを示
している。
実施例4:アクリル樹脂に基づく２成分の焼付ラッカー
は、下記成分から調製される： 画分A: アミン官能アクリル樹脂 72.8g 〔セタルックス（Setalux ）83−03BX55,シンテーゼ
（Synthese）社製、ネーデルランド〕シリコーン油に基
づく流動調節剤 0.9g 〔バイシロン油（Baysilon oil）、バイエルアクチ
エンゲゼルシヤフト社製〕、及びキシレン 9.0g 計82.7g 画分B: エポキシ官能アクリル樹脂 17.3g 〔セタルックス（Setalux ）83−04 55 70,シンテ
ーゼ（Synthese）社製、ネーデルランド〕。
は、下記成分から調製される： 画分A: アミン官能アクリル樹脂 72.8g 〔セタルックス（Setalux ）83−03BX55,シンテーゼ
（Synthese）社製、ネーデルランド〕シリコーン油に基
づく流動調節剤 0.9g 〔バイシロン油（Baysilon oil）、バイエルアクチ
エンゲゼルシヤフト社製〕、及びキシレン 9.0g 計82.7g 画分B: エポキシ官能アクリル樹脂 17.3g 〔セタルックス（Setalux ）83−04 55 70,シンテ
ーゼ（Synthese）社製、ネーデルランド〕。
画分Ａ及びＢを一緒にし、そしてキシレン中に表４に
挙げた光安定剤を入れた溶液を加える。このラッカー
を、ポリエステル／セルロースアセトブチレート／メラ
ミン樹脂に基づく銀−メタリック焼付ラッカで下塗した
金属シートに噴霧する。室温で１時間空気にさらした
後、試験片を30分間135℃で焼付ける。表面ラッカーの
層厚は約40μｍである。
挙げた光安定剤を入れた溶液を加える。このラッカー
を、ポリエステル／セルロースアセトブチレート／メラ
ミン樹脂に基づく銀−メタリック焼付ラッカで下塗した
金属シートに噴霧する。室温で１時間空気にさらした
後、試験片を30分間135℃で焼付ける。表面ラッカーの
層厚は約40μｍである。
焼付けの際に発生した変色を色相差異ΔＥとしてDIN6
174により測定する。
174により測定する。
各々の場合について、遊離のヒドロキシベンゾトリア
ゾールとそのＯ−アシル化化合物とを比較する。
ゾールとそのＯ−アシル化化合物とを比較する。
比較例Ｂ＝２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（1,1−ジ
メチルベンジル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール 比較例Ｃ＝２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（第三−
ペンチル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール。
メチルベンジル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール 比較例Ｃ＝２−〔２−ヒドロキシ−3,5−ジ（第三−
ペンチル）−フェニル〕−ベンゾトリアゾール。
実施例5:風化作用による変色 実施例１において記載した透明なラッカーを、白色に
下塗された金属板に厚さ40μｍの乾燥フィルムとして塗
布する。その試験片を130℃にて30分間焼付けて、次に
フロリダ装置中で３ケ月間風化させる。DIN6174による
白色度の程度を、風化の前及び後に測定し、その結果か
ら各々の場合について色相差異ΔＥを測定する。結果を
表５に要約する。
下塗された金属板に厚さ40μｍの乾燥フィルムとして塗
布する。その試験片を130℃にて30分間焼付けて、次に
フロリダ装置中で３ケ月間風化させる。DIN6174による
白色度の程度を、風化の前及び後に測定し、その結果か
ら各々の場合について色相差異ΔＥを測定する。結果を
表５に要約する。
実施例6:UVによって分裂させることができる触媒との併
用 酸硬化性アクリル樹脂／メラミン樹脂の透明なラッカ
ーを、次のものから製造する： アクリロイド（Acryloid ）AT410 57.3部 〔アクリル樹脂、ローム アンド ハス コーポレー
ション（Rohm and Haas Corp.）米国；固体含量75
％〕、シメル（Cymel ）301 18.0部 〔メラミン樹脂、アメリカン サイアナミド（Amer.C
yanamid）〕、ブチルアセテート 10.0部 セルロースアセトブチレートCAB551 1.8部 〔イーストマンケミカル社（Eastman Chem.Cor
p.）〕、流動調節剤 2.6部 〔モダフロー（Modaflow ）、モンサント社（Monsan
to Corp.）〕及び、ブタノール 10.5部。
用 酸硬化性アクリル樹脂／メラミン樹脂の透明なラッカ
ーを、次のものから製造する： アクリロイド（Acryloid ）AT410 57.3部 〔アクリル樹脂、ローム アンド ハス コーポレー
ション（Rohm and Haas Corp.）米国；固体含量75
％〕、シメル（Cymel ）301 18.0部 〔メラミン樹脂、アメリカン サイアナミド（Amer.C
yanamid）〕、ブチルアセテート 10.0部 セルロースアセトブチレートCAB551 1.8部 〔イーストマンケミカル社（Eastman Chem.Cor
p.）〕、流動調節剤 2.6部 〔モダフロー（Modaflow ）、モンサント社（Monsan
to Corp.）〕及び、ブタノール 10.5部。
ラッカーの固体含量は65％である。そのラッカーをガ
ラス板上に厚さ40μｍの乾燥フィルムとしてナイフ塗布
する。その試験片を160WのUV−ランプで10秒間照射し、
次に120℃にて30分間焼付ける。UV光で活性化できる硬
化触媒として、ベンゾイン−ｐ−トルエンスルホネート
１％を使用すると、UV光に暴露したときｐ−トルエンス
ルホン酸が分裂する。このタイプのブロックト酸触媒
は、暗所において硬化しないという利点を有する。UV−
吸収剤の光安定剤の存在下においては、ラッカーの硬化
が不完全であるという不都合を有する。しかし、光安定
剤として本発明のO-アシル化ベンゾトリアゾールを使用
すると、硬化触媒の活性化は、下記表６に示すように妨
げられない。ラッカーの硬化はこれらの試験においてDI
N 53157による振子硬度（Pendulum hardness）の測定に
よて評価する。続いて、その試験片をキセノンウエザロ
メーター中で風化し、そして光沢残留パーセントを測定
する。
ラス板上に厚さ40μｍの乾燥フィルムとしてナイフ塗布
する。その試験片を160WのUV−ランプで10秒間照射し、
次に120℃にて30分間焼付ける。UV光で活性化できる硬
化触媒として、ベンゾイン−ｐ−トルエンスルホネート
１％を使用すると、UV光に暴露したときｐ−トルエンス
ルホン酸が分裂する。このタイプのブロックト酸触媒
は、暗所において硬化しないという利点を有する。UV−
吸収剤の光安定剤の存在下においては、ラッカーの硬化
が不完全であるという不都合を有する。しかし、光安定
剤として本発明のO-アシル化ベンゾトリアゾールを使用
すると、硬化触媒の活性化は、下記表６に示すように妨
げられない。ラッカーの硬化はこれらの試験においてDI
N 53157による振子硬度（Pendulum hardness）の測定に
よて評価する。続いて、その試験片をキセノンウエザロ
メーター中で風化し、そして光沢残留パーセントを測定
する。
上記の記載から明らかなように、遊離のベンゾトリア
ゾール（比較例Ｃ）は光から良好に保護するが、ラッカ
ーの硬化を著しく減ずる。これに対して、本発明の光安
定剤においては、光からの良好な保護及び満足な硬化の
双方が得られる。光からの保護の水準は立体障害アミン
タイプの光安定剤（HALS）の添加によって増加すること
ができる。
ゾール（比較例Ｃ）は光から良好に保護するが、ラッカ
ーの硬化を著しく減ずる。これに対して、本発明の光安
定剤においては、光からの良好な保護及び満足な硬化の
双方が得られる。光からの保護の水準は立体障害アミン
タイプの光安定剤（HALS）の添加によって増加すること
ができる。
試験報告 Ｏ−アシル化２−（２−ヒドロキシフェニル）−ベン
ゾトリアゾールの溶解性は被覆材料用の代表的な溶媒中
において測定された。使用した溶媒は、キシレン、２−
ブトキシエチルアセテートおよびブチルアセテートであ
る。
ゾトリアゾールの溶解性は被覆材料用の代表的な溶媒中
において測定された。使用した溶媒は、キシレン、２−
ブトキシエチルアセテートおよびブチルアセテートであ
る。
試験操作 各化合物1gを溶媒5gとともに15分間攪拌した。透明な
溶液が得られた場合には、溶解性＞20％に分類した。
溶液が得られた場合には、溶解性＞20％に分類した。
透明な溶液が得られなかった場合には、追加の溶媒1.
7gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は15ないし20％に分類し
た。
7gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は15ないし20％に分類し
た。
透明な溶液が得られなかった場合には、追加の溶媒2.
3gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は10ないし15％に分類し
た。
3gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は10ないし15％に分類し
た。
透明な溶液が得られなかった場合には、追加の溶媒10
gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は１ないし５％に分類し
た。
gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は１ないし５％に分類し
た。
透明な溶液が得られなかった場合には、追加の溶媒80
gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は１ないし５％に分類し
た。
gを添加しそして攪拌をさらに15分間続けた。透明な溶
液が得られた場合には、溶解性は１ないし５％に分類し
た。
透明な溶液が得られなかった場合には、溶解性は＜１
％に分類した。
％に分類した。
試験結果： 試験された化合物： Ａ）米国特許発明明細書第3936418号に記載の従来技術
化合物 （前記明細書の特許請求の範囲19項記載の化合物） Ａ−2:X−(CH2)4−Ｘ （前記明細書の特許請求の範囲30項記載の化合物） Ｂ）本発明の化合物 この結果より、米国特許発明明細書第3936418号に記
載の化合物の溶解性は低く、これらの化合物は大半の被
覆材料に使用され得ないことが示された。一方、本発明
の化合物は、化合物を被覆材料中に容易に混和させるの
に十分な溶解性を有することが示された。
化合物 （前記明細書の特許請求の範囲19項記載の化合物） Ａ−2:X−(CH2)4−Ｘ （前記明細書の特許請求の範囲30項記載の化合物） Ｂ）本発明の化合物 この結果より、米国特許発明明細書第3936418号に記
載の化合物の溶解性は低く、これらの化合物は大半の被
覆材料に使用され得ないことが示された。一方、本発明
の化合物は、化合物を被覆材料中に容易に混和させるの
に十分な溶解性を有することが示された。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−110528（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−63846（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−71663（ＪＰ，Ａ)
Claims (7)
- 【請求項１】次式I: （式中、 Ｘは、１または２を表わし、 R1は、式：−CO−R5で表わされるアシル基、式：−SO2
−R6で表わされるスルホニル基または式：−Ｐ（Ｏ）
（R14）（R15）で表わされるホスホリル基を表わし、 R2は、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、 Ｘが１を表わすとき、R3は、炭素原子数１ないし12のア
ルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基
または式：−(CH2)n−COOR9で表わされる基を表わし、
そしてＸが２を表わすとき、R3は、式：−(CH2)n−CO−
NH−R12−NH−CO−(CH2)n−で表わされる二価の基を表
わし、 R4は、水素原子またはハロゲン原子を表わし、 R5は、炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数
２ないし18のアルケニル基、フェニル基、ベンゾイル基
により置換されたフェニル基を表わすか、あるいは炭素
原子数７ないし12のアリールアルキル基を表わすか、ま
たは炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基により置換されたベンジ
ル基を表わすか、ベンゾイル基またはカルボニル−炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基を表わし、 R6は、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素原
子数７ないし18のアルキルアリール基を表わし、 R9は、水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基ま
たは式：−(CH2CH2O)P−R16で表わされる基を表わし、 R12は、炭素原子数１ないし12のアルキレン基を表わ
し、 R14およびR15は、互いに独立してそれぞれ炭素原子数１
ないし12のアルコキシ基を表わし、 R16は、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、 ｎは、１または２を表わし、 ｐは、１ないし10の数を表わし、 ｑは、２ないし12の数を表わす。）で表わされる化合物
よりなる、被覆用材料のためのクリプト光安定剤。 - 【請求項２】上記式Ｉにおいて、 Ｘが、１を表わし、 R1が、式：−CO−R5、−SO2−R6または−Ｐ（Ｏ）
（R14）（R15）で表わされる基を表わし、 R2が、炭素原子数１ないし12のアルキル基または炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数
７ないし９のフェニルアルキル基または基：−CH2CH2CO
OR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、 R5が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数
２ないし４のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基ま
たはナフチルメチル基を表わし、 R6が、メチル基または炭素原子数７ないし18のアルキル
フェニル基を表わし、 R9が、炭素原子数１ないし12のアルキル基を表わし、そ
して R14およびR15が、互いに独立してそれぞれ炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基を表わすところの特許請求の範
囲第１項記載のクリプト光安定剤。 - 【請求項３】前記式Ｉにおいて、 R1が、式：−CO−R5または−SO2−R6で表わされる基を
表わし、そして、 R5およびR6が、特許請求の範囲第２項で定義した意味を
有するところの特許請求の範囲第２項記載のクリプト光
安定剤。 - 【請求項４】前記式Ｉにおいて、 R2が、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはα−ジ
メチルベンジル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、α−ジメチ
ルベンジル基または基：−CH2CH2COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、そして、 R1およびR9が、特許請求の範囲第３項で定義した意味を
有するところの特許請求の範囲第３項記載のクリプト光
安定剤。 - 【請求項５】前記式Ｉにおいて、 Ｘが、１を表わし、 R1が、基：−CO−R5または−SO2−R6を表わし、 R2が、炭素原子数１ないし８のアルキル基またはα−ジ
メチルベンジル基を表わし、 R3が、炭素原子数１ないし８のアルキル基、α−ジメチ
ルベンジル基または基：−CH2CH2COOR9を表わし、 R4が、水素原子または塩素原子を表わし、 R5が、炭素原子数１ないし12のアルキル基、炭素原子数
２ないし４のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基ま
たはナフチルメチル基を表わし、 R6が、メチル基または炭素原子数７ないし18のアルキル
フェニル基を表わし、そして R9が、炭素原子数１ないし12のアルキル基を表わすとこ
ろの特許請求の範囲第１項記載のクリプト光安定剤。 - 【請求項６】被覆用材料は、アルキド樹脂、アクリル樹
脂、エポキシド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリエステルおよびフェノール樹脂並びに
これら相互の混合物からなる群から選択される結合剤を
含有するところの特許請求の範囲第１項記載のクリプト
光安定剤。 - 【請求項７】結合剤は、酸化乾燥樹脂または樹脂混合物
であり、そして硬化触媒として有機金属化合物を含有す
るところの特許請求の範囲第１項記載のクリプト光安定
剤。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH5220/84-6 | 1984-11-01 | ||
| CH522084 | 1984-11-01 | ||
| CH45385 | 1985-02-01 | ||
| CH453/85-0 | 1985-02-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61109778A JPS61109778A (ja) | 1986-05-28 |
| JP2597830B2 true JP2597830B2 (ja) | 1997-04-09 |
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ID=25684622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60246089A Expired - Lifetime JP2597830B2 (ja) | 1984-11-01 | 1985-11-01 | 被覆用材料のためのクリプト光安定剤 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4775707A (ja) |
| EP (1) | EP0180548B1 (ja) |
| JP (1) | JP2597830B2 (ja) |
| CA (1) | CA1263955A (ja) |
| DE (1) | DE3571251D1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| DE3571251D1 (en) * | 1984-11-01 | 1989-08-03 | Ciba Geigy Ag | Coatings stabilized against the action of light |
| US4926190A (en) * | 1987-02-18 | 1990-05-15 | Ciba-Geigy Corporation | Ink jet recording process using certain benzotriazole derivatives as light stabilizers |
| US5162405A (en) * | 1987-12-24 | 1992-11-10 | Elf Atochem North America, Inc. | Single-functional and mixtures of multi-functional oligomeric performance additive compositions and their uses |
| EP0323408B1 (de) * | 1987-12-28 | 1994-04-06 | Ciba-Geigy Ag | Neue 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazol-derivate |
| EP0453396B1 (de) * | 1990-03-30 | 1995-12-13 | Ciba SC Holding AG | Lackzusammensetzungen |
| US5086097A (en) * | 1991-01-07 | 1992-02-04 | Mobay Corporation | Ultraviolet stabilizer for polycarbonate compositions |
| EP0711804A3 (de) | 1994-11-14 | 1999-09-22 | Ciba SC Holding AG | Kryptolichtschutzmittel |
| US6218463B1 (en) * | 1998-04-20 | 2001-04-17 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Ocular devices manufactured with free radical-polymerizable latent ultra-violet absorbers |
| US6239276B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-05-29 | Cytec Technology Corporation | Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers |
| BR9911432A (pt) | 1998-06-22 | 2001-03-20 | Cytec Tech Corp | Composto de triazina, composição estabilizadora, e, processo para estabilizar um material |
| ES2238839T3 (es) | 1998-06-22 | 2005-09-01 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Absorbedores de la luz ultravioleta de policarbamato de trisaril-1,3,5-triazina. |
| US6297377B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-10-02 | Cytec Technology Corporation | Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers |
| TWI259182B (en) | 1998-11-17 | 2006-08-01 | Cytec Tech Corp | Process for preparing triazines using a combination of Lewis acids with reaction promoters |
| US6867250B1 (en) | 2000-10-30 | 2005-03-15 | Cytec Technology Corp. | Non-yellowing ortho-dialkyl aryl substituted triazine ultraviolet light absorbers |
| US20100074949A1 (en) | 2008-08-13 | 2010-03-25 | William Rowe | Pharmaceutical composition and administration thereof |
| JP2002264500A (ja) | 2001-03-14 | 2002-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| US20030141491A1 (en) * | 2001-11-05 | 2003-07-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-sensitive recording material |
| US6855269B2 (en) * | 2001-11-09 | 2005-02-15 | Cytec Technology Corp. | Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers |
| DE50312164D1 (de) * | 2003-12-29 | 2010-01-07 | Ruag Land Systems | Schutz-schicht gegen geformte ladungen |
| WO2006002421A2 (en) * | 2004-06-24 | 2006-01-05 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Modulators of atp-binding cassette transporters |
| ES2624554T3 (es) | 2005-12-28 | 2017-07-14 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Formas sólidas de n- [2,4 - bis (1,1 - dimetiletil) - 5 - hidroxifenil] - 1,4 - dihidro - 4 - oxoquinolina - 3 - carboxamida |
| BR112014021090B1 (pt) | 2012-02-27 | 2023-01-24 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Composição farmacêutica e uso de n-[2,4-bis(1,1-dimetiletil)-5-hidróxifenil]-1,4-di-hidro-4-oxoquinolina3-carboxamida na preparação da mesma |
| EP2881450B1 (en) * | 2012-07-31 | 2020-09-09 | Adeka Corporation | Latent additive and composition containing latent additive |
| WO2017007672A1 (en) | 2015-07-07 | 2017-01-12 | 3M Innovative Properties Company | Substituted benzotriazole phenols |
| CN111094256A (zh) * | 2017-10-05 | 2020-05-01 | 株式会社艾迪科 | 化合物、潜在性紫外线吸收剂、组合物、固化物及固化物的制造方法 |
| CN114685710B (zh) * | 2022-04-27 | 2024-01-09 | 西尼尔(山东)新材料科技有限公司 | 一种pbs用呋喃基光稳定剂的制备方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH410968A (de) * | 1961-06-16 | 1966-04-15 | Geigy Ag J R | Verfahren zur Herstellung von substituierten 2-(2'-Hydroxyphenyl)-benztriazolverbindungen |
| GB1158548A (en) * | 1965-07-26 | 1969-07-16 | Nitto Kasei Co Ltd | Stabilizing Synthetic Polymer against Light |
| JPS4530567Y1 (ja) * | 1966-08-30 | 1970-11-24 | ||
| US3936418A (en) * | 1974-10-02 | 1976-02-03 | Eastman Kodak Company | Benzotriazole ortho-ester ultraviolet stabilizers and their use in organic compositions |
| US4041011A (en) * | 1974-10-02 | 1977-08-09 | Eastman Kodak Company | Benzotriazole ortho-ester ultraviolet stabilizers |
| US4061652A (en) * | 1975-10-28 | 1977-12-06 | General Electric Company | Urethanes of hydroxybenzotriazoles |
| US4344830A (en) * | 1976-02-23 | 1982-08-17 | General Electric Company | UV Curable resins and sulfonate esters of benzotriazoles used in such resins |
| JPS53110528A (en) * | 1977-03-08 | 1978-09-27 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | Color photographic material with fading resistance improved |
| EP0067989A1 (en) * | 1980-12-31 | 1983-01-05 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Thermosetting acrylic enamel stabilized against weathering by addition of ultraviolet light stabilizer |
| JPS598751A (ja) * | 1982-07-07 | 1984-01-18 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 安定化されたポリフエニレンエ−テル系樹脂組成物 |
| JPS6071663A (ja) * | 1983-09-28 | 1985-04-23 | Toray Ind Inc | ポリフエニレンスルフイドフイルム |
| DE3571251D1 (en) * | 1984-11-01 | 1989-08-03 | Ciba Geigy Ag | Coatings stabilized against the action of light |
-
1985
- 1985-10-28 DE DE8585810487T patent/DE3571251D1/de not_active Expired
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-
1987
- 1987-06-22 US US07/065,655 patent/US4775707A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-10-24 US US07/427,919 patent/US5030731A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3571251D1 (en) | 1989-08-03 |
| US4775707A (en) | 1988-10-04 |
| CA1263955A (en) | 1989-12-19 |
| US5030731A (en) | 1991-07-09 |
| EP0180548A3 (en) | 1987-02-04 |
| EP0180548B1 (de) | 1989-06-28 |
| EP0180548A2 (de) | 1986-05-07 |
| JPS61109778A (ja) | 1986-05-28 |
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