JP3076878B2 - ５−チオ−置換ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤および安定化された組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はチオエーテル部分により、ベンゼン環の５位
において置換された２−（２−ヒドロキシフェニル）−
2H−ベンゾトリアゾール化合物および該化合物を含む安
定化組成物に関する。

発明の背景 ２−（２−ヒドロキシフェニル）−2H−ベンゾトリア
ゾールは化学線への暴露の有害作用に対する多数の有機
物質を保護する安定剤として広く一般の許容性の見られ
る市販の紫外線吸収剤の非常に重要な種類に相当する。

この化合物の種類における商業的および技術的重要性
について長い期間に、この化合物の一般的な種類を記載
している多数の刊行物および特許がある。これらの参考
文献は2H−ベンゾトリアゾールのチオエーテル部分は言
うまでもなく硫黄を含むいかなる基による置換を引用し
ているものはほとんどない。

カラー写真材料の安定化に関するヨーロッパ特許出願
323,853号は、ベンゼン環上で、フェニル環上でまたは
両方の環上で、特にアルキルチオまたはアリールチオ部
分を含む多くの置換基により置換していてもよい一般的
な2H−ベンゾトリアゾール化合物を開示している。５−
メチルチオ−２−（２−ヒドロキシ−３−第二ブチル−
５−第三ブチルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾールの
みが特に示されている。この参考文献はベンゾトリアゾ
ールを５−アルキルチオまたは５−アリールチオ置換基
を含む化合物の例証なしに非常に広範に定義しており、
さらにアルキルチオまたはアリールチオ部分がベンゼン
環の５位上に位置している場合に得られる有利な安定化
特性を指摘していない。

米国特許第3,766.205号は５−メルカプト−２−（２
−ヒドロキシ−3,5−ジメイルフェニル）−2H−ベンゾ
トリアゾールおよび該メルカプタンのエチルアクリレー
トへのミカエル（Michael）付加により製造されるエス
テルを記載している。この化合物はこの文献のミカエル
付加物により構造的に特徴付けられる。従来のミカエル
付加物はアクリレート基を除く熱戻りミカエル開裂を受
ける。このような化合物は本発明よりも低い熱安定剤を
もつことが予期されるであろう。

本発明化合物および組成物は従来技術の化合物から区
別される。これらの文献はベンゼン環の５位でアルキル
チオ部分、アリールチオ部分またはアラルキルチオ部分
による2H−ベンゾトリアゾール化合物の置換が紫外線吸
収を著しく増加させおよびそのような５−チオ置換のな
いベンゾトリアゾールに関して約20nmまで吸収最大値を
より長い波長の方へシフトもさせることを記載していな
い。吸収最大値の高い波長への赤色シフトに結びつくこ
のような増加した吸収はより長い波長の紫外線（近可
視）に感受性のある物質、例えば塗料、プラスチックお
よび繊維の保護を拡大する。

発明の目的 本発明の第一の目的は従来のベンゾトリアゾールより
もより長波長における増大した紫外線吸収を有する５−
チオ置換2H−ベンゾトリアゾールを提供することであ
る。

本発明の他の目的は５−チオ置換2H−ベンゾトリアゾ
ールの有効安定化量を含む安定化組成物を提供すること
である。

本発明の他の目的は化学結合により種々の基質物質に
組み入れ、そのため該物質に関して非移行性にする反応
性部分を含有する５−チオ置換2H−ベンゾトリアゾール
を提供することである。

さらに本発明の他の目的はこのようは５−チオ置換2H
−ベンゾトリアゾールの新しい製造方法に示すことであ
る。

詳細な開示 本発明は、 次式A,BまたはC: ｛式中、 R₁は水素原子、炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分
枝鎖のアルキル基、炭素原子数２ないし18の直鎖もしく
は分枝鎖のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシク
ロアルキル基または炭素原子数７ないし15のフェニルア
ルキル基を表し、 R₂は炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基、炭素原子数２ないし18の直鎖もしくは分枝鎖の
アルケニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル
基、炭素原子数７ないし15のフェニルアルキル基、ヒド
ロキシル基、−OR₄（基中、R₄は炭素原子数１ないし24
の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す。）を表す
か、または１個以上の−OH基、−OCO−R₁₁基、−OR
₄基、−NCO基もしくは−NH₂基またはそれらの混合で置
換された前記アルキル基；または１個以上の−Ｏ−基、
−NH−基もしくは−NR₄−基またはそれらの混合で中断
された、さらに未置換のまたは１個以上の−OH基、−OR
₄基もしくは−NH₂基またはそれらの混合で置換していて
もよい前記アルキル基もしくはアルケニル基を表し；あ
るいはR₂は −（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅ 〔式中、Ｘは−Ｏ−または−Ｎ（R₁₆）−を表し、 Ｙは−Ｏ−または−Ｎ（R₁₇）−を表し、 Ｚは炭素原子数２ないし12のアルキレン基;1ないし３個
の窒素原子、酸素原子またはその混合で置換された炭素
原子数４ないし12のアルキレン基を表し、またはおのお
のヒドロキシル基によって置換された、炭素原子数３な
いし12のアルキレン基、ブテニレン基、ブチニレン基、
シクロヘキシレン基またはフェニレン基を表し、ｍは0,
1または２を表し ｐは１を表すか、それぞれＸおよびＹが−Ｎ（R₁₆）−
および−Ｎ（R₁₇）−を表すとき、ｐはまた０を表し、R
₁₅は基：−CO−Ｃ（R₁₈）＝Ｃ（Ｈ）R₁₉を表すか、Ｙが
−Ｎ（R₁₇）−を表すとき、R₁₇と一緒になって−CO−CH
＝CH−CO−を表し;R₁₈は水素原子またはメチル基を表
し； R₁₉は水素原子、メチル基または−CO−Ｘ−R₂₀を表し； R₂₀は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基ま
たは次式： （式中、R₁、R₃、Ｘ、Ｚ、ｍおよびｐは上記で定義した
意味を持つ。）を表し； R₁₆およびR₁₇は互いに独立して水素原子、炭素原子数１
ないし12のアルキル基;1ないし３個の酸素原子で置換さ
れた炭素原子数３ないし12のアルキル基を表すか、ある
いはシクロヘキシル基、または炭素原子数７ないし15の
アラルキル基を表し、ならびにＺがエチレン基を表す場
合R₁₆とR₁₇は一緒になってエチレン基を形成する。〕を
表し； ｎは１または２を表し、 ｎが１の場合、 R₅は塩素原子、OR₆またはNR₇R₈を表すか、 R₅は−PO（OR₁₂）_２、−OSi（R₁₁）_８または−OCO−R₁₁
を表し、 あるいは−Ｏ−、−Ｓ−またはNR₁₁により中断され、さ
らに未置換のもしくは−OHまたは−OCO−R₁₁により置換
されていてもよい炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは
分枝鎖のアルキル基；未置換のまたは−OHにより置換さ
れた炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基；未置換
のもしくは−OHで置換された、直鎖もしくは分枝鎖の炭
素原子数２ないし18のアルケニル基、炭素原子数７ない
し15のアラルキル基、−CH₂CHOH−R₁₃またはグリシジル
基を表し； R₆は水素原子、未置換のまたは１個以上の基OH、OR₄も
しくはNH₂で置換された炭素原子数１ないし24の直鎖も
しくは分枝鎖のアルキル基を表し； または−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOHまたは−（OCH₂CH₂）_WO
R₂₁（基中、ｗは１ないし12を表し、およびR₂₁は炭素原
子数１ないし12のアルキル基を表す。）を表し； R₇およびR₈は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
のアルキル基；−Ｏ−、−Ｓ−または−NR₁₁−で中断さ
れた、炭素原子数３ないし18の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基；炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、
炭素原子数６ないし14のアリール基または炭素原子数１
ないし３のヒドロキシルアルキル基を表すか、またはR₇
またはR₈は窒素原子と一緒になってピロリジン環、ピペ
リジン環、ピペラジン環またはモルホリン環を表し； ｎが２の場合、 R₅は−Ｏ−R₉−Ｏ−または−Ｎ（R₁₁）−R₁₀−Ｎ
（R₁₁）−で表される２価の基の一つを表し、 R₉は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数
４ないし８のアルケニレン基、炭素原子数４のアルキニ
レン基、シクロヘキシレン基、−Ｏ−により、または−
CH₂−CHOH−CH₂−Ｏ−R₁₄−Ｏ−CH₂−CHOH−CH₂−によ
って置換された炭素原子数４ないし10の直鎖もしくは分
枝鎖のアルキレン基を表し、 R₁₀は−Ｏ−、シクロヘキシレン基、または により中断されていてもよい炭素原子数２ないし12の直
鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を表し、あるいはR₁₀
およびR₁₁は２個の窒素原子と一緒になってピペラジン
環を形成し； R₁₄は炭素原子数２ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキレン基；−Ｏ−、シクロアルキレン基、アリーレン
基または で中断された、炭素原子数４ないし10の直鎖もしくは分
枝鎖のアルキレン基を表し； R₇およびR₈が独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
のアルキル基あるいはR₇およびR₈は一緒になって炭素原
子数４ないし６のアルキレン基、３−オキサペンタメチ
レン基、３−イミノペンタメチレン基または３−メチル
イミノペンタメチレン基を表し； R₁₁は水素原子、炭素原子数１ないし18の直鎖もしくは
分枝鎖のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロア
ルキル基、炭素原子数３ないし８の直鎖もしくは分枝鎖
のアルケニル基、炭素原子数６ないし14のアリール基ま
たは炭素原子数７ないし15のアラルキル基を表し； R₁₂は炭素原子数１ないし18の直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル基、炭素原子数３ないし18の直鎖もしくは分枝鎖
のアルケニル基、炭素原子数５ないし10のシクロアルキ
ル基、炭素原子数６ないし16のアリール基または炭素原
子数７ないし15のアラルキル基を表し； R₁₃は水素原子、−PO（OR₁₂）_２で置換された炭素原子
数１ないし18の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基；未置
換のもしくはOHで置換されたフェニル基、炭素原子数７
ないし15のアラルキル基または−CH₂OR₁₂を表し； R₃は炭素原子数１ないし20のアルキル基、炭素原子数３
ないし18のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシク
ロアルキル基、炭素原子数７ないし15のフェニルアルキ
ル基、炭素原子数６ないし10のアリール基または炭素原
子数１ないし４のアルキル基の１ないし２個により置換
された該アリール基、あるいは1,1,2,2−テトラヒドロ
パーフルオロアルキル基（パーフルオロアルキル部分は
６ないし16個の炭素原子のものである。）を表し、なら
びに Ｔは−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、
Ｅは炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルキレン基あるいは炭素原子数８
ないし12のシクロヘキシレンにより中断または停止した
アルキレン基を表す。）を表し、 但し、 R₁が第二ブチル基を表しおよびR₂が第三ブチルを表すと
き、R₃はメチル基を表さない。｝で表される化合物に関
する。

好ましくは、本発明は、式Ｉ、IIまたはIII ｛式中、 R₁は水素原子、炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分
枝鎖のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロアル
キル基または炭素原子数７ないし15のフェニルアルキル
基を表し； R₂は炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基また
は炭素原子数７ないし15のフェニルアルキル基；または
１つ以上の−OH、−OR₄（基中、R₄は炭素原子数１ない
し12のアルキル基を表す。）もしくは−NH₂基で置換さ
れた前記アルキル基を表し； またはR₂は−CH₂CH₂COR₅〔基中、R₅は−OR₆または−NH₂
を表し;R₆は水素原子または炭素原子数１ないし24のア
ルキル基、または１個以上の−OH基で置換されている該
アルキル基を表し；または−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOHま
たは−（OCH₂CH₂）_WOR₂₁（基中、ｗは１ないし12を表し
およびR₂₁は炭素原子数１ないし12のアルキル基を表
す。）を表し〕を表し；あるいは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔Ｘおよ
びＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基で置換された
炭素原子数３ないし12のアルキレン基を表し、R₁₅は基
−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈は水素原子またはメ
チル基を表す。）を表し、ｍは0,1または２を表し、お
よびｐは１を表す。〕を表し； R₃は炭素原子数１ないし20のアルキル基、炭素原子数３
ないし18のアルケニル基を表し、炭素原子数５ないし12
のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし15のフェニル
アルキル基、炭素原子数６ないし10のアリール基または
１もしくは２個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で
置換されている該アリール基を表し； ｎが１を表す時、 R₅は、塩素原子、−OR₆または−NR₇R₈〔基中、R₆は水素
原子または炭素原子数１ないし12の直鎖もしくは分枝鎖
のアルキル基を表し、R₇およびR₈は独立して水素原子、
炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５ない
し12のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし14のアリ
ール基または炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキ
ル基を表し、あるいは−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOH（基
中、ｗは１ないし12を表す。）を表す。〕を表し； Ｔは−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、
Ｅは炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
５ないし12のシクロアルキレン基または炭素原子数８な
いし12個のシクロヘキシレン基により中断または停止さ
れたアルキレン基を表し、 但し、R₁が第二ブチル基およびR₂が第三ブチル基を表す
とき、R₃はメチル基を表さない。｝で表される化合物に
関する。

さらに好ましくは、式中、R₁は水素原子、枝分かれし
た炭素原子数３ないし12のアルキル基、シクロヘキシル
基または炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を
表し； R₂は炭素原子数１ないし12の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基；または１個以上の−OHで置換されている該アル
キル基を表し；またはR₂はシクロヘキシル基もしくは炭
素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；ある
いは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔式中、
ＸおよびＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基で置換
された炭素原子数３ないし８のアルキレン基を表し、R
₁₅は基−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₃は水素原子ま
たはメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表しおよびｐ
は１を表す。〕で表される基を表し； R₃は炭素原子数１ないし18のアルキル基、アリル基、シ
クロヘキシル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基を表し、フェニル基または１もしくは２個のメチ
ル基で置換された該フェニル基を表し；ならびに ｎが１を表す場合、R₅は−OR₆または−NR₇R₈〔基中、R₆
は水素原子または炭素原子数１ないし12の直鎖もしくは
分枝鎖のアルキル基を表し、R₇およびR₈は独立して水素
原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基または炭素原
子数１ないし３のヒドロキシアルキル基を表し、または
−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOH（基中、ｗは１ないし12を表
す。）を表す。〕を表し；ならびに Ｔは−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、Ｅは炭素原子
数２ないし６のアルキレン基、炭素原子数６ないし８の
シクロアルキレン基または炭素原子数８ないし10のシク
ロヘキシレン基で中断されたアルキレン基を表す。）を
表すものである。

最も好ましくは、式中、R₁は水素原子、枝分かれした
炭素原子数４ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基
またはベンジル基、α−メチルベンジル基またはα，α
−ジメチルベンジル基を表し； R₂は炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基；または１個以上の−OHで置換されている該アル
キル基を表し；またはR₂はシクロヘキシル基、ベンジル
基、α−メチルベンジルまたはα，α−ジメチルベンジ
ル基を表すか；あるいは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅ 〔式中、ＸおよびＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル
基で置換された炭素原子数３ないし８のアルキレン基を
表し、R₁₅は基−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈はメチ
ル基を表す。）を表し、ｍは２を表しおよびｐは１を表
す。〕で表される基を表し； R₃はフェニル基を表し、またはR₃は炭素原子数４ないし
14のアルキル基またはベンジル基を表し； ｎが１を表す場合、R₅が−OR₆または−NR₇R₈〔基中、R₆
は水素原子または炭素原子数４ないし12の直鎖もしくは
分枝鎖のアルキル基を表し、R₇およびR₈は独立して水素
原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、また
は−OR₆は−（OCH₂CH₂）_wOH（基中、ｗは４ないし12を
表す。）を表す。〕を表し；ならびに Ｔは−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、Ｅは炭素原子
数４ないし６のアルキレン基、炭素原子数６ないし８の
シクロアルキレン基またはジヒドロリモネンジイル基を
表す。）を表す化合物である。

本発明の好ましい具体例は、 式中、R₁は水素原子、枝分かれした炭素原子数４ないし
８のアルキル基または炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基を表し； R₂は炭素原子数４ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基；または１個以上の−OHで置換されている該アル
キル基を表し；または炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基を表し；あるいは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔式中、
ＸおよびＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基で置換
された炭素原子数３ないし８のアルキレン基を表し、R
₁₅は基−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈は水素原子ま
たはメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表しおよびｐ
は１を表す。〕で表される基を表し； R₃はフェニル基、炭素原子数４ないし14のアルキル基、
ベンジル基を表し； ｎが１を表す場合、R₅は−OR₆〔基中、R₆は水素原子ま
たは炭素原子数４ないし12の直鎖もしくは分枝鎖のアル
キル基を表し、または−OR₆は−（OCH₂CH₂）_wOH（基
中、ｗは４ないし12を表す。）を表す。〕を表し；なら
びに Ｔは−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、Ｅは炭素原子
数４ないし６のアルキレン基、炭素原子数６ないし８の
シクロアルキレン基またはジヒドロリモネンジイル基を
表す。）で表される化合物である。

好ましい化合物はＸおよびＹのうち１つが−Ｏ−であ
る化合物；さらに特にはＸおよびＹの両方が−Ｏ−であ
る化合物である。

R₆、R₇およびR₈は−Ｏ−、−Ｓ−または−NR₁₁−によ
り中断されたおよびOHにより置換されていてもよい以下
の炭素原子数３ないし18のアルキル基であり得る：メト
キシエチル基、エトキシエチル基、ブトキシエチル基、
ブトキシプロピル基、メチルチオエチル基、CH₃OCH₂CH₂
OCH₂CH₂−、CH₃CH₂OCH₂CH₂OCH₂CH₂−、C₄H₉OCH₂CH₂OCH₂
CH₂−、エトキシチオプロピル基、オクチルチオプロピ
ル基、ドデシルオキシプロピル基、２−ヒドロキシエチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチ
ル基、６−ヒドロキシヘキシル基、−CH₂CH₂−NH−C
₄H₉、−CH₂CH₂CH₂NH−C₈H₁₇および−CH₂CH₂CH₂−Ｎ（CH
₃）−CH₂CH（C₂H₅）−C₄H₉であり； R₆、R₇、R₈、R₁₁およびR₁₂は以下の炭素原子数５ない
し12のシクロアルキル基であり得る：シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオク
チル基またはシクロドデシル基である。R₆の基の場合、
−OHによって置換されていてもまたよい。

R₇、R₈およびR₁₁は以下のアルケニル基であってよ
い：アリル基、メタリル基、２−ｎ−ヘキシル基または
４−ｎ−オクテニル基。

R₆がアルケニル基の場合、アルケニル基として定義さ
れたR₇、R₈およびR₁₁と同じ意味を表すが、さらにまた
−CH＝CH₂、ｎ−ウンデク−10−エニル基、またはｎ−
オクタデセ−９−エニル基であってよく、ならびにまた
−OHで置換された基R₆であってもよい。

R₇およびR₈は以下の炭素原子数７ないし15のアラルキ
ル基であってよい：ベンジル基、α−フェネチル基、２
−フェネチル基または４−第三ブチルベンジル基であ
る。

R₁₁、R₁₃またはR₁₂がアラルキル基である場合、互い
に独立してR₇またはR₈と同様の意味を表す。

R₇、R₈およびR₁₁は互いに独立して以下の炭素原子数
６ないし14のアリール基を表す：フェニル基、α−ナフ
チル基またはβ−ナフチル基。

R₇およびR₈が炭素原子数１ないし３のヒドロキシアル
キル基である場合、それらは以下の基を表す：ヒドロキ
シメチル基、２−ヒドロキシエチル基または２−ヒドロ
キシプロピル基。

炭素原子数２ないし８のアルキレン基としてのR₉およ
びR₁₄は以下の基であってよい：エチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基、ヘキシレン基またはオクチレン基で
ある。

アルキレン基としてのR₁₀は同じ基であってよく、し
かしさらにデシレン基またはドデシレン基のようなより
高い分子基であってよい。

R₉は炭素原子数４ないし８のアルケニレン基、適当な
基の例は以下の物である：ブテニレン基。

R₉およびR₁₄場合、−Ｏ−によって中断されている炭
素原子数４ないし10の直鎖もしくは分枝鎖の適当なアル
キレン基は以下の基である。：−CH₂CH₂OCH₂CH₂−、−C
H（CH₃）−CH₂−Ｏ−CH₂CH（CH₃）−、−CH₂CH₂OCH₂CH₂
OCH₂CH₂−および−CH₂CH₂OCH₂CH₂OCH₂CH₂OCH₂CH₂−であ
る。

R₁₄がシクロアルキレン基の場合、以下の基を含む:1,
3−シクロヘキシレン基および1,4−シクロヘキシレン
基。

R₁₄がアリーレン基の場合、これは特別に以下の基で
あってよい:1,3−フェニレン基または1,4−フェニレン
基。

炭素原子数２ないし12のアルキレン基としてのＺは直
鎖もしくは分枝鎖である。例えば：エチレン、プロピレ
ン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレ
ン、ドデカメチレン、1,1−エチリデン、2,2−プロピリ
デン、2,2−アミリデンまたは２−エチルヘキサメチレ
ンである。炭素原子数２ないし６のアルキレン基が好ま
しい。

Ｚが酸素原子で中断されている炭素原子数４ないし12
のアルキレン基である場合：−CH₂−CH₂−Ｏ−CH₂CH
₂−、−CH₂−CH₂−Ｏ−CH₂−CH₂−CH₂、−CH₂CH₂−Ｏ−
CH₂−CH₂−Ｏ−CH₂CH₂または−CH₂−CH₂−Ｏ−CH₂−CH₂
−Ｏ−CH₂−CH₂−Ｏ−CH₂−CH₂−であり、さらにアルキ
レン基が窒素原子で置換されている場合、基−Ｎ
（R₁₆）（基中、R₁₆は、既に定義されたものを表す。）
を意味し、例えば−CH₂−CH₂−NH−CH₂−CH₂−CH₂−C
H₂、−CH₂−CH₂−CH₂−NH−（CH₂）_８−または−CH₂CH₂
−CH₂−Ｎ（CH₃−CH₂CH（C₂H₅）（CH₂）_４−である。

ヒドロキシ基で置換された炭素原子数３ないし12のア
ルキレン基としてのＺは２−ヒドロキシテトラメチレン
基、２−ヒドロキシヘキサメチレン基、および特に２−
ヒドロキシトリメチレン基である。

シクロヘキシレン基としてのＺは1,4−シクロヘキシ
レン基および特に1,2−シクロヘキシレン基である。

フェニレン基とてのＺは例えばｍ−フェニレン基また
はｐ−フェニレン基である。

ｍは0,1または２であってよく、好ましくは２ある。

ｐは好ましくは１であり、しかしＸおよびＹが窒素原
子を介して結合している場合、０でもまたよい。

炭素原子数１ないし８のアルキル基としてのR₁は例え
ば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ
−ペンチル基、第三アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘ
プチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基また
は第三オクチル基である。第三ブチル基が好ましい。

炭素原子数１ないし12のアルキル基としてのR₁₆、R₁₇
およびR₂₀はR₁に対して前に与えられた意味と同じ意味
を表し、さらに直鎖もしくは分枝鎖のノニル基、デシル
基、ウンデシル基またはドデシル基である。

R₁₆およびR₁₇は酸素原子で中断されたアルキル基を表
す場合は例として、Ｚに対して前に記載されたものと同
じものが適用される。

アラルキル基としてのR₁₆およびR₁₇の例は：ベンジル
基、α−メチルベンジル基、１−フェニルエチル基、
α，α−ジメチルベンジル基または１−フェニルプロピ
ル基である。

Ｚがエチレン基の場合、R₁₆およびR₁₇は一緒になって
さらに、ピペラジン基を介しての架橋と当価のエチレン
基を形成できる。

Ｙが基：−Ｎ（R₁₇）−である場合、R₁₅およびR₁₇は
一緒になって基：−CO−CH＝CH−CO−となりおよび基−
Ｘ−（Ｚ）_ｎ−上に置換基： を形成する。

R₁₅はの好ましい意味は、しかし、−CO−Ｃ（R₁₈）＝
CHR₁₄であり、R₁₈およびR₁₉は好ましくはメチル基であ
りおよび特には水素原子である。

R₂は−CH₂−CH₂−CO−Ｏ−Ｃ（Ｇ）＝CH₂を表しそし
てＧは水素原子またはメチル基を表す。

R₁ないしR₂₁の何れかがアルキル基である場合、その
ような基は、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、第二ブチル基、第
三ブチル基、第三アミル基、２−エチルヘキシル基、第
三オクチル基、ラウリル基、第三ドデシル基、トリデシ
ル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−オクタデシル基および
エイコシル基であり；前記基のいずれかがアルケニル基
の場合、そのような基である例えばアリール基またはオ
レイル基であり；前記基の何れかがシクロアルキル基の
場合、それらは例えば、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基およびシ
クロドデシル基であり；前記基の何れかがフェニルアル
キル基の場合、それらは例えば、ベンジル基、フェニル
エチル基、α−メチルベンジル基、およびα，α−ジメ
チルベンジル基であり；前記基のいずれかがアリール基
の場合、例えばフェニル基またはナフチル基であり、ア
ルキル基で置換されたフェニル基のときは例えば、トリ
ル基およびキシリル基である。R₆が１個以上の−Ｏ−基
で置換されたおよび／または１個以上の−OH基で置換さ
れたアルキル基で有る場合、−OR₆部分は−（OCH₂CH₂）
_wOHまたは−（OCH₂CH₂）_wOR₂₁（基中、ｗは１ないし12
を表し、および例えばR₂₁は炭素原子数１ないし12のア
ルキル基であってよい。

本発明のさらに好ましい具体例は、R₁が第三ブチル基
を表し、ｎは１を表し、R₃はフェニル基およびR₅は−OR
₆（基中、R₆は直鎖もしくは分枝鎖のオクチル基であ
る。）を表す式IIIで表される化合物である。本発明の
まだ、他の好ましい具体例はｎは２を表し、R₁は第三ブ
チルを表し、R₃はフェニル基を表しおよびR₅は−Ｏ−R₉
−Ｏ−（基中、R₉は−Ｏ−によりまたは−CH₂CHOH−CH₂
−Ｏ−R₁₄−Ｏ−CH₂−CHOH−CH₂−により中断された炭
素原子数２ないし24のアルキレン基である。）を表す式
IIIで表される化合物である。

Ｅがアルキレン基である場合、例えば、エチレン基、
テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、２−メチル−1,
4−テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチ
レン基、デカメチレン基およびドデカメチレン基であ
り、Ｅがシクロアルキレン基である場合、例えばシクロ
ペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン
基、シクロオクチレン基およびシクロドデシレン基であ
り;Eがシクロヘキシレン基により中断または停止された
アルキレン基である場合、例えばここではジヒドロリモ
ネンジイル基と称する、リモネンから誘導された飽和ジ
イル基である。

本発明の化合物が、R₂が−CH₂CH₂COOR₆（R₆は水素原
子を表す。）で表される遊離のカルボキシル部分を含む
場合、該酸のアルカリ金属またはアミン塩は本発明の部
分としてまた予期され、そのような本発明の化合物の水
溶性を拡大するためにこのような紫外線吸収剤を水系に
使用されることを可能にする。

本発明はまた、（ａ）化学線照射の有害作用への暴露
により崩壊される有機材料、および （ｂ）式Ａ、ＢまたはＣで表される化合物の有効な安定
化量からなる安定化組成物にも関する。

好ましい有機材料が合成樹脂である。このようなポリ
マーは特に、芳香族部分を有するものであり例えば、ポ
リスチレン、ABC樹脂のようなスチレンのグラフトコポ
リマー、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンスル
フィド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポリイミド、ポリア
ミド−イミド、芳香族ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテ
ルケトン、アルキド樹脂、アミノプラスト樹脂およびエ
ポキシ樹脂である。最も好ましい合成樹脂はエポキシ樹
脂である。

成分（ｂ）の好ましい化合物は、 ５−ｎ−ドデシルチオ−２−（２−ヒドロキシ−3,5−
ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール； ５−フェニルチオ−２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−
第三ブチルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール； ５−フェニルチオ−２−（２−ヒドロキシ−５−メチル
フェニル）−2H−ベンゾトリアゾール； ５−ｎ−オクチルチオ−２−（２−ヒドロキシ−3,5−
ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール； ５−フェニルチオ−２−（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−
α−クミルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾール； ５−フェニルチオ−２−｛２−ヒドロキシ−３−第三ブ
チル−５−［２−（ω−ヒドロキシオクタ（エチレンオ
キシ））−カルボニルエチル］フェニル｝−2H−ベンゾ
トリアゾール； ω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンエトキシ）−３−（５
−フェニルチオ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５
−第三ブチル−４−ヒドロキシハイドロシンナメートま
たは ポリ（エチレンオキシ）ビス［３−（５−フェニルチオ
−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−
４−ヒドロキシハイドロシンナメート）である。

特別な本発明の組成物は、（ａ）化学線照射の有害作
用への暴露により崩壊される有機材料が無機もしくは有
機顔料またはそれらの混合物を含む樹脂下層および樹脂
上部透明層からなる塗料系であり、 （ｂ）式Ａ、ＢまたＣで表される化合物の有効な安定化
量が上部樹脂層もしくは下部樹脂層のいずれかまたは両
方の樹脂層中にあること、を包含する組成物を含む。

上記で言及した組成物の中で特別な本発明の式Ａ、Ｂ
またはＣで表される化合物は、５−フェニルチオ−２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2
H−ベンゾトリアゾール、５−フェニルチオ−２−［２
−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（β−オクチルオ
キシカルボニルエチル）フェニル］−2H−ベンゾトリア
ゾール、５−フェニルチオ−２−｛２−ヒドロキシ−３
−第三ブチル−５−［２−（ω−ヒドロキシ−オクタ
（エチレンオキシ）−カルボニルエチル］フェニル｝−
2H−ベンゾトリアゾール、ω−ヒドロキシ−ポリ（エチ
レンオキシ）−３−（５−フェニルチオ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ハイドロシンナメート、およびポリ（エチレンオキシ）
ビス［３−（５−フェニルチオ）−ベンゾトリアゾール
−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイド
ロシンナメート］である。

特別に重要な化合物は、５−フェニルチオ−２−｛２
−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−［２−（ω−ヒド
ロキシオクタ（エチレンオキシ）−カルボニルエチル］
フェニル｝−2H−ベンゾトリアゾール、ω−ヒドロキシ
−ポリ（エチレンオキシ）−３−（５−フェニルチオ−
ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４
−ヒドロキシハイドロシンナメートまたはポリ（エキレ
ンオキシ）ビス［３−（５−フェニルチオ−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ハイドロシンナメート］である。

特別な重要性の他の組成物は、上部樹脂層もしくは下
部樹脂層のいずれかまたは両方の樹脂層中にベンゾフェ
ノン、ベンゾトリアゾール、シアノアクリル酸誘導体、
ヒドロキシアリール−ｓ−トリアジン、有機ニッケル化
合物およびオキサニリドからなる群から選択された紫外
線吸収剤をさらに含む組成物である。

好ましい紫外線吸収剤は、 ２−［２−ヒドロキシ−3,5−ジ−（α，α−ジメチル
ベンジル）フェニル］−2H−ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三アミルフェニル）−2
H−ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−
第三ブチル−５−（ω−ヒドロキシ−オクタ（エチレン
オキシ）カルボニル）エチルフェニル］−2H−ベンゾト
リアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−
５−（２−オクチルオキシカルボニルエチルフェニル］
−2H−ベンゾトリアゾール、4,4′−ジオクチルオキシ
オキサニリド、2,2′−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第
三ブチルオキサニリド、2,2′−ジドデシルオキシ−5,
5′−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エトキシ−
２′−エチルオキサニリド、2,6−ビス（2,4−ジメチル
フェニル）−４−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキ
シフェニル−ｓ−トリアジン、2,6−ビス（2,4−ジメチ
ルフェニル）−４−（2,4−ジヒドロキシフェニル）−
ｓ−トリアジン、2,4−ビス（2,4−ジヒドロキシフェニ
ル）−６−（４−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、
2,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−［２−ヒド
ロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプ
ロパノキシ）フェニル］−ｓ−トリアジンおよび2,2′
ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノンから
なる群から選択されたものである。

本発明の他の組成物は、上部樹脂層もしくは下部樹脂
層のいずれかまたは両方の樹脂層中にフェノール系抗酸
化剤の有効な安定化量をさらに含む組成物；立体障害性
アミンの有効な安定化量をさらに含む組成物；ホスフィ
ットまたはホスホナイト安定剤の有効な安定化量をさら
に含む組成物を包含する。

特別に重要な組成物は、有機材料が工業用仕上塗料用
に使用されるハイソリッド含量のエナメルであり；コイ
ル被覆として使用され；浸透木目仕上塗料として使用さ
れまたはフィルム形成木目仕上塗料として使用される組
成物である。

本発明の化合物はまた反応性基を含み、該化合物は縮
合またはフリーラジカル付加反応により化学的に結合し
てポリマー物質に成り得る。これは非移行性、非昇華性
紫外線吸収剤を提供する。このような反応性基は、ヒド
ロキシ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基および
エチレン性不飽和部分である。

本発明において使用できる様々な有機材料は、以下の
本明細書詳細に記載されならびに、それらはしばしば高
い有益性が見出される本発明の化合物と共に使用される
様々な補助添加剤である。

本発明のその他の特徴は、これらの生成物が得られる
一つの方法、すなわち５−ハロ置換2H−ベンゾトリアゾ
ールと脂肪族および芳香族チオールとの反応による方法
である。

反応は好ましくは、例えばN,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセタミド、Ｎ−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性溶媒中で、
30ないし200℃の温度において、アルカリ金属もしくは
アルカリ土類金属酸化物、炭酸塩または水酸化物等の適
当なハロゲン化水素受容体の存在下で行われる。

これは式Ａで表される化合物の製造方法であって、ア
ルカリ金属もしくはアルカリ土類金属酸化物、炭酸塩ま
たは水酸化物の存在下、次式： （式中、R₁およびR₂は上記で定義されたものを表す。）
で表される５−ハロ−置換化合物と次式： R₃SH （式中、R₃は上記で定義されたものを表す。）で表され
る脂肪族、フェニルアルキルまたは芳香族メルカプタン
とを、非プロトン溶媒中、30ないし200℃で、反応させ
ることからなる方法である。

反応はまた、補助溶媒として上述した極性溶媒と一緒
に非極性炭化水素溶媒、例えばキシレン、メシチレン中
で、または相間転移条件の下で炭化水素溶媒のみで行わ
れる。

反応は以下に示された式で図式的に描かれる。

本発明の化合物を作るための他の方法は、不飽和分子
の二重結合を切断した５−メルカプト置換2H−ベンゾト
リアゾールの添加を含む。ジエンまたはシクロジエンが
使用される場合、−Ｓ−Ｅ−Ｓ−部分（基中、Ｅはアル
キレン基またはシクロアルキレンである）により結合さ
れたビス化合物が得られる。

実施例12の見地から、５−ハロ置換2H−ベンゾトリア
ゾールとアルコキシカルボニル置換メルカプタンとを使
用する方法の場合、予想されるチオエーテル化合物は単
離されない。逆ミカエル反応が起こるかわりに、単離さ
れた生成物は、Ｔが−Ｓ−である、式Ｂまたは式IIのビ
ススルフィド分子になる。

Ｔが−Ｓ−Ｓ−であるビス化合物は相当する５−メル
カプト置換2H−ベンゾトリアゾールの酸化により製造さ
れる。

一般に安定化され得るポリマーは以下のものを含む。

1.モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例え
ば（所望により架橋結合できる）ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリイソブチレン、ポリブテン−１、ポリメ
チルペント−１−エン、ポリイソプレンまたはポリブタ
ジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペンテ
ンまたはノルボルネンのポリマー。

2. 1.に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピ
レンとポリイソブチレンとの混合物。

3.モノオレフィンとジオレフィン相互または他のビニル
モノマーとのコポリマー、例えばエチレン／プロピレン
コポリマー、プロピレン／ブテン−１、プロピレン／イ
ソブチレン、エチレン／ブテン−１、プロピレン／ブタ
ジエン、イソブチレン／イソプレン、エチレン／アルキ
ルアクリレート、エチレン／アルキルメタクリレートコ
ポリマー、エチレン／ビニルアセテートまたはエチレン
／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノ
マー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキ
サジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノ
ルボルネンのようなものとのターポリマー。

4.ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）。

5.スチレンまたは、メチルスチレンとジエンもしくはア
クリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン／ブタジ
エン、スチレン／アクリロニトリル、スチレン／エチル
メタクリレート、スチレン／ブタジエン／エチルアクリ
レート、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレ
ート；スチレンコポリマーと他のポリマー、例えばポリ
アクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；お
よびスチレンのブロックコポリマー、例えばスチレン／
ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレ
ン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、または
スチレン／エチレン／プロピレン／スチレン。

6.スチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブタジエ
ンにシチレン；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリ
ロニトリル；ポリブタジエンにスチレンおよびアルキル
アクリレートまたはメタクリレート、エチレン／プロピ
レン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、ポリアクリレートまたはポリメタクリレートに
スチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート／ブタ
ジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、
ならびにこれらと5.に列挙したコポリマーとの混合物、
例えばABS、MBS、ASAおよびAESポリマーとして知られて
いるコポリマー混合物。

7.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩
素化ゴム、塩素化もしくはクロロスルホン化ポリエチレ
ン、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特に
ハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、
およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマ
ー、例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／
酢酸ビニル、塩化ビニリデン／酢酸ビニルまたはフッ化
ビニル／ビニルエーテルコポリマー。

8.α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導された
ポリマー、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリ
レート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリ
ル。

9.上記８に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノ
マーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル／ブタジ
エン、アクリロニトリル／アルキルアクリレート、アク
リロニトリル／アルコキシアルキルアクリレートまたは
アクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又は
アクリロニトリル−アルキルメタクリレート−ブタジエ
ンターポリマー。

10.不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシ
ル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されたポリ
マー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポ
リビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリ
ルフタレートまたはポリアリルメラミン。

11.環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例
えばポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビスグリシ
ジルエーテルとのコポリマー。

12.ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよび
エチレンオキシドをコモノマーとして含むポリオキシメ
チレン。

13.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならび
にポリフェニレンオキシドとポリスチレンとの混合物。

14.一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエー
テル、ポリエステルまたはポリブタジエンと他方の成分
として脂肪族または芳香族ポリイソシアネートとから誘
導されたポリウレタンならびにその前駆物質（ポリイソ
シアネート、ポリオールまたはプレポリマー）。

15.ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノ
カルボン酸または相当するラクタムから誘導されたポリ
アミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド４、ポリ
アミド６、ポリアミド6/6、ポリアミド6/10、ポリアミ
ド11、ポリアミド12、ポリ−2,4,4−（トリメチルヘキ
サメチレン）テレフタルアミド、ポリ−ｐ−フェニレン
テトラフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフ
タルアミド；ならびに化学的に結合またはグラフトした
エラストマーとのコポリマー；またはこれらとポリエー
テル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコ
ポリマー。

16.ポリ尿素、ポリイミドおよびポリアミド−イミド。

17.ジカルボン酸およびジオールから、および／または
ヒドロキシカルボン酸または相当するラクトンから誘導
されたポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−1,4−ジメチ
ロール−シクロヘキサンテレフタレート、ポリ−［2,2
−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン］テレフタレー
ト、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ
キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロ
ック−コポリエーテル−エステル。

18.ポリカーボネート。

19.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエ
ーテルケトン。

20.一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、
尿素またはメラミンから誘導された架橋ポリマー、例え
ばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ホルムア
ルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

21.乾性もしくは非乾性アルキッド樹脂。

22.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールお
よび架橋剤としてビニル化合物とのコポリエステルから
誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼性の低い
それらのハロゲン含有変成物。

23.置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレ
ート、ウレタンアクリレートまたはポリエステル−アク
リレートから誘導された熱硬化アクリル樹脂。

24.架橋剤としてメラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシ
アネートまたはエポキシ樹脂を添加したアルキッド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。

25.ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルか
ら、または環状脂肪族ジエポキシドから誘導された架橋
エポキシ樹脂。

26.天然ポリマー、例えば、セルロール、ゴム、ゼラチ
ンおよびそれらを化学変性した同族誘導体、例えば酢酸
セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪酸セルロ
ース、またはセルロースエーテル、例えばメチルセルロ
ース。

27.前述のポリマーの混合物、例えばPP/EPDM、ポリアミ
ド6/EPDMまたはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC/MBS、PC/A
BS、PBTP/ABS。

28.純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からな
る天然および合成有機材料、例えば鉱油、動物または植
物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エステル（例
えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリ
メリテート）に基づいたオイル、脂肪およびワックス、
ならびにポリマー用可塑剤として、または紡糸製剤油と
して用いられているいかなる重量比での合成エステルと
鉱油との混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョ
ン。

29.天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天
然ラテックス、またはカルボキシル化スチレン−ブタジ
エンコポリマーのラテックス。

30.ポリシロキサン、例えば、米国特許第4,259,467号に
記載されている軟質、親水性ポリシロキサン、例えば、
米国特許第4,355,147号に記載されている硬質ポリオル
ガノシロキサン。

31.不飽和アクリルポリアセトアセテート樹脂または不
飽和アクリル樹脂との組み合わせのポリケチミン。不飽
和アクリル樹脂は、ウレタンアクリレート、ポリエーテ
ルアクリレート、不飽和官能基が付いたビニルまたはア
クリルコポリマーおよびアクリレート化されたメラミ
ン。ポリケチミンは、酸触媒の存在下ポリアミンとケト
ンから合成される。

32.エチレン性不飽和単量体またはオリゴマーおよび多
不飽和脂肪酸オリゴマーを含む放射硬化性組成物。

33.エポキシメラミン樹脂、例えば、LSE4103（Monsanto
社製）のような高固体含有メラミン樹脂をコエーテル化
したエポキシ官能基によって架橋されている光安定エポ
キシ樹脂。

一般に本発明の化合物は安定化された組成物の約0.01
ないし５重量％で使用されるが、これは特に基質および
用途により変化できる。有利な範囲は0.05ないし２％、
特に0.1ないし１％である。

本発明の安定剤は慣用の技術によって、成形物製造前
のいかなる都合のよい段階においても有機ポリマーにた
やすく混合される。例えば、安定剤を乾燥粉末形でポリ
マーと混合してもよく、または安定剤の懸濁液、もしく
は乳濁液をポリマーの溶液、懸濁液または乳濁液と混合
してもよい。得られた本発明の安定化されたポリマー組
成物はまた必要に応じて種々の慣用の添加剤を含んでも
よく、通常約0.01ないし約５重量％、好ましくは約0.02
5ないし約２重量％、および特に約0.1ないし約１重量％
を含有する。そのような慣用の添加剤の例は以下に示す
ような物質またはその混合物である。

1.抗酸化剤 1.1 アルキル化モノフェノール、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−第三ブチル−4,6−ジメチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 2,6−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−ジメチルフ
ェノール、 2,6−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール、 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノー
ル、 1.2 アルキル化ハイドロキノン、例えば 2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 2,5−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、 2,5−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、 2,6−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノー
ル、 1.3 ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば 2,2′−チオビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノ
ール）、 2,2′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノ
ール）、 4,4′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノ
ール）、 1.4 アルキリデンビスフェノール、例えば 2,2′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、 2,2′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチル
フェノール）、 2,2′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチ
ルシクロヘキシル）フェノール］、 2,2′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキ
シルフェノール）、 2,2′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェ
ノール）、 2,2′−メチレン−ビス［６−（α−メチルベンジル）
−４−ノニルフェノール］、 2,2′−メチレン−ビス［６−（α，α−ジメチルベン
ジル）−４−ノニルフェノール］、 2,2′−メチレン−ビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 2,2′−エチリデン−ビス（4,6−ジ−第三ブチルフェノ
ール）、 2,2′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソ
ブチルフェノール）、 4,4′−メチレン−ビス（2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル）、 4,4′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン、 2,6−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロ
キシベンジル）−４−メチルフェノール、 1,1,3−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２
−メチルフェニル）ブタン、 1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、
エチレングリコールビス［3,3−ビス（３′−第三ブチ
ル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、 ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフ
ェニル）ジンクロペンタジエン、 ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ−
５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチル
フェニル］テレフタレート。

1.5. ベンジル化合物、例えば 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビス（3,5−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−スルフィ
ド、 イソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル−メルカプトアセテート、 ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチ
ルベンジル）−ジチオテレフタレート、 1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−イソシアヌレート、 1,3,5−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6
−ジメチルベンジル）−イソシアヌレート、 ジオクタデシル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジルホスホネート、3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのCa
塩。

1.6. アシルアミノフェノール、例えば ウラリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 2,4−ビス−オクチルメルカプト−６−（3,5−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシアニリノ）−ｓ−トリアジン、カル
バミン酸Ｎ−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）オクチルエステル。

1.7. β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価アルコー
ルとのエステル、例えば、 メタノール エタノール オクタデカノール 1,6−ヘキサンジオール ネオペンチルグリコール チオジエチレングリコール ジエチレングリコール トリエチレングリコール ペンタエリトリトール トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート ジ（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド 1.8. β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メ
チルフェニル）プロピオン酸の下記の一価または多価ア
ルコールとのエステル、例えば、 メタノール エタノール オクタデカノール 1,6−ヘキサンジオール ネオペンチルグリコール チオジエチレングリコール ジエチレングリコール トリエチレングリコール ペンタエリトリトール トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート ジ（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド 1.9. β−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオン酸のアミド、 例えばN,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン。

1.10.ジアリールアミン、例えば ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、Ｎ−（４−第三オクチルフェニル）−１−ナフチル
アミン、4,4′−ジ−第三ブチル−ジフェニルアミン、
Ｎ−フェニルベンジルアミンおよび2,4,4−トリメチル
ペンテンの反応生成物、ジフェニルアミンおよび2,4,4
−トリメチルペンテンの反応生成物、Ｎ−フェニル−１
−ナフチルアミンおよび2,4,4−トリメチルペンテンの
反応生成物。

2. 紫外線吸収剤および光安定剤 2.1. ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール、例えば、 ５′−メチル−、３′,5′−ジ−第三ブチル−、５′−
第三ブチル−、５′−（1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル）−、５−クロロ−３′,5′−ジ−第三ブチル−、５
−クロロ−３′−第三ブチル−５′−メチル−、３′−
第二ブチル−５′−第三ブチル、４′−オクトキシ−、
３′,5′−ジ−第三アミル−、３′,5′−ビス（α，α
−ジメチルベンジル）、３′−第三ブチル−５′−（２
−（オメガ−ヒドロキシ−オクタ（エチレンオキシ）カ
ルボキシ−エチル）−、３′−ドデシル−５′−メチル
−および３′−第三ブチル−５′−（２−オクチルオキ
シカルボニル）エチル−、およびドデシル化−５′−メ
チル誘導体。

2.2. ２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ
−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−
ベンジルオキシ−、4,2′,4′−トリヒドロキシ−また
は２′−ヒドロキシ−4,4′−ジメトキシ誘導体。2.3.
置換されたおよび非置換安息香酸のエステル、例えば フェニル＝サリチレート、 ４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、 オクチルフェニル＝サリチレート、 ジベンゾイルレゾルシノール、 ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レゾルシノール、 ベンゾイルレゾルシノール、 2,4−ジ−第三ブチルフェニル＝3,5−ジ−第三ブチル−
４−ヒドロキシベンゾエート、 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサ
デシルエステル。

2.4. アクリレート、例えば エチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレー
ト、イソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−ア
クリレート、 メチルα−カルボメトキシ−シンナメート、メチルα−
シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、 ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナ
メート、 メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート
−、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−
メチルインドリン。

2.5. ニッケル化合物，例えば 2,2′−チオビス−［４−（1,1,3,3−テトラメチルブチ
ル）−フェノール］のニッケル錯体，例えば1:1または
1:2錯体であって，所望によりｎ−ブチルアミン、トリ
エタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エ
タノールアミンのような他の配位子を伴うもの、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−3,5
−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モノアルキルエス
テル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル
塩、ケトキシム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−
フェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フ
ェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールの
ニッケル錯体であって、所望により他の配位子を伴うも
の。

2.6. 立体障害性アミン、例えば ビス（2,2,6,6−テトラメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）セバケー
ト、 ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル）ｎ−ブチ
ル−3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルマ
ロネート、 １−（２−ヒドロキシエチル）−2,2,6,6−テトラメチ
ル−４−ヒドロキシピペピリジンとコハク酸との縮合生
成物、 N,N′−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三オクチルアミノ
−2,6−ジクロロ−ｓ−トリアジンとの縮合生成物、 トリス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジル）ニ
トリロトリアセテート、 テトラキス（2,2,6,6−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、 1,1′−（1,2−エタンジイル）−ビス（3,3,5,5−テト
ラメチルピペラジノン）、 ビス（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−シクロヘ
キシル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）スクシネート、１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチル−４−ヒドロキシピペリジン、ポリ−｛［６
−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン−2,4−ジイ
ル］［２−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−イル）イミノ−ヘキサメチ
レン−［４−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ］、2,4,6
−トリス［Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6,
−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチルア
ミノ］−ｓ−トリアジン。

2.7. シュウ酸ジアミド、例えば 4,4′−ジ−オクチルオキシオキサニリド、 2,2′−ジ−オクチルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 2,2′−ジ−ドデシルオキシ−5,5′−ジ−第三ブチルオ
キサニリド、 ２−エトキシ−２′−エチルオキサニリド、 N,N′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミ
ド、 ２−エトキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニ
リドおよび該化合物と２−エトキシ−２′−エチル−5,
4′−ジ−第三ブチル−オキサニリドとの混合物， ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物
およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの
混合物。

2.8. ２−ヒドロキシフェニル）−ｓ−トリアジン、例
えば 2,6−ビス（2,4−ジメチルフェニル）−４−（２−ヒド
ロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジ
ン;2,6−ビス−（2,4−ジメチルフェニル）−４−（2,4
−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビス（2,
4−ジヒドロキシフェニル）−６−（４−クロロフェニ
ル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビス−［２−ヒドロキシ−
４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−６−（４
−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビス−［２
−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニ
ル］−６−（2,4−ジメチルフェニル）−ｓ−トリアジ
ン;2,4−ビス−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シエトキシ）フェニル］−６−（４−ブロモフェニル）
−ｓ−トリアジン;2,4−ビス−［２−ヒドロキシ−４−
（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−６−（４−ク
ロロフェニル）−ｓ−トリアジン;2,4−ビス−（2,4−
ジメトキシフェニル）−６−（2,4−ジメチルフェニ
ル）−ｓ−トリアジン。

3. 金属不活性化剤，例えば N,N′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、 Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、 N,N′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、 N,N′−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニルプロピオニル）ヒドラジン、 ３−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス
（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド。

4. ホスフィットおよびホスホナイト、例えばトリフェ
ニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、
フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェ
ニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、 トリオクタデシルホスフィット、 ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、 トリス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィッ
ト、 ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、 ビス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）−ペンタエリト
リトールジホスフィット、 トリステアリルソルビトールトリホスフィット、 テトラキス（2,4−ジ−第三ブチルフェニル）4,4′−ビ
フェニレンジホスホナイト。

5. 過酸化物を分解する化合物、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばウラリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリ
トールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオ
ネート。

6.ヒドロキシルアミン、例えば N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒ
ドロキシルアミン、N,N−ジオキチルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−ジテト
ラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキシデシルヒ
ドロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシル
アミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシル−ヒドロ
キシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシル−
ヒドロキシルアミン、ハロゲン化された獣脂アミンから
誘導されたN,N−ジアルキルヒドロキシルアミン。

7.ニトロン、例えば Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチ
ル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルフ
ァ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウン
デシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデ
シルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデ
シルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプダデ
シルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデ
シルニトロン、Ｎ−オクデシル−アルファ−ペンタデシ
ルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシ
ルニトロン、Ｎ−オクダデシル−アルファ−ヘキサデシ
ルニトロン、ハロゲン化された獣脂アミンから誘導され
たN,N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導された
ニトロン。

8. ポリアミド安定剤、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、お
よび二価マンガンの塩。

9. 塩基性補助安定剤、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、 高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属
塩、例えばステアリン酸Ca塩、ステアリン酸Zn塩、ステ
アリン酸Mg塩、リシノール酸Na塩およびパルミチン酸Ｋ
塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。

10. 核剤、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢
酸。

11. 充填剤および強化剤、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、
タルク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物お
よび水酸化物、カーボンブラック、グラファイト。

12.その他の添加剤、例えば 可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電
防止剤、発泡剤、およびジラウリルチオプロピオン酸ま
たはジステアリルチオプロピオン酸のようなチオ相乗
剤。

特に興味深いフェノール性抗酸化剤はｎ−オクタデシ
ル3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメ
ート、ネオペンタンテトライルテトラキス（3,5−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ジ−
ｎ−オクタデシル3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジルホスホネート、1,3,5トリス（3,5−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、チオ
ジエチレンビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ヒドロシンナメート）、1,3,5−トリメチル−2,4,6−ト
リス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン、3,6−ジオキサオクタメチレンビス（３−メ
チル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメ
ート）、2,6−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、2,2′−
エチリデン−ビス（4,6−ジ第三ブチルフェノール）、
1,3,5−トリス（2,6−ジメチル−４−第三ブチル−３−
ヒドロキシベンジル）イソシヌレート、1,1,3−トリス
（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニ
ル）ブタン、1,3,5−トリス〔２−（3,5−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ）エチル〕
−イソシアヌレート、3,5−ジ−（3,5−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジル）メシトール、ヘキサメチレン
ビス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシン
ナメート）、１−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シアニリノ）−3,5−ジ−（オクチルチオ）−ｓ−トリ
アジン、N,N′−ヘキサメチレン−ビス（3,5−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド）、カルシウム
ビス（エチル3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホシホネート）、エチレンビス〔3,3−ジ（３−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、
オクチル3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル
メルカプトアセテート、ビス（3,5−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシヒドロシンナモイル）−ヒドラジド、およ
びN,N′−ビス〔２−（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシヒドロシンナモイルオキシ）−エチル〕−オキサミ
ドからなる群から選ばれる。

もっとも好ましいフェノール性抗酸化剤は、ネオペン
タンテトライルテトラキス（3,5−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−オクタデシル3,
5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメー
ト、1,3,5トリメチル−2,4,6−トリス（3,5−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、1,3,5−ト
リス（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
イソシアヌレート、2,6−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾー
ルまたは2,2′−エチリデン−ビス−（4,6−ジ第三ブチ
ルフェノール）である。

特に興味深い立体障害性アミン化合物はビス（2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ジ（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリ
ジン−４−イル）（3,5−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）ブチルマロネート、４−ベンゾイル−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、３−ｎ−オクチ
ル−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザ−スピロ
〔4.5〕デカン−2,4−ジオン、トリス（2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−４−イル）ニトリロトリアセテー
ト、1,2−ビス（2,2,6,6−テトラメチル−３−オキソ−
ピペラジン−４−イル）エタン、2,2,4,4−テトラメチ
ル−７−オキサ−3,20−ジアザ−21−オキサジスピロ
〔5.1.11.2〕ヘンエイコサン、2,4−ジクロロ−６−第
三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと4,4′−ヘキサメ
チレンビス（アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン）の重縮合物、１−（２−ヒドロキシエチル）−2,2,
6,6−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハ
ク酸の重縮合物、4,4′−ヘキサメチレンビス（アミノ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン）と1,2−ジブロモ
エタンの重縮合物、テトラキス（2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル）1,2,3,4−ブタンテトラカル
ボキシレート、テトラキス（1,2,2,6,6−ペンタメチル
ピペリジン−４−イル）1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
キシレート、2,4−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−ト
リアジンと4,4′−ヘキサメチレンビス（アミノ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン）の重縮合物、N,N′,
N″,N″′−テトラキス〔（4,6−ビス（ブチル−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アミノ−ｓ
−トリアジン−２−イル〕−1,10−ジアミノ−4,7−ジ
アザデカン、混合された〔2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−４−イル／β，β，β′，β′−テトラメチル
−3,9−（2,4,8,1〕０−テトラオキサスピロ〔5.5〕−
ウンデカン）ジエチル〕1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
キシレート、混合された〔1,2,2,6,6−ペンタメチルピ
ペリジン−４−イル／β，β，β′，β′−テトラメチ
ル−3,9−（2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5.5〕ウン
デカン）ジエチル〕1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシ
レート、オクタメチレンビス（2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−４−カルボキシレート）、4,4′−エチレ
ンビス（2,2,6,6−テトラメチルピペラジン−３−オ
ン）、Ｎ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル−ｎ−ドデシルスクシンミド、Ｎ−1,2,2,6,6−ペン
タメチルピペリジン−４−イル−ｎ−ドデシルスクシン
イミド、Ｎ−１−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル−ｎ−ドデシルスクシンイミド、１
−アセチル−３−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ［2.5］デカン−2,4−ジオン、
ジ−（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−４−イル）セバケート、ジ−（１−シクロヘ
キシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４
−イル）スクシネート、１−オクチルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−４−ヒドロキシピペリジ
ン、ポリー｛［６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジ
ン−2,4−ジイル］［２−（１−シクロヘキシルオキシ
−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミ
ノ−ヘキサメチレン−［４−（１−シクロヘキシルオキ
シ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）イ
ミノ］｝および2,4,6−トリス［Ｎ−（１−シクロヘキ
シルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−
イル）−ｎ−ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンからなる
群から選ばれる。

もっとも好ましい障害性アミン化合物はビス（2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、
ビス（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−４−イ
ル）セバケート、ジ−（1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン−４−イル）（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）ブチルマロネート、１−（２−ヒドロ
キシエチル）−2,2,6,6−テトラメチル−４−ヒドロキ
シピペリジンとコハク酸の重縮合生成物、2,4−ジクロ
ロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジンと4,4′
−ヘキサメチレンビス（アミノ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン）の重縮合物またはN,N′,N″,N−テト
ラキス〔（4,6−ビス（ブチル−（2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン−４−イル）アミノ−ｓ−トリアジン−２
−イル〕−1,10−ジアミノ−4,7−ジアザデカン、ジ−
（１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−４−イル）セバケート、ジ−（１−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）スクシネート、１−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−４−ヒドロキシピペリジン、ポ
リ−｛［６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン−2,
4−ジイル］［２−（１−シクロヘキシルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミノ−ヘ
キサメチレン−［４−（１−シクロヘキシルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イル）イミ
ノ］｝または2,4,6−トリス［Ｎ−（１−シクロヘキシ
ルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−４−イ
ル）−ｎ−ブチルアミノ］−ｓ−トリアジンである。

以下の実施例は説明の目的だけに提示されたものであ
り、その他のいかなる意味においても本発明の性質また
は範囲をなんら制限すると解釈されるべきものではな
い。

実施例1: ５−ｎ−ドデシルチオ−２−（２−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベンズトリ
アゾール スターラー、温度計、窒素送込口および蒸留装置を備
えた３リットルの三首フラスコに、５−クロロ−（２−
ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベ
ンゾトリアゾール〔登録商標TINUVIN（チバ−ガイギー
コーポレーションより市販）〕357.8g（1mol）、ｎ−ド
デシルメルカプタン216.8g（1.05mol）およびN,N−ジメ
チルホルムアミド（DMF）600mlを装填する。次に炭酸カ
リウム73.9g（0.54mol）およびヨウ化カリウム2gを加え
そして混合物を窒素雰囲気条件下、150℃で20時間加熱
する。反応の結果物として遊離された全ての水を共沸混
合物として頭部温度132℃になるまで留去する。150℃で
20時間後、出発物質である2H−ベンゾトリアゾールは完
全に消費される。80ないし100℃における部分真空によ
り、大部分のDMFは留去される。得られた油に80℃でト
ルエン１および水500mlを加える。水相を流し除く。
トルエン溶液を酢酸1mlを含む水500mlでさらに２回洗浄
する。共沸蒸留により、透明な溶液が得られるまで有機
溶液から残留水を除く。部分真空下で大部分のトルエン
約100mlが70℃で留去される。残渣は60℃でイソプロパ
ノール２と共に蒸留され、いくつかの生成物の種が加
えられる。生成物は徐々に結晶化されおよび混合物をを
ゆっくりと10℃まで冷却する。生成物をろ過しそしてイ
ソプロパノール300mlで洗浄し、融点62−64℃の標記化
合物490.4g（理論値の93.6％）を得る。

実施例2: ２−フェニルチオ−２−（２−ヒドロキシ−
3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベンゾトリアゾ
ール スターラー、温度計、蒸留装置および窒素供給口を備
えた２リットルの三首フラスコに、５−クロロ−（２−
ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベ
ンゾトリアゾール268.4g（0.75mol）、チオフェノール9
3.7g（0.825mol）およびN,N−ジメチルホルムアミド（D
MF）400mlを装填する。不活性雰囲気を作るため、反応
器は３回排気され窒素で満たされる。スラリーに50％水
酸化ナトリウム水溶液66g（0.825mol）を加えそして混
合物を加熱して還流する。この時点で水は共沸混合物と
して頭部温度132℃および反応温度150℃になるまで留去
される。18時間後、残留の出発物質である2H−ベンゾト
リアゾール化合物は観察されない（TLC）。80℃におけ
る減圧において、大部分のDMFは留去される。残渣にト
ルエン500mlおよび水200mlを入れる。80℃における数分
間の緩慢な攪拌後下層の水相を留去する。水200mlの添
加によりさらに２回洗浄するが２度目は酢酸1mlを加え
る。透明な溶液が得られるまで全ての残留水は共沸留去
される。部分真空下、90℃で約トルエン300mlが除去さ
れ、そして濃縮物にイソプロパノール800mlを加えて速
やかに結晶化させる。反応混合物は20℃に冷却し、ろ過
する。淡黄色結晶はイソプロパノール250mlで洗浄し、
そして乾燥して融点132−134℃の標記化合物317g（理論
値の97.9％）を得る。

一方、標記化合物は以下に見られるようにも合成され
る： マグネチックスターラー、窒素送込口および濃縮装置
を備えた250mlの丸底フラスコに５−クロロ−２−（２
−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2H−
ベンゾトリアゾール3.0g（0.0084mol）、粉砕した水酸
化カリウム1.1g（0.020mol）、チオフェノール1.6ml
（0.016mol）、18−クラウン−６の0.135g（0.49mol）
およびメシチレン9mlを装填する。混合物を攪拌しなが
ら４時間還流し、次に室温まで冷却させる。酢酸エチル
および2N−塩酸を加える。相を分離し、有機相を１回は
水で、もう一回はブラインで洗浄し、最後に無水硫酸マ
グネシウム上で乾燥する。NMR（CDCl₃）による粗混合物
の分析は所望の標記の化合物生成物への変換が約15％で
あることを示す。

実施例３−13: 実施例１および２の一般的方法を利用して、典型的に
は90％を越える収量で、同様に以下の化合物が得られ
る。

実施例13: ５−フェニルチオ−２−［２−ヒドロキシ
−３−第三ブチル−５−（β−オクチルオキシカルボニ
ルエチル）フェニル］−2H−ベンゾトリアゾール マグネチックスターラー、窒素送込口、セーラムスト
ッパー（serum stopper）および濃縮装置を備えた１リ
ットルの三首丸底フラスコに、５−クロロ−［２−ヒド
ロキシ−３−第三ブチル−５−（β−オクチルオキシカ
ルボニルエチル）フェニル］−2H−ベンゾトリアゾール
〔登録商標TINUVIN 109としてチバ−ガイギーコーポレ
ーションにより市販〕40.77g（0.08 4mol）、炭酸カリウム5.8g（0.042mol）およびヨウ化カ
リウム1gを装填する。混合物を窒素雰囲気下に移し、N,
N−ジメチルホムルアミド210mlを迅速に加える。溶液を
130−140℃に加熱し、チオフェノール10.1g（0.092mo
l）をシリンジで同時に一度に加える。反応混合物を21
時間この温度で混合し、次に、室温まで冷却させる。混
合物を酢酸、酢酸エチル、ブラインの少量で中和しそし
て相を分離させる。水相を酢酸エチルで２回抽出し、そ
して集めた有機相をブラインで２回洗浄し、水で２回洗
浄し、最後に無水硫酸マグネシウム上で乾燥する。混合
物をろ過しそしてシリカゲルのプラグ（plug）に通過さ
せる。溶媒をストリップして黄色油53.8gを得る。油を
シリカゲルカラムによる中圧クロマトグラフィー（medi
um pressure chromatography）により精製して透明な黄
色油としての標記化合物29.7g（63％）を得る。

分析値： C₃₃H₄₁N₃ O₃ Sに対する 計算値:C 70.8;H 7.4;N 7.5 実験値:C 70.6;H 7.8;N 7.9 同様にマグネチックスターラー、窒素送込口、濃縮装
置およびディーンスタークトラップ（Dean−Stark tra
p）を備えた250mlの丸底フラスコに、３−（フェニルチ
オ−2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブ
チル−４ヒドロキシハイドロケイヒ酸4.3g（0.0096mo
l）、エクセル ８（Exxel 8）〔オクタノールの異性体
混合物、エキソン ケミカルズ（Exxon Chemicals）よ
り市販）〕3.4g（0.026mol）、ｐ−トルエンスルホン酸
70mgおよびキシレン20mlを装填する。混合物を3.5時間
還流し、室温まで冷却し、酢酸エチルの一部を加える。
溶液を水で１回、飽和炭酸水素ナトリウムで２回および
ブラインで１回洗浄する。無水硫酸マグネシウムで乾燥
したのち、溶媒を減圧下で除去して、粘稠性黄色油とし
ての標記化合物5.17g（収量96％）を得る。NMR（CDC
l₃）による分析は標記化合物の構造と一致する。

実施例14: 5,5′−チオビス−〔２−（２−ヒドロキシ
−3,5−ジ−第三ブチルフェニル）−2H−ベンゾトリア
ゾール］ ３−メルカプトプロピオン酸6.4g（0.06mol）をナト
リウム2.76gおよびエタノール80mlの溶液に溶解する。
溶媒をストリップして除き、N,N−ジメチルアセタミド1
10mlおよび５−クロロ−２−（２−ヒドロキシ−3,5−
ジ−第三ブチル−フェニル）−2H−ベンゾトリアゾール
17.9g（0.05mol）を加える。混合物を窒素雰囲気下、16
0℃−165℃で48時間加熱する。TLCはいくらかの未反応
のベンゾトリアゾール出発物質の存在を示す。冷却した
混合物をトルエン150mlを含む水中に注ぎ、塩酸により
中和する。トルエン溶液を分離し、水で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、ろ過する。溶液を濃縮しそして
エタノールで希釈する。得られた固体をろ過により分離
しそしてアセトンで洗浄して未反応の出発物質を抽出す
る。フィルターケーキを70℃で25mlトルエンに溶解し、
アセトン35mlを加えて生成物を沈澱させる。得られた結
晶はろ過してアセトンで洗浄し融点245−246℃の標記化
合物6.6gを得る。

メルカプト酢酸を３−メルカプトプロピオン酸にかわ
りに使用した場合、同じ生成物が得られる。

実施例15: ５−フェニルチオ−２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブ
チル−５−（３−ヒドロキシプロピル）フェニル］−2H
−ベンゾトリアゾール マグネチック攪拌機を備えた２リットルのエルレンマ
イヤーフラスコに入った無水ジエチルエーテル500ml中
のリチウムアルミニウム水素化物（6.0g,0.16mol）の懸
濁物に室温で無水ジエチルエーテル500ml中の５−クロ
ロ−２−［２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−（２
−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−2H−ベンゾ
トリアゾール溶液30.1g（0.078mol）を滴下で添加す
る。

混合物をさらに1.5時間室温で攪拌し、次に過剰の水
素化物を酢酸エチルで失活（quench）させる。水をゲル
が形成されるまで注ぎ；混合物は無水硫酸マグシウム上
で乾燥させ、ろ過しそして溶媒を減圧下で除き、融点10
5−106℃の黄橙色固体としての中間体化合物28.7g（収
量100％）を得る。

マグネチック攪拌機、濃縮装置を備え、および窒素雰
囲気である１リットル丸底フラスコに上記で調製した中
間体27.7g（0.077mol）、炭酸カリウム10.6g（0.077mo
l）、ヨウ化カリウム1.2gおよびN,N−ジメチルスルホン
アミド240ml中のチオフェノール8.48g（0.077mol）を充
填する。予め加熱した油浴を使用し（165℃）、混合物
はこの温度で4.5時間攪拌される。室温に冷却後更に攪
拌を18時間継続する。反応混合物は次に水500mlに注
ぐ。水相を濃塩酸で中和し、次に酢酸エチルで３回抽出
する。集めた有機相は1N塩酸で２回、ブライン１回洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減圧下で
除いて、黄橙色固体30.1gを得る。粗物質をヘプタンか
ら再結晶化して、黄色い粉体としての標記化合物の26.3
g（収量79％）を得る。C₂₅H₂₇N₃ O₂ Sに対する 計算値:C 69.3;H 6.3;N 9.7 実験値:C 68.9;H 6.0;N 9.7 実施例16: ３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シハイドロケイヒ酸 機械的な攪拌機および窒素雰囲気を備えた１リットル
の４首丸底フラスコにメチル３−（５−クロロ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−
ヒドロキシハイドロシンナメート100g（0.258mol）、N,
N−ジメチルホルムアミド350mlおよび50％水酸化ナトリ
ウム水溶液61.9g（0.773mol）を装填する。混合物を３
時間で75−80℃に加熱し、その時点でエステル加水分解
が完了する。触媒量のヨウ化カリウム（5.0g）を加え
る。温度を75−80℃に保ちながら20分間かけてチオフェ
ノール（32.2g,0.258mol）を加える。攪拌を容易するた
めにチオフェノールを追加する間、N,N−ジメチルホル
ムアミドの追加量（200ml）を加える。水／メタノール
の25ml部分を除き、溶液を48時間還流する。反応混合物
を冷却し、1N塩酸1.0および酢酸エチル1.0に分配す
る。相を分離し、そして有機相を硫酸マグネシウム上で
乾燥させ、そして溶媒を減圧下で総体積500mlになるま
で除去する。これにヘプタン200mlを加え、溶液を一晩
放置しておく。得られた結晶は減圧ろ過で集められ、ヘ
プタン：酢酸エチル9:1で洗浄し、乾燥して標記化合物8
3.5g（収量72％）を得る；融点154−156℃。

実施例17: ３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリ
アゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シハイドロシンナミド マグネチック攪拌機、濃縮装置および窒素送込口を備
えた乾燥した、500mlの丸底フラスコに３−（５−フェ
ニルチオ−2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−
第三ブチル−４−ヒドロキシハイドロケイヒ酸3.0g（0.
0067mol）、塩化オキザリル6mlおよび均質な溶液を形成
するためにクロロホルムの充分量（約4ml）を装填す
る。溶液を１時間還流し、次に室温で一晩攪拌する。塩
化オキザリルを減圧下で留去して黄色の固体約3.5gを得
る。固体のIRスペクトル（クロロホルムからの薄フィル
ム法）は酸塩化物中間体の完全な形成を示す（1795c
m^-1）。

マグネチック攪拌器を備えた500ml丸底フラスコに無
水エタノール250mlをいれる。−５℃に冷却後、アンモ
ニアガスを約1g（0.06mol）が吸収されるまで溶媒を介
して泡だたせる。酸塩化物をアンモニア溶液に小部分で
速やかに加え、赤色の溶液を作る。混合物を室温までに
温かくなるように放置し、そして一晩中攪拌する。エタ
ノールを減圧下で除去し、残渣を酢酸エチルで溶解す
る。溶液を水（１回）飽和炭酸ナトリウム（１回）およ
びブライン（１回）で洗浄する。集めた水相を酢酸エチ
ルで２回抽出し、集めた有機相を無水硫酸マグネシウム
上で乾燥させる。溶媒を除去して、褐色の固体3.1gを得
る。粗生成物はエタノール／水から再結晶化して褐色の
固体として純粋アミド1.85g（収量62％）を得る；融点1
28−130℃。

C₂₅H₂₆N₄ O₂ Sに対する 計算値:C 67.2;H 5.9;N 12.5 実験値:C 66.7;H 5.7;N 12.3 実施例18: ３−［３−（５−フェニルチオ−2H−ベン
ゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシハイドロシンナモイルオキシ］−２−ヒドロキ
シプロピルメタクリレートおよび ２−［３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイ
ドロシンナモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルメ
タクリレートの異性体混合物 マグネチック攪拌機を備えた250mlの丸底フラスコに
３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリアゾール−２
−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイドロケ
イヒ酸20.0g（0.0447mol）、４−メトロキシフェール0.
20g、テトラブチルアンモニウムブロミド1.50g、グリシ
リルメタクリレート6.60g（0.0460mol）およびトルエン
150mlを装填する。攪拌した混合物を約６時間還流す
る。室温まで冷却させた後、混合物を水で（１回）洗浄
し、溶媒を減圧下で除き、淡黄色粘稠性油としての標記
化合物27.3g（収量100％）を得る。NMRによる分析は生
成物がＡおよびＢ（A:B,78:22）の異性体混合物である
ことを示す。

分析値： C₃₂H₃₅N₃ O₆ Sに対する 計算値:C 65.2;H 6.0;N 7.1 実験値:C 66.9;H 6.6;N 6.5 本実施例の異性体混合物は、アゾフリーラジカル触媒
の存在下で付加重合されて、５−フェニルチオ−ベンゾ
トリアゾール−２−イル部分置換ペンダントを含むメタ
クリレートコポリマーを提供する。

このコポリマーの有効安定化量が化学線の有害作用に
暴露されることにより崩壊される有機材料に混入された
場合、安定化された組成物が得られる。

実施例19: ５−フェニルチオ−２−｛２−ヒドロキシ
−３−第三ブチル−５−［２−（ω−ヒドロキシオクタ
（エチレンオキシ）−カルボニルエチル］フェニル｝−
2H−ベンゾトリアゾールおよび 3,6,9,12,15,18,21−ヘプタオキサトリコシルメチレン
ビス−［３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハ
イドロシンナメート マグネチックスターラー、窒素送込口、コンデンサー
及びディーン−スタークトラップ（Dean−Stark trap）
を備えた250mlの丸底フラスコに３−（５−フェニルチ
オ−2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブ
チル−４−ヒドロキシハイドロケイヒ酸4.43g（0.01mo
l）、式Ｈ（OCH₂CH₂）_WOH〔ｗが４ないし11を表し、平
均においては約７または８である、PEG 300としてシェ
ルケミカル社（Shell Chemical Co.）より入手〕で表さ
れるポリエチレングリコール8.0g（0.027mol）、ｐ−ト
ルエンスルホン酸70mgおよびキシレン20mlを装填する。
混合物を23時間還流し、次に室温まで冷却させる。酢酸
エチルを加えそして溶液を飽和炭酸ナトリウム溶液で３
回、ブラインで１回洗浄する。有機相を分離して、硫酸
マグネシウム上で乾燥させる。溶媒を減圧で除去して、
粘稠性黄色油として標記化合物の50/50混合物を6.36g
（100％）の収量で得る。

NMR（CDCl₃）による分析は所望の標記化合物と一致す
る。

ｗが４ないし11の整数の混合物である場合の他の生成
物は標記化合物に関し、この実施例の手順により得られ
る。該化合物はω−ヒドロキシ−ポリ（エチレンオキ
シ）−３−（５−フェニルチオ−ベンゾトリアゾール−
２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイドロ
シンナメート；およびポリ（エチレンオキシ）ビス［３
−（５−フェニルチオ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイドロシンナ
メート］と称される。

実施例20: 置換５−チオベンゾトリアゾール紫外線吸
収剤の特性 以下の表に、多数の2H−ベンゾトリアゾール紫外線吸
収剤の吸収最大値、モル数および特定の吸光係数を示
す。言及した技術の市販のベンゾトリアゾール紫外線吸
収剤、２−［２−ヒドロキシ−3,5−ジ（α，α−ジメ
チルベンジル）フェニル］−2H−ベンゾトリアゾールお
よび多くの本発明の５−チオ置換化合物が試験された。
それぞれの試料の濃度は同じで、20mg/である。363な
いし369nmにおけるチオ化合物の吸収最大値は赤色側に
シフトされ、即ち、342nm（ε15,500）における吸収最
大値をもつ市販の対照に対して少なくとも20nmまで可視
部へシフトされる。チオ置換された本発明の化合物のモ
ル吸光係数は吸光最大値において対照のものよりもはる
かに越えている。

ベンゾトリアゾール紫外線吸収剤の吸収最大量およびモ
ル吸光係数化合物 nm モル数ε nm モル数ε 対照^＊ 302 （15,200） 342 （15,500） 実施例１ 307 （8,700） 365 （23,300） 実施例２ 310 （8,400） 365 （22,300） 実施例３ 294 （8,900） 363 （23,700） 実施例４ 311 （8,900） 365 （22,900） 実施例５ 309 （9,200） 366 （22,800） 実施例６ 310 （8,900） 366 （22,400） 実施例８ 310 （16,800） 365 （43,200） 実施例９ 318 （16,700） 363 （15,700） 実施例10 312 （10,000） 367 （22,900） 実施例11 309 （9,700） 366 （24,000） 実施例14 310 （19,800） 369 （41,700） ＊対照は２−［２−ヒドロキシ−3,5−ジ−（α，α−
ジメチルベンジル）フェニル］−2H−ベンジゾトリアゾ
ールである。

実施例21: 本発明の新規な紫外線吸収剤は長波長の紫外線に関し
て感受性のある物質の保護に特に有効である。これは多
くの芳香族系を含む。自動車および他の工業的応用にお
いて重要なプライマーであるエポキシ樹脂は重要な例で
ある。光は自動車の空隙およびベースコートに浸透で
き、そしてプライマー／ベースコート界面においてプラ
イマーを破壊できる。そのためさらに、トップコート自
体が未だ優れた条件にあり得ても、トップコート付着性
の損失を伴う。高い湿度への暴露はこの離層現象を促進
する。

市販ハイソリッド熱硬化アクリルメランミンクリアー
コートの1.8−2.0ミル（0.046−0.051mm）薄フィルムを
アドバンス コーティング テクノロジー社（Advance
Coating Techinolngy,Inc.）から得られたユニプリム
（UNIPRIME）パネル ４″×12″（10.16cm×30.48cm）
上に直接的に噴霧塗布することにより、陰極電着によっ
てメッキされた市販のエポキシプライマーを含むスチー
ル試験パネルを調製する。塗布されたパネルを250゜F
（121℃）で30分間焼き付ける。空調室での１週間の貯
蔵の後、塗布されたパネルを、SAE J1976に従って５゜
サウスブラックボックス（south black box）におい
て、フロリダ55日間暴露する。パネは56MJ/m²の紫外線
を受ける。安定化してない対照パネルは屋外暴露中に離
層して次の試験を受けられない。残りのパネルは次にQC
T湿潤キャビネット〔Ｑ−パネル社（Ｑ−Panel Co.）〕
に相対湿度100％で置き、および毎日、膨れと離層をチ
ェックする。

結果を以下の表に示す。

55日間のフロリダ暴露後の、電着プライマー上に塗布
されたハイソリッド熱硬化アクリルクリアコートの湿度
抵抗 実施例の化合物 湿度暴露４日後、実施例1,2,3,6または11の本発明の
化合物の３重量％により安定化されたクリアコートを含
むパネルはASTM−3359号に従って、付着性に対して試験
する。すべてのパネルは３−4Bの割合である（5Bは付着
性の喪失のないことを示しそして0Bは65％より大きい付
着性の喪失を示す）。

結果は近可視域における拡大された吸収をもつ本発明
の2H−ベンゾトリアゾールが特に太陽光および高い湿度
条件における長期間の暴露後の離層から自動車の塗装を
保護するのに有効であることを示す。

実施例22: 電着プライマー上に直接的に塗布された紫外線線吸収剤
を含むハイソリッド熱硬化クリアコートの離層抵抗性 市販ハイソリッド熱硬化アクリルメラミンクリアコー
トの1.8−2.0ミル（0.046−0.051mm）薄フィルムをアド
バンス コーティング テクノロジー社から得られたユ
ニプリム（UNIPRIME）パネル ４″×12″（10.16cm×3
0.48cm）上に直接的に噴霧塗布することにより、陰極電
着によってメッキされた市販のエポキシプライマーを含
むスチール試験パネルを調製する。塗布されたパネルを
250゜F（121℃）で30分間焼き付ける。空調室での１週
間の貯蔵の後、塗布されたパネルを、SAE J1976に従っ
て５゜サウスブラックボックス（south black box）に
おいて、フロリダで暴露する。パネルは離層に対して７
日毎に評価され、離層がパネルの少なくとも10％にはっ
きり現れた場合、失格とする。フロリダ暴露の結果は以
下の表に示す。

実施例23: 電着プライマー上に直接的に塗布された紫外線線吸収剤
を含むハイソリッド熱硬化クリアコートの離層抵抗性 市販ハイソリッド熱硬化アクリルメラミンクリアコー
トの1.8−2.0ミル（0.046−0.051mm）薄フィルムをアド
バンス コーティング テクノロジー社から得られたユ
ニプリム（UNIPRIME）パネル ４″×12″（10.16cm×3
0.48cm）上に直接的に噴霧塗布することにより、陰極電
着によってメッキされた市販のエポキシプライマーを含
むスチール試験パネルを調製する。塗布されたパネルを
250゜F（121℃）で30分間焼き付ける。空調室での１週
間の貯蔵の後、塗布されたパネルを、SAE J1976に従っ
て５゜サウスブラックボックス（south black box）に
おいて、フロリダで暴露する。パネルは離層に対して７
日毎に評価され、離層がパネルの少なくとも10％にはっ
きり現れた場合、失格とする。フロリダ暴露の結果は以
下の表に示す。

実施例24: ３−［３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイ
ドロシンナモイルオキシ］−２−ヒドロキシプロピルメ
タクリレートおよび ２−［３−（５−フェニルチオ−2H−ベンゾトリアゾー
ル−２−イル）−５−第三ブチル−４−ヒドロキシハイ
ドロシンナモイルオキシ］−３−ヒドロキシプロピルメ
タクリレートの異性体混合物のコポリマー 実施例18で調整したメタクリレートモノマーの異性体
混合物を、2,2′−アゾビス（イソブチリロニトリル）
の存在下でトルエンに溶解しそして80℃に加熱すし、上
記で示された相当するメタクリレートコポリマーを得
る。

実施例25: ブチルアクリレート23.5％、ブチルメタクリレート27
％、２−ヒドロキシエチルアクリレート30％、スチレン
15％、アクリル酸３％および実施例18で調整された異性
メタクリレートモノマー1.5％（％は全て重量％）およ
び第三アミルペルオキシ−Ｑ−（２−ヘチルヘキシル）
モノペルオキシカーボネート開始剤0.4phrからなるモノ
マー組成物を還流キシレン中で重合して中分子量のアク
リルポリオールコポリマーを作成する。

実施例26: 実施例25で調整したアクリルポリオールコポリマーを
標準アクリル−メラミン配合物に加えた場合、化学線照
射による崩壊に優れた耐性を有する、そして光沢度20度
の優れた保持性を有する安定化された熱硬化アクリルエ
ナメルが得られる。

実施例27: 実施例25で調整したアクリルポリオールコポリマーを
標準二成分アクリルウレタン塗換塗料組成物に加える場
合、光沢度20度の優れた保持性を有する仕上塗りが得ら
れる。

実施例28: 実施例25で調整したアクリルポリオールコポリマーを
シルバーメタックアクリルアルキドエナメルに添加した
場合、光沢度60度の優れた保持性を有するエナメルが得
られる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｋ 5/3475 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｃ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０８Ｇ 65/32 (72)発明者 フォン アーン，ヴォルカー，エイチ. アメリカ合衆国，ニューヨーク 10541 マホパック，アール ディー ９ ボ ックス 111，グリーンフィールド ロ ード（番地表示なし) (72)発明者 スティーヴンソン，タイラー，エー. アメリカ合衆国，ニュージャージー 07666 ティーネック，ケンウッド プ レイス 538 (72)発明者 ホルト，マーク，エス. アメリカ合衆国，ニューヨーク 10960 ウエスト ニアック，ウエスト ニア ック ロード 581 (72)発明者 ラヴィチャンドラン，ラマナザン アメリカ合衆国，ニューヨーク 10954 ナヌート，ケンジントン コート ７ (56)参考文献 特開 平１−177547（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−91573（ＪＰ，Ａ) 国際公開84／2365（ＷＯ，Ａ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C07D 249/20 C07F 7/18 C07F 9/6518 C08F 220/38 C08G 65/321 C08K 5/3475 C09K 3/00 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】次式A,BまたはC: ｛式中、 R₁は水素原子、炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分
   枝鎖のアルキル基、炭素原子数２ないし18の直鎖もしく
   は分枝鎖のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシク
   ロアルキル基または炭素原子数７ないし15のフェニルア
   ルキル基を表し、 R₂は炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分枝鎖のアル
   キル基、炭素原子数２ないし18の直鎖もしくは分枝鎖の
   アルケニル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル
   基、炭素原子数７ないし15のフェニルアルキル基、ヒド
   ロキシル基、−OR₄（基中、R₄は炭素原子数１ないし24
   の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す。）を表す
   か、または１個以上の−OH基、−OCO−R₁₁基、−OR
   ₄基、−NCO基もしくは−NH₂基またはそれらの混合で置
   換された前記アルキル基；または１個以上の−Ｏ−基、
   −NH−基もしくは−NR₄−基またはそれらの混合で中断
   された、さらに未置換のまたは１個以上の−OH基、−OR
   ₄基もしくは−NH₂基またはそれらの混合で置換していて
   もよい前記アルキル基もしくはアルケニル基を表し；あ
   るいはR₂は −（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅ 〔式中、Ｘは−Ｏまたは−Ｎ（R₁₆）−を表し、 Ｙは−Ｏ−または−Ｎ（R₁₇）−表し、 Ｚは炭素原子数２ないし12のアルキレン基;1ないし３個
   の窒素原子、酸素原子またはその混合で置換された炭素
   原子数４ないし12のアルキレン基を表し、またはおのお
   のヒドロキシル基によって置換された、炭素原子数３な
   いし12のアルキレン基、ブテニレン基、ブチニレン基、
   シクロヘキシレン基またはフェニレン基を表し、 ｍは0,1または２を表し ｐは１を表すか、それぞれＸおよびＹが−Ｎ（R₁₆）−
   および−Ｎ（R₁₇）−を表すとき、ｐはまた０を表し、R
   ₁₅は基：−CO−Ｃ（R₁₈）＝Ｃ（Ｈ）R₁₉を表すか、Ｙが
   −Ｎ（R₁₇）−を表すとき、R₁₇と一緒になって−CO−CH
   ＝CH−CO−を表し;R₁₈は水素原子またはメチル基を表
   し； R₁₉は水素原子、メチル基または−CO−Ｘ−R₂₀を表し； R₂₀は水素原子、炭素原子数１ないし12のアルキル基ま
   たは次式： （式中、R₁、R₃、Ｘ、Ｚ、ｍおよびｐは上記で定義した
   意味を持つ。）を表し； R₁₆およびR₁₇は互いに独立して水素原子、炭素原子数１
   ないし12のアルキル基;1ないし３個の酸素原子で置換さ
   れた炭素原子数３ないし12のアルキル基を表すか、ある
   いはシクロヘキシル基、または炭素原子数７ないし15の
   アラルキル基を表し、ならびにＺがエチレン基を表す場
   合R₁₆とR₁₇は一緒になってエチレン基を形成する。〕を
   表し； ｎは１または２を表し、 ｎが１の場合、 R₅は塩素原子、OR₆またはNR₇R₈を表すか、 R₅は−PO（OR₁₂）_２、−OSi（R₁₁）_３または−OCO−R₁₁
   を表し、 あるいは−Ｏ−、−Ｓ−またはNR₁₁により中断され、さ
   らに未置換のもしくは−OHまたは−OCO−R₁₁により置換
   されていてもよい炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは
   分枝鎖のアルキル基；未置換のもしくは−OHにより置換
   された炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基；未置
   換のもしくは−OHで置換された、直鎖もしくは分枝鎖の
   炭素原子数２ないし18のアルケニル基；炭素原子数７な
   いし15のアラルキル基、−CH₂CHOH−R₁₃またはグリシジ
   ル基を表し； R₆は水素原子、未置換のまたは１個以上の基OH、OR₄も
   しくはNH₄で置換された炭素原子数１ないし24の直鎖も
   しくは分枝鎖のアルキル基を表し； または−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOHまたは−（OCH₂CH₂）_WO
   R₂₁（基中、ｗは１ないし12を表し、およびR₂₁は炭素原
   子数１ないし12のアルキル基を表す。）を表し； R₇およびR₈は独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
   のアルキル基；−Ｏ−、−Ｓ−または−NR₁₁−で中断さ
   れた、炭素原子数３ないし18の直鎖もしくは分枝鎖のア
   ルキル基；炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基、
   炭素原子数６ないし14のアリール基または炭素原子数１
   ないし３のヒドロキシルアルキル基を表すか、またはR₇
   またはR₈は窒素原子と一緒になってピロリジン環、ピペ
   リジン環、ピペラジン環またはモルホリン環を表し； ｎが２の場合、 R₅は−Ｏ−R₉−Ｏ−または−Ｎ（R₁₁）−R₁₀−Ｎ
   （R₁₁）−で表される２価の基の一つを表し、 R₉は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数
   ４ないし８のアルケニレン基、炭素原子数４のアルキニ
   レン基、シクロヘキシレン基、−Ｏ−により、または−
   CH₂−CHOH−CH₂−Ｏ−R₁₄−Ｏ−CH₂−CHOH−CH₂−によ
   って置換された炭素原子数４ないし10の直鎖もしくは分
   枝鎖のアルキレン基を表し、R₁₀は−Ｏ−、シクロヘキ
   シレン基、または により中断されていてもよい炭素原子数２ないし12の直
   鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基を表し、あるいは R₁₀およびR₁₁は２個の窒素原子と一緒になってピペラジ
   ン環を形成し； R₁₄は炭素原子数２ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のア
   ルキレン基；−Ｏ−、シクロアルキレン基、アリーレン
   基または で中断された、炭素原子数４ないし10の直鎖もしくは分
   枝鎖のアルキレン基を表し； R₇およびR₈が独立して水素原子、炭素原子数１ないし18
   のアルキル基あるいはR₇およびR₈は一緒になって炭素原
   子数４ないし６のアルキレン基、３−オキサペンタメチ
   レン基、３−イミノペンタメチレン基または３−メチル
   イミノペンタメチレン基を表し； R₁₁は水素原子、炭素原子数１ないし18の直鎖もしくは
   分枝鎖のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロア
   ルキル基、炭素原子数３ないし８の直鎖もしくは分枝鎖
   のアルケニル基、炭素原子数６ないし14のアリール基ま
   たは炭素原子数７ないし15のアラルキル基を表し； R₁₂は炭素原子数１ないし18の直鎖もしくは分枝鎖のア
   ルキル基、炭素原子数３ないし18の直鎖もしくは分枝鎖
   のアルケニル基、炭素原子数５ないし10のシクロアルキ
   ル基、炭素原子数６ないし16のアリール基または炭素原
   子数７ないし15のアラルキル基を表し； R₁₃は水素原子、−PO（OR₁₂）_２で置換された炭素原子
   数１ないし18の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基；未置
   換のもしくはOHで置換されたフェニル基、炭素原子数７
   ないし15のアラルキル基または−CH₂OR₁₂を表し； R₃は炭素原子数１ないし20のアルキル基、炭素原子数３
   ないし18のアルケニル基、炭素原子数５ないし12のシク
   ロアルキル基、炭素原子数７ないし15のフェニルアルキ
   ル基、炭素原子数６ないし10のアリール基または炭素原
   子数１ないし４のアルキル基の１ないし２個により置換
   された該アリール基、あるいは1,1,2,2−テトラヒドロ
   パーフルオロアルキル基（パーフルオロアルキル部分は
   ６ないし16個の炭素原子のものである。）を表し、なら
   びに Ｔは−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、
   Ｅは炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
   ５ないし12のシクロアルキレン基あるいは炭素原子数８
   ないし12のシクロヘキシレンにより中断または停止した
   アルキレン基を表す。）を表し、 但し、 R₁が第二ブチル基を表しおよびR₂が第三ブチルを表すと
   き、R₃はメチル基を表さない。｝で表される化合物。
2. 【請求項２】式Ｉ、IIまたはIII ｛式中、 R₁は水素原子、炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分
   枝鎖のアルキル基、炭素原子数５ないし12のシクロアル
   キル基または炭素原子数７ないし15のフェニルアルキル
   基を表し； R₂は炭素原子数１ないし24の直鎖もしくは分枝鎖のアル
   キル基、炭素原子数５ないし12のシクロアルキル基また
   は炭素原子数７ないし15のフェニルアルキル基；または
   １個以上の−OH、−OR₄（基中、R₄は炭素原子数１ない
   し12のアルキル基を表す。）もしくは−NH₂基で置換さ
   れた前記アルキル基を表し； またはR₂は−CH₂CH₂COR₅〔基中、R₅は−OR₆または−NH₂
   を表し;R₆は水素原子または炭素原子数１ないし24のア
   ルキル基、または１個以上の−OH基で置換されている該
   アルキル基を表し；または−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOHま
   たは−（OCH₂CH₂）_WOR₂₁（基中、ｗは１ないし12を表し
   およびR₂₁は炭素原子数１ないし12のアルキル基を表
   す。）を表し〕を表し；あるいは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔Ｘおよ
   びＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基で置換された
   炭素原子数３ないし12のアルキレン基を表し、R₁₅は基
   −CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈は水素原子またはメ
   チル基を表す。）を表し、ｍは0,1または２を表し、お
   よびｐは１を表す。〕を表し； R₃は炭素原子数１ないし20のアルキル基、炭素原子数３
   ないし18のアルケニル基を表し、炭素原子数５ないし12
   のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし15のフェニル
   アルキル基、炭素原子数６ないし10のアリール基または
   １もしくは２個の炭素原子数１ないし４のアルキル基で
   置換されている該アリール基を表し； ｎが１を表す時、 R₅は、塩素原子、−OR₆または−NR₇R₈〔基中、R₆は水素
   原子または炭素原子数１ないし12の直鎖もしくは分枝鎖
   のアルキル基を表し、R₇およびR₈は独立して水素原子、
   炭素原子数１ないし18のアルキル基、炭素原子数５ない
   し12のシクロアルキル基、炭素原子数６ないし14のアリ
   ール基または炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキ
   ル基を表し、あるいは−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOH（基
   中、ｗは１ないし12を表す。）を表す。〕を表し； Ｔは−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、
   Ｅは炭素原子数２ないし12のアルキレン基、炭素原子数
   ５ないし12のシクロアルキレン基または炭素原子数８な
   いし12個のシクロヘキシレン基により中断または停止さ
   れたアルキレン基を表し、 但し、R₁が第二ブチル基およびR₂が第三ブチル基を表す
   とき、R₃はメチル基を表さない。｝で表される請求項１
   に記載の化合物。
3. 【請求項３】式中、R₁は水素原子、枝分かれした炭素原
   子数３ないし12のアルキル基、シクロヘキシル基または
   炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し； R₂は炭素原子数１ないし12の直鎖もしくは分枝鎖のアル
   キル基；または−OHの１個以上で置換されている該アル
   キル基を表し；またはR₂はシクロヘキシル基もしくは炭
   素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し；ある
   いは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔式中、
   ＸおよびＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基で置換
   された炭素原子数３ないし８のアルキレン基を表し、R
   ₁₅は基−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈は水素原子ま
   たはメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表しおよびｐ
   は１を表す。〕で表される基を表し； R₃は炭素原子数１ないし18のアルキル基、アリル基、シ
   クロヘキシル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアル
   キル基を表し、フェニル基または１もしくは２個のメチ
   ル基で置換された該フェニル基を表し；ならびに ｎが１を表す場合、R₅は−OR₆または−NR₇R₈〔基中、R₆
   は水素原子または炭素原子数１ないし12の直鎖もしくは
   分枝鎖のアルキル基を表し、R₇およびR₈は独立して水素
   原子、炭素原子数１ないし８のアルキル基または炭素原
   子数１ないし３のヒドロキシアルキル基を表し、または
   −OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOH（基中、ｗは１ないし12を表
   す。）を表す。〕を表し；ならびに Ｔは−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、Ｅは炭素原子
   数２ないし６のアルキレン基、炭素原子数６ないし８の
   シクロアルキレン基または炭素原子数８ないし10のシク
   ロヘキシレン基で中断されたアルキレン基を表す。）を
   表す；請求項２に記載の化合物。
4. 【請求項４】式中、R₁は水素原子、枝分かれした炭素原
   子数４ないし８のアルキル基、シクロヘキシル基または
   ベンジル基、α−メチルベンジル基またはα，α−ジメ
   チルベンジル基を表し； R₂は炭素原子数１ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアル
   キル基；または−OHの１個以上で置換されている該アル
   キル基を表し；またはR₂はシクロヘキシル基、ベンジル
   基、α−メチルベンジルまたはα，α−ジメチルベンジ
   ル基を表すか；あるいは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔式中、
   ＸおよびＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基で置換
   された炭素原子数３ないし８のアルキレン基を表し、R
   ₁₅は基−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈はメチル基を
   表す。）を表し、ｍは２を表しおよびｐは１を表す。〕
   で表される基を表し； R₃はフェニル基を表し、またはR₃は炭素原子数４ないし
   14のアルキル基またはベンジル基を表し； ｎが１を表す場合、 R₅が−OR₆または−NR₇R₈〔基中、
   R₆は水素原子または炭素原子数４ないし12の直鎖もしく
   は分枝鎖のアルキル基を表し、R₇およびR₈は独立して水
   素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、ま
   たは−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOH（基中、ｗは４ないし12
   を表す。）を表す。〕を表し；ならびに Ｔは−Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ−（基中、Ｅは炭素原子
   数４ないし６のアルキレン基、炭素原子数６ないし８の
   シクロアルキレン基またはジヒドロリモネンジイル基を
   表す。）を表す；請求項２に記載の化合物。
5. 【請求項５】（ａ）化学線照射の有害作用への暴露によ
   り崩壊される有機材料、および（ｂ）請求項１に記載の
   式Ａ、ＢまたはＣで表される化合物の有効な安定化量か
   らなる安定化組成物。
6. 【請求項６】有機材料が合成樹脂である請求項５に記載
   の組成物。
7. 【請求項７】有機材料が無機もしくは有機顔料またはそ
   れらの混合物を含む樹脂下層および樹脂透明上層からな
   る塗料系であり、（ｂ）式Ａ、ＢまたはＣで表される化
   合物の有効な安定化量が上部樹脂層もしくは下部樹脂層
   のいずれかまたは両方の樹脂層中にある請求項５に記載
   の組成物。
8. 【請求項８】有機材料が工業用仕上塗料用に使用される
   ハイソリッド含量のエナメルである請求項５に記載の組
   成物。
9. 【請求項９】有機材料がコイル被覆として使用される請
   求項５に記載の組成物。
10. 【請求項１０】有機材料が浸透木目仕上塗料として使用
    される請求項５に記載の組成物。
11. 【請求項１１】有機材料がフィルム形成木目仕上塗料と
    して使用される請求項５に記載の組成物。
12. 【請求項１２】３−［３−（５−フェニルチオ−2H−ベ
    ンゾトリアゾール−２−イル）−５−第三ブチル−４−
    ヒドロキシハイドロシンナモイルオキシ］−２−ヒドロ
    キシプロピルメタリレートおよび２−［３−（５−フェ
    ニルチオ−2H−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−
    第三ブチル−４−ヒドロキシハイドロシンナモイルオキ
    シ］−３−ヒドロキシプロピルメタクリレートとの異性
    体混合物の付加重合により得られたメタクリレートコポ
    リマー。
13. 【請求項１３】（ａ）化学線照射の有害作用に暴露する
    ことにより崩壊される有機材料、ならびに （ｂ）請求項12に記載のコポリマーの有効安定化量から
    なる安定化組成物。
14. 【請求項１４】アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属
    酸化物、炭酸塩または水酸化物の存在下、次式： （式中、R₁およびR₂は請求項１で定義されたものを表
    す。）で表される５−ハロ−置換化合物と次式： R₃SH （式中、R₃は請求項１で定義されたものを表す。）で表
    される脂肪族、フェニルアルキルまたは芳香族メルカプ
    タンとを、非プロトン溶媒中、30ないし200℃で、反応
    させることからなる請求項１に記載の式Ａで表される化
    合物の製造方法。
15. 【請求項１５】式中、R₁は水素原子、炭素原子数４ない
    し８の枝分かれしたアルキル基または炭素原子数７ない
    し９のフェニルアルキル基を表し； R₂は炭素原子数４ないし８の直鎖もしくは分枝鎖のアル
    キル基（該アルキル基は１個の−OH基で置換されてい
    る。）または炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
    基を表し；あるいは R₂は−（CH₂）_ｍ−CO−Ｘ−（Ｚ）_ｐ−Ｙ−R₁₅〔基中、
    ＸおよびＹは−Ｏ−を表し、Ｚはヒドロキシル基により
    置換された炭素原子数３ないし８のアルキレン基を表
    し、R₁₅は基−CO−Ｃ（R₁₈）＝CH₂（基中、R₁₈は水素原
    子またはメチル基を表す。）を表し、ｍは２を表しおよ
    びｐは１を表す。〕を表し； R₃はフェニル基、炭素原子数４ないし14のアルキル基ま
    たはベンジル基を表し； ｎが１のとき、R₅は−OR₆（基中、R₆は水素原子または
    炭素原子数４ないし12の直鎖もしくは分枝鎖のアルキル
    基を表す。）を表し、または−OR₆は−（OCH₂CH₂）_WOH
    （基中、ｗは４ないし12を表す。）を表し；およびＴは
    −Ｓ−または−Ｓ−Ｅ−Ｓ− （基中、Ｅは炭素原子数４ないし６のアルキレン基、炭
    素原子数６ないし８のシクロアルキレン基、ジヒドロリ
    モネンジイル基を表す。）を表す請求項２に記載の化合
    物。