JP2590246B2 - ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 - Google Patents
３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は式（II） 〔式（II）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。〕 で示される３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド類の製造方法に関する。
ロゲン原子を表す。〕 で示される３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド類の製造方法に関する。
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド
類は、農薬、医薬あるいは染料等の中間原料として有用
な化合物である。
類は、農薬、医薬あるいは染料等の中間原料として有用
な化合物である。
従来、ベンゾトリフルオリド類のような、ベンゼン環
にトリフルオロメチル基を有する化合物のクロロスルホ
ン酸でのクロロスルホニル化反応では、トリフルオロメ
チル基が分解し、式（III） 〔式（III）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または
ハロゲン原子を表す。〕 で示される副生成物が生成し、収率が低くなることが知
られている。
にトリフルオロメチル基を有する化合物のクロロスルホ
ン酸でのクロロスルホニル化反応では、トリフルオロメ
チル基が分解し、式（III） 〔式（III）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または
ハロゲン原子を表す。〕 で示される副生成物が生成し、収率が低くなることが知
られている。
そのため、ベンゼン環にトリフルオロメチル基を有す
るベンゾトリフルオリド類のクロロスルホニル化反応に
おいては、発煙硫酸下、クロロスルホン酸を用いて反応
を行い、反応終了後反応液を氷水中に注加することによ
り、得られた有機層を有機溶媒で抽出し、実施されてい
る。
るベンゾトリフルオリド類のクロロスルホニル化反応に
おいては、発煙硫酸下、クロロスルホン酸を用いて反応
を行い、反応終了後反応液を氷水中に注加することによ
り、得られた有機層を有機溶媒で抽出し、実施されてい
る。
例えば、英国特許1258557号公報では、発煙硫酸及び
クロロスルホン酸との混合液中に、−50〜80℃で原料の
ベンゾトリフルオリド類を滴下しながら反応させた後、
大量の氷水中に反応液を注加し、過剰の発煙硫酸および
クロロスルホン酸を分解した後に有機溶媒で抽出を行う
方法が開示されている。
クロロスルホン酸との混合液中に、−50〜80℃で原料の
ベンゾトリフルオリド類を滴下しながら反応させた後、
大量の氷水中に反応液を注加し、過剰の発煙硫酸および
クロロスルホン酸を分解した後に有機溶媒で抽出を行う
方法が開示されている。
しかしながら、該英国特許の方法では、目的生成物の
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類
が、60〜70％の低収率でしか得られず、また、例えば式
（IV） で示されるジフェニルスルホン類の副生成物が約10％も
副生してくることがわかった。
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類
が、60〜70％の低収率でしか得られず、また、例えば式
（IV） で示されるジフェニルスルホン類の副生成物が約10％も
副生してくることがわかった。
本発明者らは、前記英国特許の改良方法として、特開
昭63−104952号公報には、ベンゾトリフルオリド類のス
ルホン化では発煙硫酸を用いて、特定温度範囲で反応を
行い、引続きクロロスルホン酸を特定の温度範囲で添加
し、クロロスルホニル化反応を行い、反応終了後、反応
液を氷水中に注加し目的化合物を得ている。該公報の方
法によりジフェニルスルホン類の副生は、１％未満とな
り、また収率も向上した。
昭63−104952号公報には、ベンゾトリフルオリド類のス
ルホン化では発煙硫酸を用いて、特定温度範囲で反応を
行い、引続きクロロスルホン酸を特定の温度範囲で添加
し、クロロスルホニル化反応を行い、反応終了後、反応
液を氷水中に注加し目的化合物を得ている。該公報の方
法によりジフェニルスルホン類の副生は、１％未満とな
り、また収率も向上した。
しかしながら、該反応は例えば反応式（Ｖ）、 で示されるような平衡反応であることが知られており、
反応系中に硫酸分が少ない方が平衡は右側へ傾き、目的
生成物が収率よく得られていることがわかった。
反応系中に硫酸分が少ない方が平衡は右側へ傾き、目的
生成物が収率よく得られていることがわかった。
該特開昭方法では、80〜85％と収率は向上しているも
のの、ベンゾトリフルオリド類をまず、発煙硫酸でスル
ホン化を行っているため、クロロスルホン酸を添加した
時点ですでに硫酸分が存在することになり、反応式
（Ｖ）で示される平衡反応は右側へ傾き難くなってい
る。
のの、ベンゾトリフルオリド類をまず、発煙硫酸でスル
ホン化を行っているため、クロロスルホン酸を添加した
時点ですでに硫酸分が存在することになり、反応式
（Ｖ）で示される平衡反応は右側へ傾き難くなってい
る。
また、この際、用いる発煙硫酸の使用量は、導入する
ベンゾトリフルオリド類に対し、三酸イオウ換算で1.0
〜2.0倍モルを用い、これ以下の使用量では、トリフル
オロメチル基の安定化のために好ましくないため、硫酸
分の削減は考え難い。
ベンゾトリフルオリド類に対し、三酸イオウ換算で1.0
〜2.0倍モルを用い、これ以下の使用量では、トリフル
オロメチル基の安定化のために好ましくないため、硫酸
分の削減は考え難い。
本発明者らは、前記特開昭63−104952号公報記載の方
法のような、発煙硫酸でまずスルホン化を行った後、引
続きクロロスルホン酸を用いて、塩素化反応を行う方法
ではなく、ベンゾトリフルオリド類を三酸化イオウでス
ルホン化し、単離した後、得られる３−トリフルオロベ
ンゼンスルホン酸類またはスルホン酸塩類に、塩素化剤
を用いて塩素化する、ベンゾトリフルオロスルホニルク
ロリド類、特にハロゲンで核置換されたハロゲノベンゾ
トリフルオロスルホニルクロリド類の工業的製造方法を
鋭意検討した。
法のような、発煙硫酸でまずスルホン化を行った後、引
続きクロロスルホン酸を用いて、塩素化反応を行う方法
ではなく、ベンゾトリフルオリド類を三酸化イオウでス
ルホン化し、単離した後、得られる３−トリフルオロベ
ンゼンスルホン酸類またはスルホン酸塩類に、塩素化剤
を用いて塩素化する、ベンゾトリフルオロスルホニルク
ロリド類、特にハロゲンで核置換されたハロゲノベンゾ
トリフルオロスルホニルクロリド類の工業的製造方法を
鋭意検討した。
その結果、式（III） 〔式（III）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子または
ハロゲン原子を表す。〕で示される、トリフルオロメチ
ル基が分解してできるクロロカルボニルベンゼン類は、
使用するベンゾトリフルオリド類がスルホン化を受け、
ひとたび３−トリフルオロベンゼンスルホン酸類になる
と、通常スルホン酸類の塩素化剤として用いられるいか
なる塩素化剤を用いても、ある特定温度の範囲では生成
せず、その他の副生成物も抑制でき、目的化合物である
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類
が収率良く得られることがわかった。
ハロゲン原子を表す。〕で示される、トリフルオロメチ
ル基が分解してできるクロロカルボニルベンゼン類は、
使用するベンゾトリフルオリド類がスルホン化を受け、
ひとたび３−トリフルオロベンゼンスルホン酸類になる
と、通常スルホン酸類の塩素化剤として用いられるいか
なる塩素化剤を用いても、ある特定温度の範囲では生成
せず、その他の副生成物も抑制でき、目的化合物である
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類
が収率良く得られることがわかった。
さらに、通常、芳香族化合物を三酸化イオウでスルホ
ン化を行う場合には、多量のジフェニルスルホンが副生
するため、スルホン抑制剤、例えばピリジン、脂肪酸、
有機過酸化物、酸無水物等を加え、反応性を緩和し反応
させているが、ベンゾトリフルオリド類の場合、ある特
定温度の範囲においてジフェニルスルホンの副生、およ
び過反応によって生じる、ジスルホン化物の副生を抑制
できることがわかった。
ン化を行う場合には、多量のジフェニルスルホンが副生
するため、スルホン抑制剤、例えばピリジン、脂肪酸、
有機過酸化物、酸無水物等を加え、反応性を緩和し反応
させているが、ベンゾトリフルオリド類の場合、ある特
定温度の範囲においてジフェニルスルホンの副生、およ
び過反応によって生じる、ジスルホン化物の副生を抑制
できることがわかった。
本発明はこれらの知見に基づき完成されたものであ
る。
る。
本発明は式（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。〕 で示されるベンゾトリフルオリド類を三酸化イオウでス
ルホン化後、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン
酸またはスルホン酸塩として単離した後に塩素化剤を反
応させることを特徴とする、式（II） 〔式（II）中、X,Yはそれぞれ水素原子またはハロゲン
原子を表す〕で示される３−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド類の製造方法である。
ロゲン原子を表す。〕 で示されるベンゾトリフルオリド類を三酸化イオウでス
ルホン化後、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン
酸またはスルホン酸塩として単離した後に塩素化剤を反
応させることを特徴とする、式（II） 〔式（II）中、X,Yはそれぞれ水素原子またはハロゲン
原子を表す〕で示される３−トリフルオロメチルベンゼ
ンスルホニルクロリド類の製造方法である。
本発明方法において、三酸化イオウとしては発煙硫酸
を用いても構わない。
を用いても構わない。
また、塩素化剤と反応させるトリフルオロメチルベン
ゼンスルホン酸類の形態は、スルホン酸塩またはスルホ
ン酸のいずれの形態でも構わないが、金属塩として塩析
で得られるスルホン酸塩の方が収率上好ましい。
ゼンスルホン酸類の形態は、スルホン酸塩またはスルホ
ン酸のいずれの形態でも構わないが、金属塩として塩析
で得られるスルホン酸塩の方が収率上好ましい。
本発明の一般的実施態様を示すと以下の通りである。
発煙硫酸をベンゾトリフルオリド類に対し、三酸化イ
オウ換算で等モル以上、好ましくは1.2〜3.0モル倍とな
るように装入し、20〜80℃に温度を維持しながら、ベン
ゾトリフルオリド類を0.5〜３時間かけて滴下装入し、
滴下終了後、同温度にて撹拌を行いスルホン化反応を終
了する。
オウ換算で等モル以上、好ましくは1.2〜3.0モル倍とな
るように装入し、20〜80℃に温度を維持しながら、ベン
ゾトリフルオリド類を0.5〜３時間かけて滴下装入し、
滴下終了後、同温度にて撹拌を行いスルホン化反応を終
了する。
三酸化イオウの使用量は、等モル未満では未反応のベ
ンゾトリフルオリド類が残ること、また、3.0モル倍よ
り多く使用した場合には、該スルホン酸または該スルホ
ン酸塩の結晶が析出し難く、収率が低下する傾向にあ
る。
ンゾトリフルオリド類が残ること、また、3.0モル倍よ
り多く使用した場合には、該スルホン酸または該スルホ
ン酸塩の結晶が析出し難く、収率が低下する傾向にあ
る。
また、発煙硫酸を使用する場合の濃度は、20％以上が
好ましく、それ未満の場合には硫酸分が多くなり該スル
ホン酸類の収率が低下する傾向にある。
好ましく、それ未満の場合には硫酸分が多くなり該スル
ホン酸類の収率が低下する傾向にある。
さらに、ベンゾトリフルオリド類の滴下装入時、およ
び滴下終了後の熟成時の反応温度は20℃以上80℃以下が
好ましい、20℃より低いとジフェニルスルホン類が副生
し易くなり、また80℃を超えると、ベンゾトリフルオリ
ド類のジスルホン化物などの副生が増加する傾向にあ
る。
び滴下終了後の熟成時の反応温度は20℃以上80℃以下が
好ましい、20℃より低いとジフェニルスルホン類が副生
し易くなり、また80℃を超えると、ベンゾトリフルオリ
ド類のジスルホン化物などの副生が増加する傾向にあ
る。
このようにして所定時間保温撹拌することによって得
られたスルホン化反応液を、アルカリ土類金属塩または
アルカリ金属塩の飽和水溶液、好ましくは、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、酢酸カリウム、または塩化カルシ
ウム、などの飽和水溶液に、使用した原料のベンゾトリ
フルオリド類に対し、金属イオンとして等モル以上含む
飽和水溶液量となるよう注加するか、あるいはスルホン
酸のまま用いてもよい。
られたスルホン化反応液を、アルカリ土類金属塩または
アルカリ金属塩の飽和水溶液、好ましくは、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、酢酸カリウム、または塩化カルシ
ウム、などの飽和水溶液に、使用した原料のベンゾトリ
フルオリド類に対し、金属イオンとして等モル以上含む
飽和水溶液量となるよう注加するか、あるいはスルホン
酸のまま用いてもよい。
例えばスルホン酸塩とした場合には、塩析してきた３
−トリフルオロメチルスルホン酸塩を濾過器などを用い
て濾別し、得られた結晶を乾燥させたのち、塩素化剤と
して、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化チオニルまた
はクロロスルホン酸を、３−トリフルオロメチルスルホ
ン酸塩に対し、1.0〜3.0モル倍、好ましくは、1.1〜2.0
モル倍用い、10〜80℃、好ましくは20〜60℃で混合し、
塩素化反応を行う。
−トリフルオロメチルスルホン酸塩を濾過器などを用い
て濾別し、得られた結晶を乾燥させたのち、塩素化剤と
して、五塩化リン、オキシ塩化リン、塩化チオニルまた
はクロロスルホン酸を、３−トリフルオロメチルスルホ
ン酸塩に対し、1.0〜3.0モル倍、好ましくは、1.1〜2.0
モル倍用い、10〜80℃、好ましくは20〜60℃で混合し、
塩素化反応を行う。
さらに同温度にて１〜５時間保温撹拌し塩素化反応を
完結する。
完結する。
反応温度が10℃より低いと反応速度が遅く、また80℃
を超えると副反応が発生し易くなり、ジスルホン酸類等
の副生を伴うので好ましくない。
を超えると副反応が発生し易くなり、ジスルホン酸類等
の副生を伴うので好ましくない。
また、塩素化反応の際、３−トリフルオロメチルスル
ホン酸類または、スルホン酸塩類を不活性溶媒中に装入
し、塩素化剤を滴下添加しても構わない。
ホン酸類または、スルホン酸塩類を不活性溶媒中に装入
し、塩素化剤を滴下添加しても構わない。
反応終了後は、反応液を水中に注加し、過剰の塩素化
剤を分離し、水層から分離した有機層を有機溶媒等で抽
出した後、少量の水で水洗し乾燥剤等で乾燥させ、減圧
下有機溶媒を留去して目的生成物の３−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリド類を得る。
剤を分離し、水層から分離した有機層を有機溶媒等で抽
出した後、少量の水で水洗し乾燥剤等で乾燥させ、減圧
下有機溶媒を留去して目的生成物の３−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリド類を得る。
本発明はこのようにして、４−クロロ−３−トリフル
オロメチルベンゼンスルホニルクロリド、４−ブロモ−
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、
２−クロロ−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド、２−ブロモ−５−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド、３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリドなどの製造方法に適用できる
が、特に３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルク
ロリド、４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼン
スルホニルクロリド、２−クロロ−５−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリドの製造方法として好ま
しい方法である。
オロメチルベンゼンスルホニルクロリド、４−ブロモ−
３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド、
２−クロロ−５−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド、２−ブロモ−５−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリド、３−トリフルオロメチルベン
ゼンスルホニルクロリドなどの製造方法に適用できる
が、特に３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルク
ロリド、４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼン
スルホニルクロリド、２−クロロ−５−トリフルオロメ
チルベンゼンスルホニルクロリドの製造方法として好ま
しい方法である。
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を更に具体的
に説明する。
に説明する。
実施例１ 30％発煙硫酸54ml（三酸化イオウとしての量0.4モ
ル）を200ml四ツ口フラスコに装入し、40℃に保ちなが
ら、ベンゾトリフルオリド43.8g（0.3モル）を１時間を
要し滴下した。同温度で２時間保温撹拌を行った。この
反応液を塩化ナトリウム飽和水溶液200mlに注加し、塩
析してきた３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸
ナトリウムをガラスフィルターを用いて濾別した。
ル）を200ml四ツ口フラスコに装入し、40℃に保ちなが
ら、ベンゾトリフルオリド43.8g（0.3モル）を１時間を
要し滴下した。同温度で２時間保温撹拌を行った。この
反応液を塩化ナトリウム飽和水溶液200mlに注加し、塩
析してきた３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸
ナトリウムをガラスフィルターを用いて濾別した。
得られた結晶を減圧下乾燥を行い、この結晶を200ml
の四ツ口フラスコにまえもって装入してある61.3g（0.4
モル）のオキシ塩化リン中に20℃で添加し、40℃でさら
に２時間保温撹拌を行った。反応終了後、200mlの冷水
中に反応液を滴下添加し、得られた有機層をクロロホル
ム100mlで３回抽出を行い、さらにクロロホルム層を水2
00mlで水洗した後、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧下
溶媒を留去した後、３−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリド45.4g（純度99.7％、収率92.5％）を
得た。
の四ツ口フラスコにまえもって装入してある61.3g（0.4
モル）のオキシ塩化リン中に20℃で添加し、40℃でさら
に２時間保温撹拌を行った。反応終了後、200mlの冷水
中に反応液を滴下添加し、得られた有機層をクロロホル
ム100mlで３回抽出を行い、さらにクロロホルム層を水2
00mlで水洗した後、塩化カルシウムで乾燥させ、減圧下
溶媒を留去した後、３−トリフルオロメチルベンゼンス
ルホニルクロリド45.4g（純度99.7％、収率92.5％）を
得た。
実施例２ 三酸化イオウ32g（0.4モル）を、200mlの四ツ口フラ
スコに装入し、液温を20℃に保ちながら、２−クロロベ
ンゾトリフルオリド36.1g（0.2モル）を１時間をかけ滴
下したのち、40℃で保温撹拌を行った。反応終了後、ガ
ラスフィルターで濾過し、４−クロロ−３−トリフルオ
ロメチルスルホン酸を得、これを四塩化炭素200mlに溶
解し、500mlの四ツ口フラスコに装入する。この溶液に8
0℃を超えないように塩化チオニル35.7g（0.3モル）を
加え、滴下終了後60℃で２時間保温撹拌を行い、反応を
終了させた。
スコに装入し、液温を20℃に保ちながら、２−クロロベ
ンゾトリフルオリド36.1g（0.2モル）を１時間をかけ滴
下したのち、40℃で保温撹拌を行った。反応終了後、ガ
ラスフィルターで濾過し、４−クロロ−３−トリフルオ
ロメチルスルホン酸を得、これを四塩化炭素200mlに溶
解し、500mlの四ツ口フラスコに装入する。この溶液に8
0℃を超えないように塩化チオニル35.7g（0.3モル）を
加え、滴下終了後60℃で２時間保温撹拌を行い、反応を
終了させた。
反応液を500mlの冷水中に注加し、過剰の塩化チオニ
ルを分解した後、分離した有機層を四塩化炭素100mlで
２回抽出操作を行い、得られた四塩化炭素層を、水300m
lで３回水洗を行った。塩化カルシウムで四塩化炭素層
を乾燥後、減圧下、溶媒を留去し、４−クロロ−３−ト
リフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド50.6g
（純度99.7％、収率90.4％）を得た。
ルを分解した後、分離した有機層を四塩化炭素100mlで
２回抽出操作を行い、得られた四塩化炭素層を、水300m
lで３回水洗を行った。塩化カルシウムで四塩化炭素層
を乾燥後、減圧下、溶媒を留去し、４−クロロ−３−ト
リフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド50.6g
（純度99.7％、収率90.4％）を得た。
比較例１ 60％発煙硫酸40ml（三酸化イオウとしての量0.6モ
ル）を300ml四ツ口フラスコに装入し、40℃を保ちなが
ら２−クロロベンゾトリフルオリド72.2g（0.4モル）を
１時間を要し滴下添加し、さらに60℃にて１時間保温撹
拌を行った。
ル）を300ml四ツ口フラスコに装入し、40℃を保ちなが
ら２−クロロベンゾトリフルオリド72.2g（0.4モル）を
１時間を要し滴下添加し、さらに60℃にて１時間保温撹
拌を行った。
次に、クロロスルホン酸134ml（2.0モル）を60℃を保
ちながら添加を行い、同温度にて２時間保温撹拌を行っ
た。
ちながら添加を行い、同温度にて２時間保温撹拌を行っ
た。
反応終了後、500gの氷中に反応液を滴下添加し、得ら
れた有機層をクロロホルム200mlで３回抽出を行い、さ
らにこのクロロホルム抽出層を水500mlで２回洗浄した
後、塩化カルシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去して
４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド90.9g（純度99.4％、収率81.0％）を得た。
れた有機層をクロロホルム200mlで３回抽出を行い、さ
らにこのクロロホルム抽出層を水500mlで２回洗浄した
後、塩化カルシウムで乾燥し、減圧下、溶媒を留去して
４−クロロ−３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニ
ルクロリド90.9g（純度99.4％、収率81.0％）を得た。
副生成物であるジフェニルスルホンの含有量は0.4％
であった。
であった。
比較例２ 60％発煙硫酸20ml（三酸化イオウとしての量0.3モ
ル）を200ml四ツ口フラスコに装入し、さらにクロロス
ルホン酸67ml（1.0モル）を15℃以下に保持し１時間を
要し滴下添加を行った。さらに０℃まで冷却後、ベンゾ
トリフルオリド29.2g（0.2モル）を２時間を要し滴下添
加した後、５〜10℃の温度を保ちながら２時間撹拌を行
った。
ル）を200ml四ツ口フラスコに装入し、さらにクロロス
ルホン酸67ml（1.0モル）を15℃以下に保持し１時間を
要し滴下添加を行った。さらに０℃まで冷却後、ベンゾ
トリフルオリド29.2g（0.2モル）を２時間を要し滴下添
加した後、５〜10℃の温度を保ちながら２時間撹拌を行
った。
反応終了後、反応液を500gの氷中に１時間をかけ滴下
添加を行い、得られた有機層を塩化メチレン200mlで４
回抽出した後、さらに塩化メチレン層を水500mlで洗浄
し、浄化カルシウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去
し、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリ
ド35.1g（純度90.3％、収率65.1％）を得た。また副生
成物のジフェニルスルホンの含有量は9.2％であった。
添加を行い、得られた有機層を塩化メチレン200mlで４
回抽出した後、さらに塩化メチレン層を水500mlで洗浄
し、浄化カルシウムで乾燥させ、減圧下、溶媒を留去
し、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリ
ド35.1g（純度90.3％、収率65.1％）を得た。また副生
成物のジフェニルスルホンの含有量は9.2％であった。
本発明を実施することにより、副生物のジフェニルス
ルホン類、ジスルホン化物類等の生成の抑制により、高
純度且つ、高収率で目的化合物を得ることができる。
ルホン類、ジスルホン化物類等の生成の抑制により、高
純度且つ、高収率で目的化合物を得ることができる。
Claims (5)
- 【請求項１】式（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｘおよびそれぞれ水素原子またはハロゲ
ン原子を表す。〕 で示されるベンゾトリフルオリド類を三酸化イオウでス
ルホン化後、３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン
酸類またはスルホン酸塩類として単離した後に塩素化剤
と反応させることを特徴とする、式（II） 〔式（II）中、ＸおよびＹはそれぞれ水素原子またはハ
ロゲン原子を表す。〕 で示される３−トリフルオロメチルベンゼンスルホニル
クロリド類の製造方法。 - 【請求項２】スルホン化反応を20〜80℃で行う請求項１
記載の製造方法。 - 【請求項３】３−トリフルオロメチルベンゼンスルホン
酸類をアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩として単離
した後、塩素化剤と反応させる請求項１記載の製造方
法。 - 【請求項４】塩素化剤が、塩化チオニル、オキシ塩化リ
ン、クロロスルホン酸、五塩化リンである請求項１記載
の製造方法。 - 【請求項５】塩素化剤との反応を、10〜80℃で行う請求
項１記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32344988A JP2590246B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32344988A JP2590246B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02169561A JPH02169561A (ja) | 1990-06-29 |
| JP2590246B2 true JP2590246B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=18154794
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32344988A Expired - Fee Related JP2590246B2 (ja) | 1988-12-23 | 1988-12-23 | ３‐トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2590246B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003221377A (ja) * | 2002-01-29 | 2003-08-05 | Otsuka Chemical Co Ltd | トリフルオロメチルベンゼンスルホニルクロリド化合物の製造方法 |
| DE10340830B4 (de) * | 2003-09-04 | 2006-04-13 | Schülke & Mayr GmbH | Verbesserte mikrobizide Zusammensetzung auf Basis von Formaldehyd-Depotverbindungen und Antioxidantien |
| CN102336689A (zh) * | 2011-08-29 | 2012-02-01 | 天津市筠凯化工科技有限公司 | 4-氯-3-(三氟甲基)苯磺酰氯的制备及其精制方法 |
| CN104341326A (zh) * | 2013-08-08 | 2015-02-11 | 天津诺维康生物技术有限公司 | 2-取代基-6-三氟甲基苯磺酰氯的制备方法 |
-
1988
- 1988-12-23 JP JP32344988A patent/JP2590246B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02169561A (ja) | 1990-06-29 |
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