JPH01106858A - ハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法 - Google Patents
ハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ジフェニルサルファイドを、含ハロゲン非極
性溶媒中で、ハロゲンガスでハロゲン化して、選択的に
4−位、および4′−位にハロゲンを導入した後、過酸
化水素、硝酸、または次亜塩素酸塩などの酸化剤で酸化
して、4.4′−ジハロゲノジフェニルスルフォン、ま
たは4−ハロゲノジフェニルスルフォンを製造する方法
に関するものである。
性溶媒中で、ハロゲンガスでハロゲン化して、選択的に
4−位、および4′−位にハロゲンを導入した後、過酸
化水素、硝酸、または次亜塩素酸塩などの酸化剤で酸化
して、4.4′−ジハロゲノジフェニルスルフォン、ま
たは4−ハロゲノジフェニルスルフォンを製造する方法
に関するものである。
4.4′−ジクロロジフェニルスルフォンは、ポリスル
フォン、あるいはポリエーテルスルフォンなどのエンジ
ニャリングプラスチックスの原料として、重要であり、
4−クロロジフェニルスルフォンは、農薬、医薬の合成
中間体として、有用である。
フォン、あるいはポリエーテルスルフォンなどのエンジ
ニャリングプラスチックスの原料として、重要であり、
4−クロロジフェニルスルフォンは、農薬、医薬の合成
中間体として、有用である。
ハロゲノジフェニルスルフォン類、特に4.4′−ジク
ロロジフェニルスルフォンの合成方法としては、モノク
ロルベンゼン、無水硫酸、チオニルクロライドを用いて
行う下記反応式に従う方法が知られ、工業的に実施され
ている。
ロロジフェニルスルフォンの合成方法としては、モノク
ロルベンゼン、無水硫酸、チオニルクロライドを用いて
行う下記反応式に従う方法が知られ、工業的に実施され
ている。
(例えば、英国特許1,190,433号、特開昭56
−131561、米国特許4. 172. 852号、
など)、また、モノクロルベンゼンと無水硫酸と五酸化
燐を反応させる方法(特公昭24662など)、モノク
ロルベンゼンに無水硫酸とジエチル硫酸を反応させる方
法(米国特許3,415.887号)、ピロ硫酸ジメチ
ルと無水硫酸をモノクロルベンゼンに反応させる方法(
特公昭37−11817、米国特許3,309.409
号、米国特許3,415,887号、特開昭5l−88
938)、4−クロロベンゼンスルフォン酸とモノクロ
ロベンゼンを縮合させる方法(特開昭49−76834
、英国特許1. 351. 453、特開昭50−53
345など)、モノクロルベンゼンとクロロスルフォン
酸より4−クロロベンゼンスルフォニルクロライドを得
、これとモノクロルベンゼンを反応させる方法(特開昭
58−74655、特開昭58−38253、特開昭5
8−49360など)などがあるが、これらの芳香族ス
ルフォン酸を経由する方法では収率が不十分で、4,4
′−位以外の異性体が多量に副生じ、これとの分離が困
難であり、耐触性の装置を必要とするなどの欠点がある
。
−131561、米国特許4. 172. 852号、
など)、また、モノクロルベンゼンと無水硫酸と五酸化
燐を反応させる方法(特公昭24662など)、モノク
ロルベンゼンに無水硫酸とジエチル硫酸を反応させる方
法(米国特許3,415.887号)、ピロ硫酸ジメチ
ルと無水硫酸をモノクロルベンゼンに反応させる方法(
特公昭37−11817、米国特許3,309.409
号、米国特許3,415,887号、特開昭5l−88
938)、4−クロロベンゼンスルフォン酸とモノクロ
ロベンゼンを縮合させる方法(特開昭49−76834
、英国特許1. 351. 453、特開昭50−53
345など)、モノクロルベンゼンとクロロスルフォン
酸より4−クロロベンゼンスルフォニルクロライドを得
、これとモノクロルベンゼンを反応させる方法(特開昭
58−74655、特開昭58−38253、特開昭5
8−49360など)などがあるが、これらの芳香族ス
ルフォン酸を経由する方法では収率が不十分で、4,4
′−位以外の異性体が多量に副生じ、これとの分離が困
難であり、耐触性の装置を必要とするなどの欠点がある
。
また、ジフェニルサルファイドを過酸化水素などで酸化
して、ジフェニルスルフォンを得ることは公知であるが
、同時にジフェニルスルフォキサイドを生成する恐れが
あり、さらに4,4′−ジクロロ−1あるいは4−クロ
ロジフェニルサルファイドの酸化は行われておらず、ま
た、ジフェニルサルファイドの通常の方法によるハロゲ
ン化では、4,4′−位以外の位置にハロゲンが導入さ
れた異性体が多量に生成し、工業的に、有利に4゜4′
−ジクロロジフェニルスルフォンに導くことは困難であ
った。4.4′−ジクロロジフェニルサルファイドをト
ルエンとイソプロピルアルコール中で、過安息香酸で酸
化して、4.4′−ジクロロジフェニルスルフォキサイ
ドとなることが報告されている(C,G、 Overb
erger+ R,W、 Cumm1ns。
して、ジフェニルスルフォンを得ることは公知であるが
、同時にジフェニルスルフォキサイドを生成する恐れが
あり、さらに4,4′−ジクロロ−1あるいは4−クロ
ロジフェニルサルファイドの酸化は行われておらず、ま
た、ジフェニルサルファイドの通常の方法によるハロゲ
ン化では、4,4′−位以外の位置にハロゲンが導入さ
れた異性体が多量に生成し、工業的に、有利に4゜4′
−ジクロロジフェニルスルフォンに導くことは困難であ
った。4.4′−ジクロロジフェニルサルファイドをト
ルエンとイソプロピルアルコール中で、過安息香酸で酸
化して、4.4′−ジクロロジフェニルスルフォキサイ
ドとなることが報告されている(C,G、 Overb
erger+ R,W、 Cumm1ns。
J、 Am、 Chem、 Soc、、 75. 4
250 (1953) )。
250 (1953) )。
また置換ジフェニルスルフォキサイドの置換ジフェニル
スルフォンへの置換することが検討されているが(H,
H,Szmant、 Il、F、 Harnsberg
er、 F。
スルフォンへの置換することが検討されているが(H,
H,Szmant、 Il、F、 Harnsberg
er、 F。
Krache、 J、 Am、Chem、 soc、、
76、 2185 (1954L 4.4’−ジクロロ
ジフェニルサルファイドより直接に高収率で4,4′−
ジクロロジフェニルスルフォンへの転化は述べられてい
ない。
76、 2185 (1954L 4.4’−ジクロロ
ジフェニルサルファイドより直接に高収率で4,4′−
ジクロロジフェニルスルフォンへの転化は述べられてい
ない。
前述の如く、芳香族スルフォン酸を経由する方法では、
上述の欠点、特に、4,4′−位ジクロル体以外の異性
体の生成は避けられず、この分離が困難であるので、本
発明では芳香族スルフォラ酸を経由しない方法の解決が
必要である。
上述の欠点、特に、4,4′−位ジクロル体以外の異性
体の生成は避けられず、この分離が困難であるので、本
発明では芳香族スルフォラ酸を経由しない方法の解決が
必要である。
このためには、ジフェニールサルファイドからの方法が
望ましいが、ジフェニールサルファイドの4.4′−位
に選択的にハロゲンの導入が出来ることと、サルファイ
ド結合を酸化して、スルフォン結合に転換するときに、
スルフォキサイドなどの副生をおさえて、高純度の4.
4′−ジハロゲノ−1あるいは4−ハロゲノ−ジフェニ
ールスルフォンを高収率で刈ることが必要である。
望ましいが、ジフェニールサルファイドの4.4′−位
に選択的にハロゲンの導入が出来ることと、サルファイ
ド結合を酸化して、スルフォン結合に転換するときに、
スルフォキサイドなどの副生をおさえて、高純度の4.
4′−ジハロゲノ−1あるいは4−ハロゲノ−ジフェニ
ールスルフォンを高収率で刈ることが必要である。
本発明はジフェニルサルファイドを、含ハロゲン非極性
溶媒中でハロゲンガスで、ハロゲン化して、下記一般式
(n)で表わされる化合物を得、これを酸化剤を用いて
酸化することを特徴とする下記一般式(r)で表わされ
るハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法であ
る。
溶媒中でハロゲンガスで、ハロゲン化して、下記一般式
(n)で表わされる化合物を得、これを酸化剤を用いて
酸化することを特徴とする下記一般式(r)で表わされ
るハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法であ
る。
一般式(II)
一般式(I)
〔式(1)及び(If)中、R,はハロゲン原子を表わ
し、R2は水素又はハロゲン原子を表わす。]即ち、本
発明は、例えば、下記反応式に従って実施される。
し、R2は水素又はハロゲン原子を表わす。]即ち、本
発明は、例えば、下記反応式に従って実施される。
(II)
(II)
(I)
本発明の方法は、ジフェニルサルファイドより、選択的
ハロゲン化と、酸化剤を用いて酸化する2工程の反応に
よって、簡便に、高純度の4,4′−ジハロゲノジフェ
ニルスルフォン、または4−ハロゲノジフェニルスルフ
ォンヲ、高収率で、工業的に有利に製造出来る方法を提
供するものである。
ハロゲン化と、酸化剤を用いて酸化する2工程の反応に
よって、簡便に、高純度の4,4′−ジハロゲノジフェ
ニルスルフォン、または4−ハロゲノジフェニルスルフ
ォンヲ、高収率で、工業的に有利に製造出来る方法を提
供するものである。
本発明者は、ジフェニルサルファイドから、4゜4′−
ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−ハロゲノ
ジフェニルスルフォンの製造方法について、鋭意研究を
重ねた結果、ジフェニルサルファイドを、非極性溶媒、
特に、含ハロゲン非極性溶媒中で、必要ならば、触媒を
加えて、ハロゲンガスを吹き込むなどの手段で、ハロゲ
ン化を行うと選択的に、4−位、あるいは4,4′−位
にハロゲンが導入され、4.4′−ジハロゲノジフェニ
ルサルファイド、または4−ハロゲノジフェニルサルフ
ァイドが得られ、溶媒を留去後、過酸化水素、硝酸など
の酸化剤によって、酸化することによって高純度の4,
4′−ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−ハ
ロゲノジフェニルスルフォンを、収率よ(得られること
を見い出し、本発明に到達した。
ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−ハロゲノ
ジフェニルスルフォンの製造方法について、鋭意研究を
重ねた結果、ジフェニルサルファイドを、非極性溶媒、
特に、含ハロゲン非極性溶媒中で、必要ならば、触媒を
加えて、ハロゲンガスを吹き込むなどの手段で、ハロゲ
ン化を行うと選択的に、4−位、あるいは4,4′−位
にハロゲンが導入され、4.4′−ジハロゲノジフェニ
ルサルファイド、または4−ハロゲノジフェニルサルフ
ァイドが得られ、溶媒を留去後、過酸化水素、硝酸など
の酸化剤によって、酸化することによって高純度の4,
4′−ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−ハ
ロゲノジフェニルスルフォンを、収率よ(得られること
を見い出し、本発明に到達した。
本発明の特徴は、極めて高純度の4,4′−ジハロゲノ
ジフェニルスルフォン、または4−ハロゲノジフェニル
スルフォン製品を、高収率で、簡単な工程で得られるこ
とである。さらに具体的には、工業的に安価に得られる
ジフェニールサルファイドを出発原料として、含ハロゲ
ン非極性溶媒中で、ハロゲンガスを吹き込むことによっ
て、高選択性をもって、4−位、または4.4′−位に
ハロゲンを導入出来、これ以外の位置にハロゲンの入っ
た異性体は検出されず、ハロゲンの導入量を制御するこ
とによって、それぞれ4.4′−ジハロゲノジフェニル
サルファイド、または4−ハロゲノジフェニルサルファ
イドが極めて高収率で得られ、含ハロゲン非極性溶媒を
留去後、必要ならば、低級アルコールなどの極性溶剤で
再結晶することによって、極めて高純度の製品を得るこ
とができる。
ジフェニルスルフォン、または4−ハロゲノジフェニル
スルフォン製品を、高収率で、簡単な工程で得られるこ
とである。さらに具体的には、工業的に安価に得られる
ジフェニールサルファイドを出発原料として、含ハロゲ
ン非極性溶媒中で、ハロゲンガスを吹き込むことによっ
て、高選択性をもって、4−位、または4.4′−位に
ハロゲンを導入出来、これ以外の位置にハロゲンの入っ
た異性体は検出されず、ハロゲンの導入量を制御するこ
とによって、それぞれ4.4′−ジハロゲノジフェニル
サルファイド、または4−ハロゲノジフェニルサルファ
イドが極めて高収率で得られ、含ハロゲン非極性溶媒を
留去後、必要ならば、低級アルコールなどの極性溶剤で
再結晶することによって、極めて高純度の製品を得るこ
とができる。
次の工程で、4.4′−ジハロゲノジフェニルサルファ
イド、または4−ハロゲノジフェニルサルファイドは、
過酸化水素、硝酸、または次亜塩素酸塩r、+どの酸化
剤によって、完全に酸化され、それぞれ対応するスルフ
ォンに転化される。この時、酸化剤を過剰に使用するこ
とによって、サルファイド結合を、完全にスルフォンに
酸化出来、スルフォキサイドを殆ど生じないことが見い
出された。
イド、または4−ハロゲノジフェニルサルファイドは、
過酸化水素、硝酸、または次亜塩素酸塩r、+どの酸化
剤によって、完全に酸化され、それぞれ対応するスルフ
ォンに転化される。この時、酸化剤を過剰に使用するこ
とによって、サルファイド結合を、完全にスルフォンに
酸化出来、スルフォキサイドを殆ど生じないことが見い
出された。
以下に本発明の実施態様について述べる。出発原料のジ
フェニルサルファイドは、モノクロルベンゼンと、硫化
水素、硫化ナトリウムなどとの反応、ベンゼンと塩化硫
黄との反応などの公知の反応によって、容易に高収率で
製造できる。このジフェニルサルファイドを含ハロゲン
非極性溶媒に溶解し、必要とあれば、フリーデルタシフ
ト型ハロゲン化溶媒として、塩化鉄、塩化アルミニウム
、四塩化チタンなどや、このほかアルミナ、シリカ−ア
ルミナ、シリカ、ゼオライトなどの固体ハロゲン化触媒
を加えて、ハロゲンガスを吹き込むことによって、4−
クロロジフェニルサルファイドを経て、4,4′−ジク
ロロジフェニルサルファイドを製造出来る。ここで、使
用される溶媒は、特に本反応条件下で、ハロゲンと反応
しない非極性溶媒を使用することができるが、溶解性、
ハロゲン化の選択性の点で、含ハロゲンの非極性溶媒の
利用が優れている。含ハロゲンの非極性溶媒としては、
四塩化炭素、クロロホルム、二塩化エタン、トリクロル
エタン、トリクレン、パークレンなどのほか、モノクロ
ルベンゼンも前述のジフェニルサルファイドの製造時、
未変化の原料として、混入したものがそのまま、本発明
の溶媒として、使用され得る。モノクロルベンゼンの場
合には、ハロゲン化触媒を加えなくても、十分な反応速
度で反応が進行するが、クロロホルム、四塩化炭素など
では、ハロゲン化触媒を加えない時には、反応が遅く、
触媒の添加が望ましい。ハロゲン化反応の温度は、0−
50°C1好ましくは、15−30°Cがよく、低温は
どハロゲン化の選択性が高い。
フェニルサルファイドは、モノクロルベンゼンと、硫化
水素、硫化ナトリウムなどとの反応、ベンゼンと塩化硫
黄との反応などの公知の反応によって、容易に高収率で
製造できる。このジフェニルサルファイドを含ハロゲン
非極性溶媒に溶解し、必要とあれば、フリーデルタシフ
ト型ハロゲン化溶媒として、塩化鉄、塩化アルミニウム
、四塩化チタンなどや、このほかアルミナ、シリカ−ア
ルミナ、シリカ、ゼオライトなどの固体ハロゲン化触媒
を加えて、ハロゲンガスを吹き込むことによって、4−
クロロジフェニルサルファイドを経て、4,4′−ジク
ロロジフェニルサルファイドを製造出来る。ここで、使
用される溶媒は、特に本反応条件下で、ハロゲンと反応
しない非極性溶媒を使用することができるが、溶解性、
ハロゲン化の選択性の点で、含ハロゲンの非極性溶媒の
利用が優れている。含ハロゲンの非極性溶媒としては、
四塩化炭素、クロロホルム、二塩化エタン、トリクロル
エタン、トリクレン、パークレンなどのほか、モノクロ
ルベンゼンも前述のジフェニルサルファイドの製造時、
未変化の原料として、混入したものがそのまま、本発明
の溶媒として、使用され得る。モノクロルベンゼンの場
合には、ハロゲン化触媒を加えなくても、十分な反応速
度で反応が進行するが、クロロホルム、四塩化炭素など
では、ハロゲン化触媒を加えない時には、反応が遅く、
触媒の添加が望ましい。ハロゲン化反応の温度は、0−
50°C1好ましくは、15−30°Cがよく、低温は
どハロゲン化の選択性が高い。
ハロゲンの添加量によって、モノクロロ一体とジクロロ
一体のいずれを主製品とするかによって制御される。ジ
クロロ一体のみを得んとする時には、ジフェニルサルフ
ァイドの2.2−3.0モル倍が添加される。この時で
も、トリハロゲノ一体の生成は極めてわずかである。ハ
ロゲン化溶媒に極性の強い酢酸などを用いたり、無溶媒
の場合には、4−位、および4′−位への選択性が低下
し、また、トリハロゲノ一体以上の高ハロゲン化物の生
成も多い。
一体のいずれを主製品とするかによって制御される。ジ
クロロ一体のみを得んとする時には、ジフェニルサルフ
ァイドの2.2−3.0モル倍が添加される。この時で
も、トリハロゲノ一体の生成は極めてわずかである。ハ
ロゲン化溶媒に極性の強い酢酸などを用いたり、無溶媒
の場合には、4−位、および4′−位への選択性が低下
し、また、トリハロゲノ一体以上の高ハロゲン化物の生
成も多い。
4−ハロゲノジフェニルサルファイドは、反応生成物よ
り、溶媒を留去後、減圧蒸留などの操作によって、4.
4′−ジハロゲノ一体と、原料と分離されるが、4.4
′−ハロゲノジフェニルサルファイドのみを得んとする
ときには、上述のハロゲン化反応条件の反応生成物中に
は、未反応のジフェニルサルファイドは殆どなく、若干
量の4−ハロゲノジフェニルサルファイドと、少量のト
リハロゲノ一体を含むのみであるので、溶媒を留去後、
そのまま、次工程にまねすか、減圧蒸留、またはメタノ
ール、イソプロパツールなどの溶媒で再結晶することに
よって、高純度の4.4’−ジハロゲノジフェニルサル
ファイドを得ることが出来る。
り、溶媒を留去後、減圧蒸留などの操作によって、4.
4′−ジハロゲノ一体と、原料と分離されるが、4.4
′−ハロゲノジフェニルサルファイドのみを得んとする
ときには、上述のハロゲン化反応条件の反応生成物中に
は、未反応のジフェニルサルファイドは殆どなく、若干
量の4−ハロゲノジフェニルサルファイドと、少量のト
リハロゲノ一体を含むのみであるので、溶媒を留去後、
そのまま、次工程にまねすか、減圧蒸留、またはメタノ
ール、イソプロパツールなどの溶媒で再結晶することに
よって、高純度の4.4’−ジハロゲノジフェニルサル
ファイドを得ることが出来る。
4−ハロゲノジフェニルサルファイド、または4.4′
−ジハロゲノジフェニルサルファイドの酸化剤による酸
化は、通常使用される酸化剤として、過マンガン酸カリ
ウム、過酸他船、過酸化バリウム、過酸化アンモニウム
、過硫酸およびその塩、過酸化水素、次亜塩素酸塩、硝
酸、硝酸+酸素などによって、酸化される。しかし、工
業的には、過酸化水素、次亜塩素酸塩、硝酸が使いやす
く、有利である。サルファイド結合の酸化は、まず、ス
ルフォキサイド結合に酸化され、更に酸化をうけて、ス
ルフォン結合に転化される。このため、酸化は比較的協
力な酸化剤を、当量により過剰に使用することにより、
−挙にスルフォン結合まで酸化することが出来、スルフ
ォキサイド結合のものは少量存在するに過ぎない。
−ジハロゲノジフェニルサルファイドの酸化剤による酸
化は、通常使用される酸化剤として、過マンガン酸カリ
ウム、過酸他船、過酸化バリウム、過酸化アンモニウム
、過硫酸およびその塩、過酸化水素、次亜塩素酸塩、硝
酸、硝酸+酸素などによって、酸化される。しかし、工
業的には、過酸化水素、次亜塩素酸塩、硝酸が使いやす
く、有利である。サルファイド結合の酸化は、まず、ス
ルフォキサイド結合に酸化され、更に酸化をうけて、ス
ルフォン結合に転化される。このため、酸化は比較的協
力な酸化剤を、当量により過剰に使用することにより、
−挙にスルフォン結合まで酸化することが出来、スルフ
ォキサイド結合のものは少量存在するに過ぎない。
酸化剤として、過酸化水素を用いる場合には、氷酢酸あ
るいは、氷酢酸と無水酢酸との混合物中で行う方法と、
重炭酸ナトリウムの水溶液中で行う方法とがある。
るいは、氷酢酸と無水酢酸との混合物中で行う方法と、
重炭酸ナトリウムの水溶液中で行う方法とがある。
氷酢酸を利用する場合には、4−ハロゲノジフェニルサ
ルファイド、または4,4′ −ジハロゲノジフェニル
サルファイドを、氷酢酸、あるいは、氷酢酸と無水酢酸
の混合物(通常、4−6 : 1の割合の混合物)に溶
解させ、これに30%過酸化水素水溶液と、等重量の酢
酸の混合液を、過酸化水素が、理論量の1. 2−5.
0倍になるように滴下してから、40°Cに保って反
応させ、最後に、還流をかけて反応を完結させる。この
際に過酸化水素は45°Cを越えると、自己分解反応が
酸化反応と並列して起こるので、過酸化水素を最初から
高温で、反応させるとスルフォンの生成収率が低い。こ
のため、最初は45°C以下の温度で反応させることが
望ましいが、40℃以下では、反応が遅く、完結し難い
。反応生成物は水中に投入して、目的物を沈澱として、
析出させ、口過するか、あるいは、15°C以下に冷却
して、析出する固形物を口過した後、ベンゼン、又はエ
タノール、イソプロパツールなどで再結晶して、高純度
の4−ハロゲノジフェニルスルフォン、または4.4’
−ジハロゲノジフェニルスルフォンを得ることが出来る
。
ルファイド、または4,4′ −ジハロゲノジフェニル
サルファイドを、氷酢酸、あるいは、氷酢酸と無水酢酸
の混合物(通常、4−6 : 1の割合の混合物)に溶
解させ、これに30%過酸化水素水溶液と、等重量の酢
酸の混合液を、過酸化水素が、理論量の1. 2−5.
0倍になるように滴下してから、40°Cに保って反
応させ、最後に、還流をかけて反応を完結させる。この
際に過酸化水素は45°Cを越えると、自己分解反応が
酸化反応と並列して起こるので、過酸化水素を最初から
高温で、反応させるとスルフォンの生成収率が低い。こ
のため、最初は45°C以下の温度で反応させることが
望ましいが、40℃以下では、反応が遅く、完結し難い
。反応生成物は水中に投入して、目的物を沈澱として、
析出させ、口過するか、あるいは、15°C以下に冷却
して、析出する固形物を口過した後、ベンゼン、又はエ
タノール、イソプロパツールなどで再結晶して、高純度
の4−ハロゲノジフェニルスルフォン、または4.4’
−ジハロゲノジフェニルスルフォンを得ることが出来る
。
また、重炭酸ナトリウム水溶液中で、過酸化水素で酸化
する方法については、通常、重炭酸ナトリウムを加えず
、過酸化水素を35−45°Cで添加しても、水中では
、反応は進行しないが、重炭酸ナトリウムを添加すれば
、反応が進行する。重炭酸ナトリウムの代わり蝉、水酸
化ナトリウム、または炭酸ナトリウム水溶液中では、過
酸化水素の自己分解反応は酸化反応に優先して起こり、
本発明の方法には不適当とみられる。この時、重炭酸ナ
トリウムの添加量は、原料のサルファイド重量の5−1
0倍量の水に、1. 0−2. 0モル割合を溶解した
ものとして用いる。また、過酸化水素は、原料サルファ
イドに対して、2.0−4゜0モル割合添加するのが好
ましい。反応条件下では、原料は重炭酸ナトリウム水溶
液には、溶解せず、アルコール、アセトンなどの溶媒、
または、上記の極性溶媒を使って溶解させた後重炭酸ナ
トリウム水溶液に分散させて、反応させるか、非イオン
系界面活性剤を添加して分散させて反応させることが好
ましい。反応温度は35−45°Cで、反応時間は10
時間前後が必要でる。反応生成物は、結晶として、分散
するので、冷却後、口過して、水洗し、減圧乾燥する。
する方法については、通常、重炭酸ナトリウムを加えず
、過酸化水素を35−45°Cで添加しても、水中では
、反応は進行しないが、重炭酸ナトリウムを添加すれば
、反応が進行する。重炭酸ナトリウムの代わり蝉、水酸
化ナトリウム、または炭酸ナトリウム水溶液中では、過
酸化水素の自己分解反応は酸化反応に優先して起こり、
本発明の方法には不適当とみられる。この時、重炭酸ナ
トリウムの添加量は、原料のサルファイド重量の5−1
0倍量の水に、1. 0−2. 0モル割合を溶解した
ものとして用いる。また、過酸化水素は、原料サルファ
イドに対して、2.0−4゜0モル割合添加するのが好
ましい。反応条件下では、原料は重炭酸ナトリウム水溶
液には、溶解せず、アルコール、アセトンなどの溶媒、
または、上記の極性溶媒を使って溶解させた後重炭酸ナ
トリウム水溶液に分散させて、反応させるか、非イオン
系界面活性剤を添加して分散させて反応させることが好
ましい。反応温度は35−45°Cで、反応時間は10
時間前後が必要でる。反応生成物は、結晶として、分散
するので、冷却後、口過して、水洗し、減圧乾燥する。
次亜塩素酸塩を酸化剤とする場合には、上述の重炭酸ナ
トリウムを用いて過酸化水素で酸化する場合と同様に、
原料、製品共に、水に溶解し難いので、同様に、アルコ
ール、アセトンなどの溶媒、または、通常の極性溶媒を
使って溶解させた後、塩基性無機化合物、例えば、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、または重炭酸ナトリウ
ムの水溶液に分散させた後、次亜塩素酸塩水溶液と反応
させるか、非イオン系界面活性剤を添加して分散させて
反応させることが好ましい。次亜塩素酸塩の添加量は原
料サルファイドに対して、2.0−4゜0割合添加する
のがよく、反応温度は、30−60°Cで行われる。反
応生成物より製品の分離は、上述の重炭酸ナトリウムを
用いて過酸化水素で酸化する場合と同様にして、行うこ
とが出来る。
トリウムを用いて過酸化水素で酸化する場合と同様に、
原料、製品共に、水に溶解し難いので、同様に、アルコ
ール、アセトンなどの溶媒、または、通常の極性溶媒を
使って溶解させた後、塩基性無機化合物、例えば、水酸
化ナトリウム、炭酸ナトリウム、または重炭酸ナトリウ
ムの水溶液に分散させた後、次亜塩素酸塩水溶液と反応
させるか、非イオン系界面活性剤を添加して分散させて
反応させることが好ましい。次亜塩素酸塩の添加量は原
料サルファイドに対して、2.0−4゜0割合添加する
のがよく、反応温度は、30−60°Cで行われる。反
応生成物より製品の分離は、上述の重炭酸ナトリウムを
用いて過酸化水素で酸化する場合と同様にして、行うこ
とが出来る。
酸化剤として、硝酸を用いる場合には、ジフェニルサル
ファイドを発煙硝酸で、酸化とニトロ化を同時に行って
、ジニトロジフェニルスルフォンを得ることは公知であ
る(ケミカル・アブストラクト第40巻、7153.(
1964年)など)。
ファイドを発煙硝酸で、酸化とニトロ化を同時に行って
、ジニトロジフェニルスルフォンを得ることは公知であ
る(ケミカル・アブストラクト第40巻、7153.(
1964年)など)。
しかし、この様に硝酸を用いると酸化のみならず、ニト
ロ化が併発される問題がある。この問題は、検討の結果
、比重が1.35以下の濃硝酸を用いることと、塩化鉄
のごとき金属のハロゲン化物を添加することによって、
ニトロ化物の生成を最低に抑えることが出来ることが分
った。反応は、塩化鉄をジフェニルサルファイドに加え
、10〜15倍モルの比重1.35以下の硝酸を加え、
反応温度を90−120°C1好ましくは100−10
5°Cで行う。反応生成物は冷却して析出する目的物を
口過し!、乾燥することによって、高純度の4.4′−
ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−ハロゲノ
ジフェニルスルフォンを得ることができる。また、この
折りに、硝酸の添加量を、理論値以下に減らし、酸素ま
たは、酸素含有ガスを用いても、同様の効果が得られる
。
ロ化が併発される問題がある。この問題は、検討の結果
、比重が1.35以下の濃硝酸を用いることと、塩化鉄
のごとき金属のハロゲン化物を添加することによって、
ニトロ化物の生成を最低に抑えることが出来ることが分
った。反応は、塩化鉄をジフェニルサルファイドに加え
、10〜15倍モルの比重1.35以下の硝酸を加え、
反応温度を90−120°C1好ましくは100−10
5°Cで行う。反応生成物は冷却して析出する目的物を
口過し!、乾燥することによって、高純度の4.4′−
ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−ハロゲノ
ジフェニルスルフォンを得ることができる。また、この
折りに、硝酸の添加量を、理論値以下に減らし、酸素ま
たは、酸素含有ガスを用いても、同様の効果が得られる
。
本発明の方法によって、工業的に容易に、且つ安価に得
られる。ジフェニルサルファイドラ出発原料として、4
.4′−ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−
ハロゲノジフェニルスルフォンを、高選択率で、他の異
性体の生成の極めて少ないことによって、高純度の製品
を、高収率で、反応工程も2工程と短縮された簡便な方
法で、より経済的に製造できるようになったことは、本
発明の方法によって製造できる製品の用途が、産業上重
要なエンジニャリングプラスチックであるポリスルフォ
ン、ポリエーテルスルフォンなどや、他の重要な工業製
品、医農薬の原料として重要であることを考慮すれば、
この分野の発展にも貢献するものと思われる。
られる。ジフェニルサルファイドラ出発原料として、4
.4′−ジハロゲノジフェニルスルフォン、または4−
ハロゲノジフェニルスルフォンを、高選択率で、他の異
性体の生成の極めて少ないことによって、高純度の製品
を、高収率で、反応工程も2工程と短縮された簡便な方
法で、より経済的に製造できるようになったことは、本
発明の方法によって製造できる製品の用途が、産業上重
要なエンジニャリングプラスチックであるポリスルフォ
ン、ポリエーテルスルフォンなどや、他の重要な工業製
品、医農薬の原料として重要であることを考慮すれば、
この分野の発展にも貢献するものと思われる。
以下に実施例を掲げて、本発明をより一層明らかにする
が、本発明の態様は、これらの実施例のみに限定される
ものではない。
が、本発明の態様は、これらの実施例のみに限定される
ものではない。
〔ジフェニルサルファイドのハロゲン化〕実施例I−1
ジフェニルサルファイドの塩素化による4、4′−ジク
ロロジフェニルサルファイドの合成 32のパイレンクスガラス製4つ目フラスコに、温度系
、塩素ガス吹き込み管、撹はん機、還流冷却器などを付
けて、ジフェニルサルファイド186、 0g (1,
0モル)、四塩化炭素1. FM!。
ジフェニルサルファイドの塩素化による4、4′−ジク
ロロジフェニルサルファイドの合成 32のパイレンクスガラス製4つ目フラスコに、温度系
、塩素ガス吹き込み管、撹はん機、還流冷却器などを付
けて、ジフェニルサルファイド186、 0g (1,
0モル)、四塩化炭素1. FM!。
無水塩化第二鉄0.4gを入れて、流水浴中にて、25
°Cに保って、よく撹はんしながら、塩素ガス213g
(3,0モル)を4時間かかって、吹き込み、最初に
、少量の沈澱が析出するが、直ちに消失し、後半になっ
て、再び固形物が析出し始める。吹き込み終了後体々に
温度を上げてゆくと固形物は再度溶解する。30分間還
流をかけて、過剰の塩素ガスを追い出し、均一な反応液
が得られる。このGLC分析では、未変化のジフェニル
サルファイド4.5%、4−クロロジフェニルサルファ
イド0.7%、4.4’−ジクロロジフェニルサルファ
イド94.5%、トリクロロジフェニルサルファイド0
,3%で、これら以外のピークは無かった。
°Cに保って、よく撹はんしながら、塩素ガス213g
(3,0モル)を4時間かかって、吹き込み、最初に
、少量の沈澱が析出するが、直ちに消失し、後半になっ
て、再び固形物が析出し始める。吹き込み終了後体々に
温度を上げてゆくと固形物は再度溶解する。30分間還
流をかけて、過剰の塩素ガスを追い出し、均一な反応液
が得られる。このGLC分析では、未変化のジフェニル
サルファイド4.5%、4−クロロジフェニルサルファ
イド0.7%、4.4’−ジクロロジフェニルサルファ
イド94.5%、トリクロロジフェニルサルファイド0
,3%で、これら以外のピークは無かった。
反応液を取り出し、四塩化炭素溶媒を留去して、イソプ
ロピルアルコールで再結晶して、白色結晶203g (
0,796モル)を得、このものの融点は97.5°C
で、GLC分析では、4.4”ジクロロジフェニルサル
ファイド以外のピークはなく、高純度品であった。また
、再結晶の母液より、粗円形製品48gが回収された。
ロピルアルコールで再結晶して、白色結晶203g (
0,796モル)を得、このものの融点は97.5°C
で、GLC分析では、4.4”ジクロロジフェニルサル
ファイド以外のピークはなく、高純度品であった。また
、再結晶の母液より、粗円形製品48gが回収された。
この粗製品とジフェニルサルファイド186゜0g(1
,0モル)を混じて、上記と全く同様に、反応、再結晶
を繰り返して、白色結晶256g(1,004モル)が
得られ、このものの融点は97.7°Cで、GLC分析
では、同じく、4,4′−ジクロロジフェニルサルファ
イド以外のピークなく、純度100%であった。従って
、再結晶母液より回収した固形物を反応系にリサイクル
することによって、定量値に近い収率で、4.4’−ジ
クロロジフェニルサルファイドを得ることが出来る。
,0モル)を混じて、上記と全く同様に、反応、再結晶
を繰り返して、白色結晶256g(1,004モル)が
得られ、このものの融点は97.7°Cで、GLC分析
では、同じく、4,4′−ジクロロジフェニルサルファ
イド以外のピークなく、純度100%であった。従って
、再結晶母液より回収した固形物を反応系にリサイクル
することによって、定量値に近い収率で、4.4’−ジ
クロロジフェニルサルファイドを得ることが出来る。
実施例12 ジフェニルサルファイドの塩素化による
4−クロロジフェニルサルファイドの合成3I!、のパ
イレックスガラス製4つロフラスコに、温度系、塩素ガ
ス吹き込み管、撹はん機、還流冷却器などを付けて、ジ
フェニルサルファイド186、 0g (1,0モル)
、四塩化炭酸1.51、無水塩化第二鉄0.4gを入れ
て、氷水浴中にて5°Cに保って、よ(撹はんしながら
、塩素ガス86g (1,21モル)を2時間かかって
、吹き込み、反応温度を10−15°Cにあげて、30
分間保ってから、反応液をGLC分析した。未変化のジ
フェニルサルファイド22.6%、4−クロロジフェニ
ルサルファイド67.5%、4.4’−ジクロロジフェ
ニルサルファイド9.8%、トリクロロジフェニルサル
ファイド0.1%であった。
4−クロロジフェニルサルファイドの合成3I!、のパ
イレックスガラス製4つロフラスコに、温度系、塩素ガ
ス吹き込み管、撹はん機、還流冷却器などを付けて、ジ
フェニルサルファイド186、 0g (1,0モル)
、四塩化炭酸1.51、無水塩化第二鉄0.4gを入れ
て、氷水浴中にて5°Cに保って、よ(撹はんしながら
、塩素ガス86g (1,21モル)を2時間かかって
、吹き込み、反応温度を10−15°Cにあげて、30
分間保ってから、反応液をGLC分析した。未変化のジ
フェニルサルファイド22.6%、4−クロロジフェニ
ルサルファイド67.5%、4.4’−ジクロロジフェ
ニルサルファイド9.8%、トリクロロジフェニルサル
ファイド0.1%であった。
実施例I−3ジフェニルサルファイドの臭素化による4
、4′−ジブロモジフェニルサルファイドの合成 31のパイレックスガラス製4つ目フラスコに、温度系
、塩素ガス吹き込み管、撹はん機、還流冷却器などを付
けて、ジフェニルサルファイド186、 0g (1,
0モル)、四塩化炭酸1.52、無水塩化第二鉄0.4
gを入れて、流水浴中にて、25°Cに保って、よく撹
はんしながら、臭素351、 6g (2,2モル)を
3時間かかって、吹き込み、吹き込み終了後徐々に温度
を上げてゆき、78°Cで30分間還流をかけて、過剰
の臭素を追い出し、均一な反応液が得られる。このGL
C分析では、未変化のジフェニルサルファイド6.3%
、4−1′ロモジフエニルサルフアイド0゜5%、4.
4′−ジブロモジフェニルサルファイド93゜1%、ト
リクロロジフェニルサルファイド0.1%であった。
、4′−ジブロモジフェニルサルファイドの合成 31のパイレックスガラス製4つ目フラスコに、温度系
、塩素ガス吹き込み管、撹はん機、還流冷却器などを付
けて、ジフェニルサルファイド186、 0g (1,
0モル)、四塩化炭酸1.52、無水塩化第二鉄0.4
gを入れて、流水浴中にて、25°Cに保って、よく撹
はんしながら、臭素351、 6g (2,2モル)を
3時間かかって、吹き込み、吹き込み終了後徐々に温度
を上げてゆき、78°Cで30分間還流をかけて、過剰
の臭素を追い出し、均一な反応液が得られる。このGL
C分析では、未変化のジフェニルサルファイド6.3%
、4−1′ロモジフエニルサルフアイド0゜5%、4.
4′−ジブロモジフェニルサルファイド93゜1%、ト
リクロロジフェニルサルファイド0.1%であった。
反応液を取り出し、四塩化炭素溶媒を留去して、イソプ
ロピルアルコールで再結晶して、白色結晶279g (
0,812モル)を得、このものの融点は111°Cで
、GLC分析では、4,4′−ジブロモジフェニルサル
ファイド以外のピークはなく、高純度品であった。
ロピルアルコールで再結晶して、白色結晶279g (
0,812モル)を得、このものの融点は111°Cで
、GLC分析では、4,4′−ジブロモジフェニルサル
ファイド以外のピークはなく、高純度品であった。
実施例[4,4’−ジクロロジフェニルサルファイドの
各種酸化剤による酸化による4、4’−ジクロロジフェ
ニルスルフォンの合成 4.4′−ジクロロジフェニルサルファイド15、 3
g (0,06モル)を、溶媒−酸化剤混合液に、30
分かけて添加して、5時間、所定の反応温度で加熱して
後、冷却し、水で稀釈して、分離する有機相を分離後、
水相をクロロホルムで抽出して、クロロホルム相を有機
相に合わせて、無水硫酸ナトリウムを加えて、乾燥して
から、口過、クロロホルムを留去する。得られた粗製の
4.4′ジクロロジフエニルスルフオンを石油エーテル
−ニーチルアルコールの等景況合液で、再結晶する。
各種酸化剤による酸化による4、4’−ジクロロジフェ
ニルスルフォンの合成 4.4′−ジクロロジフェニルサルファイド15、 3
g (0,06モル)を、溶媒−酸化剤混合液に、30
分かけて添加して、5時間、所定の反応温度で加熱して
後、冷却し、水で稀釈して、分離する有機相を分離後、
水相をクロロホルムで抽出して、クロロホルム相を有機
相に合わせて、無水硫酸ナトリウムを加えて、乾燥して
から、口過、クロロホルムを留去する。得られた粗製の
4.4′ジクロロジフエニルスルフオンを石油エーテル
−ニーチルアルコールの等景況合液で、再結晶する。
これらの結果を表−1に示す。
〔過酸化水素を酸化剤とし、氷酢酸を溶媒とする酸化法
] 実施例lll−1氷酢酸溶媒によに4,4′−ジクロロ
ジフェニルスルフォンの合成 4.4′−ジクロロジフェニルサルファイド25、 5
g (0,1モル)を、100mj2の氷酢酸に溶解さ
せ、よく撹はんしながら、40°Cに保って、30分か
かって、これに30%過酸化水素水27g (0,23
8モル)と等量の氷酢酸の混合溶液を滴下した。更に同
温度に保って、1時間撹はんを続けた後、30%過酸化
水素水10g(0゜088モル)と等量の氷酢酸の混合
溶液を添加して、徐々に温度を上げて、還流下に5時間
加熱した。反応生成物を水中に投入し、生じた沈澱を口
過し、粗4,4′−ジクロロジフェニルスルフォン27
.8g (0,097モル)を得た。粗収率は、97%
で、GLC分析および高速液クロ分析では、純度は98
%で、4,4′−ジクロロジフェニルスルフォキサイド
は、極めて、微量存在するのみであった。粗製品はさら
にイソプロピルアルコールで再結晶して、融点149°
Cの白色結晶19.8%(0,069モル)が得られた
。この分析では他の化合物のピークの殆ど無い純粋品で
あった。
] 実施例lll−1氷酢酸溶媒によに4,4′−ジクロロ
ジフェニルスルフォンの合成 4.4′−ジクロロジフェニルサルファイド25、 5
g (0,1モル)を、100mj2の氷酢酸に溶解さ
せ、よく撹はんしながら、40°Cに保って、30分か
かって、これに30%過酸化水素水27g (0,23
8モル)と等量の氷酢酸の混合溶液を滴下した。更に同
温度に保って、1時間撹はんを続けた後、30%過酸化
水素水10g(0゜088モル)と等量の氷酢酸の混合
溶液を添加して、徐々に温度を上げて、還流下に5時間
加熱した。反応生成物を水中に投入し、生じた沈澱を口
過し、粗4,4′−ジクロロジフェニルスルフォン27
.8g (0,097モル)を得た。粗収率は、97%
で、GLC分析および高速液クロ分析では、純度は98
%で、4,4′−ジクロロジフェニルスルフォキサイド
は、極めて、微量存在するのみであった。粗製品はさら
にイソプロピルアルコールで再結晶して、融点149°
Cの白色結晶19.8%(0,069モル)が得られた
。この分析では他の化合物のピークの殆ど無い純粋品で
あった。
実施例l11−2 氷酢酸−無水酢酸溶媒による4゜
4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合成4.4′−
ジクロロジフェニルサルファイド25、 5g (0,
1モル)を、200m1の氷酢酸と無水酢酸40m2に
溶解させ、よく撹はんしながら、40°Cに保って、3
0分かかって、これに30%過酸化水素水28.3g
(0,250モル)を滴下した。更に同温度に保って、
1時間撹はんを続けた後、30%過酸化水素水11.
3g (0゜100モル)を添加して、徐々に温度を上
げて、70°Cで1時間保持してから、105°Cに上
げて、3時間後、15°Cに冷却して、析出する結晶を
口過した。得られた粗結晶は減圧で乾燥して、融点14
7°Cの粗製品28.1g (0,098モル)を得た
。GLC分析、高速液クロ分析によって、純度は98.
7%であり、粗収率は98%であった。この粗製品はさ
らにベンゼンで再結晶して、融点149°Cの白色結晶
24.7%(0,084モル)が得られた。この分析で
は他の化合物のピークの殆ど無い純粋品であった。
4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合成4.4′−
ジクロロジフェニルサルファイド25、 5g (0,
1モル)を、200m1の氷酢酸と無水酢酸40m2に
溶解させ、よく撹はんしながら、40°Cに保って、3
0分かかって、これに30%過酸化水素水28.3g
(0,250モル)を滴下した。更に同温度に保って、
1時間撹はんを続けた後、30%過酸化水素水11.
3g (0゜100モル)を添加して、徐々に温度を上
げて、70°Cで1時間保持してから、105°Cに上
げて、3時間後、15°Cに冷却して、析出する結晶を
口過した。得られた粗結晶は減圧で乾燥して、融点14
7°Cの粗製品28.1g (0,098モル)を得た
。GLC分析、高速液クロ分析によって、純度は98.
7%であり、粗収率は98%であった。この粗製品はさ
らにベンゼンで再結晶して、融点149°Cの白色結晶
24.7%(0,084モル)が得られた。この分析で
は他の化合物のピークの殆ど無い純粋品であった。
実施例II[−3氷酢酸溶媒による4−クロロジフェニ
ルスルフォンの合成 4−クロロジフェニルサルファイド22.1g(0,1
モル)を、100mj2の氷酢酸に溶解させ、よく撹は
んしながら、40“Cに保って、30分かかって、これ
に30%過酸化水素水27g(0,238モル)と等量
の氷酢酸の混合溶液を滴下した。更に同温度に保って、
1時間撹はんを続けた後、30%過酸化水素水10g
(0,088モル)と等量の氷酢酸の混合溶液を添加し
て、徐々に温度を上げて、還流下に5時間加熱した。
ルスルフォンの合成 4−クロロジフェニルサルファイド22.1g(0,1
モル)を、100mj2の氷酢酸に溶解させ、よく撹は
んしながら、40“Cに保って、30分かかって、これ
に30%過酸化水素水27g(0,238モル)と等量
の氷酢酸の混合溶液を滴下した。更に同温度に保って、
1時間撹はんを続けた後、30%過酸化水素水10g
(0,088モル)と等量の氷酢酸の混合溶液を添加し
て、徐々に温度を上げて、還流下に5時間加熱した。
反応生成物を水中に投入し、生じた沈澱を口過し、粗4
−クロロジフェニルスルフォン24.0g(0,095
モル)を得た。粗収率は95%で、GLC分析および高
速液クロ分析では、純度は98%で、4−クロロジフェ
ニルスルフォキサイドは、極めて、微量存在するのみで
あった。粗製品はさらにイソプロピルアルコールで再結
晶して、白色結晶14.9g (0,072モル)が得
られた。この分析では他の化合物のピークの殆ど無い純
粋品であった。
−クロロジフェニルスルフォン24.0g(0,095
モル)を得た。粗収率は95%で、GLC分析および高
速液クロ分析では、純度は98%で、4−クロロジフェ
ニルスルフォキサイドは、極めて、微量存在するのみで
あった。粗製品はさらにイソプロピルアルコールで再結
晶して、白色結晶14.9g (0,072モル)が得
られた。この分析では他の化合物のピークの殆ど無い純
粋品であった。
実施例I[−4氷酢酸溶媒による4、4′−ジブロモジ
フェニルスルフォンの合成 4.4′−ジブロモジフェニルサルファイド34.4g
(0,1モル)を、100m4の氷酢酸に溶解させ、
よ(撹はんしながら、40°Cに保って、30分かかっ
て、これに30%過酸化水素水27g (0,238モ
ル)と等量の氷酢酸の混合溶液を滴下した。更に同温度
に保って、1時間撹はんを続けた後、30%過酸化水素
水10g(0゜088モル)と等量の氷酢酸の混合溶液
を添加して、徐々に温度を上げて、還流下に5時間加熱
した。反応生成物を水中に投入し、生じた沈澱を口過し
、粗4.4’−ジブロモジフェニルスルフォン35.7
g (0,095モル)を得た。粗収率は95%で、G
LC分析および高速液クロ分析では、純度は97%で、
4.4′−ジブロモジフェニルスルフォキサイドは、極
めて、微量存在するのみであった。粗製品はさらにイソ
プロピルアルコールで再結晶して、白色結晶26.7g
(0゜071モル)が得られた。この分析では純度は
99%であった。
フェニルスルフォンの合成 4.4′−ジブロモジフェニルサルファイド34.4g
(0,1モル)を、100m4の氷酢酸に溶解させ、
よ(撹はんしながら、40°Cに保って、30分かかっ
て、これに30%過酸化水素水27g (0,238モ
ル)と等量の氷酢酸の混合溶液を滴下した。更に同温度
に保って、1時間撹はんを続けた後、30%過酸化水素
水10g(0゜088モル)と等量の氷酢酸の混合溶液
を添加して、徐々に温度を上げて、還流下に5時間加熱
した。反応生成物を水中に投入し、生じた沈澱を口過し
、粗4.4’−ジブロモジフェニルスルフォン35.7
g (0,095モル)を得た。粗収率は95%で、G
LC分析および高速液クロ分析では、純度は97%で、
4.4′−ジブロモジフェニルスルフォキサイドは、極
めて、微量存在するのみであった。粗製品はさらにイソ
プロピルアルコールで再結晶して、白色結晶26.7g
(0゜071モル)が得られた。この分析では純度は
99%であった。
実施例IV−14,4’−ジクロロジフェニルサルファ
イドより、4,4′−ジクロロジフェニルスルフォンの
合成 特に、微粉砕した4、4′−ジクロロジフェニルサルフ
ァイド25.5g (0,1モル)を、エチルアルコー
ル50m2、重炭酸ナトリウム12゜6g(0,15モ
ル)を溶解させた水溶液200me中に加え、激しく撹
はんして、分散させながら、30°Cで、30%過酸化
水素17g(0,15モル)を加え、1時間かけて、4
0°Cまで、温度を上げ、再び35°Cに温度を落とし
てから、30%過酸化水素17g (0,15モル)を
、2時間かけて滴下してから、35−38°Cで15時
間激しく撹はんしながら反応させた。反応後、撹はんを
止めると結晶が出てくるので、減圧でエチルアルコール
を留去して、15°Cに冷却後、反応生成物を口過した
。冷水で洗浄してから、室温で減圧乾燥した。融点14
5°Cの結晶が25.8g(0,090モル)が得られ
、GLC分析では、純度97%で、粗収率90%であっ
た。これをイソプロピルアルコールで、再結晶すること
によって、融点149°C1純度99%の4,4′−ジ
クロロジフェニルスルフォンの結晶16. 9 g (
0゜059モル)が得られた。
イドより、4,4′−ジクロロジフェニルスルフォンの
合成 特に、微粉砕した4、4′−ジクロロジフェニルサルフ
ァイド25.5g (0,1モル)を、エチルアルコー
ル50m2、重炭酸ナトリウム12゜6g(0,15モ
ル)を溶解させた水溶液200me中に加え、激しく撹
はんして、分散させながら、30°Cで、30%過酸化
水素17g(0,15モル)を加え、1時間かけて、4
0°Cまで、温度を上げ、再び35°Cに温度を落とし
てから、30%過酸化水素17g (0,15モル)を
、2時間かけて滴下してから、35−38°Cで15時
間激しく撹はんしながら反応させた。反応後、撹はんを
止めると結晶が出てくるので、減圧でエチルアルコール
を留去して、15°Cに冷却後、反応生成物を口過した
。冷水で洗浄してから、室温で減圧乾燥した。融点14
5°Cの結晶が25.8g(0,090モル)が得られ
、GLC分析では、純度97%で、粗収率90%であっ
た。これをイソプロピルアルコールで、再結晶すること
によって、融点149°C1純度99%の4,4′−ジ
クロロジフェニルスルフォンの結晶16. 9 g (
0゜059モル)が得られた。
実施例TV−24−クロロジフェニルサルファイドより
、4−クロロジフェニルスルフォンの合成特に、微粉砕
した4−クロロジフェニルサルファイド22. 1g
(0,1モル)を、エチルアルコール50m2、重炭酸
ナトリウム12.6g(0,15モル)を溶解させた水
溶液200mj2中に加え、激しく撹はんして、分散さ
せながら、30°Cで、30%過酸化水素17g(0,
15モル)を加え、1時間かけて、40°Cまで、温度
を上げ、再び35°Cに温度を落としてから、30%過
酸化水素水17g(0,15モル)を、2時間かけて滴
下してから、35−38°Cで15時間激しく撹はんし
ながら反応させた。反応後、撹はんを止めると結晶が出
てくるので、減圧でエチルアルコールを留去して、15
°Cに冷却後、反応生成物を口過した。冷水で洗浄して
から、室温で減圧乾燥して、粗結晶が23.2g (0
,092モル)が得られ、GLC分析では、純度95%
で、粗収率92%であった。これをイソプロピルアルコ
ールで、再結晶することによって、純度98.6%の4
−クロロジフェニルスルフォンの結晶15゜4g (0
,061モル)が得られた。
、4−クロロジフェニルスルフォンの合成特に、微粉砕
した4−クロロジフェニルサルファイド22. 1g
(0,1モル)を、エチルアルコール50m2、重炭酸
ナトリウム12.6g(0,15モル)を溶解させた水
溶液200mj2中に加え、激しく撹はんして、分散さ
せながら、30°Cで、30%過酸化水素17g(0,
15モル)を加え、1時間かけて、40°Cまで、温度
を上げ、再び35°Cに温度を落としてから、30%過
酸化水素水17g(0,15モル)を、2時間かけて滴
下してから、35−38°Cで15時間激しく撹はんし
ながら反応させた。反応後、撹はんを止めると結晶が出
てくるので、減圧でエチルアルコールを留去して、15
°Cに冷却後、反応生成物を口過した。冷水で洗浄して
から、室温で減圧乾燥して、粗結晶が23.2g (0
,092モル)が得られ、GLC分析では、純度95%
で、粗収率92%であった。これをイソプロピルアルコ
ールで、再結晶することによって、純度98.6%の4
−クロロジフェニルスルフォンの結晶15゜4g (0
,061モル)が得られた。
実施例V−14,4’−ジクロロジフェニルサルファイ
ドより、4.4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合
成 ガラスライニング製オートクレーブに、4,4′−ジク
ロロジフェニルサルファイド25.5g(0,1モル)
に、塩化第二鉄FeCl3・6H201g、比重1.3
43の硝酸100m1(1゜16モル)を加えて、よく
撹はんしながら、1時間かけて、100°Cに昇温して
、100−105°Cに、さらに5時間撹はん保持した
。反応生成物はとりだして、口過し、冷却して、生成す
る沈澱を口過し、水洗後、室温で減圧乾燥した。粗結晶
27.0g (0,094モル)が得られ、GLC分析
、および高速液クロ分析では、純度97%、ニトロ化物
は2%以下であり、融点145“Cで、粗収率は94%
であった。これをイソプロピルアルコールで再結晶して
、融点148°C1純度99゜5%の4.4′−ジクロ
ロジフェニルスルフォンの結晶21.0g (0,07
32モル)が得られた。
ドより、4.4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合
成 ガラスライニング製オートクレーブに、4,4′−ジク
ロロジフェニルサルファイド25.5g(0,1モル)
に、塩化第二鉄FeCl3・6H201g、比重1.3
43の硝酸100m1(1゜16モル)を加えて、よく
撹はんしながら、1時間かけて、100°Cに昇温して
、100−105°Cに、さらに5時間撹はん保持した
。反応生成物はとりだして、口過し、冷却して、生成す
る沈澱を口過し、水洗後、室温で減圧乾燥した。粗結晶
27.0g (0,094モル)が得られ、GLC分析
、および高速液クロ分析では、純度97%、ニトロ化物
は2%以下であり、融点145“Cで、粗収率は94%
であった。これをイソプロピルアルコールで再結晶して
、融点148°C1純度99゜5%の4.4′−ジクロ
ロジフェニルスルフォンの結晶21.0g (0,07
32モル)が得られた。
実施例V−24,4’−ジブロモジフェニルサルファイ
ドより、4,4′−ジブロモジフェニルスルフォンの合
成 ガラスライニング製オートクレーブに、4,4′−ジブ
ロモジフェニルサルファイド34.4g(0,1モル)
に、塩化第二鉄FeCf5’6Hz01g、比重1.3
43の硝酸100m1(1゜16モル)を加えて、よく
撹はんしながら、1時間かけて、100°Cに昇温して
、100−105°Cに、さらに5時間撹はん保持した
。反応生成物はとりだして、口過し、冷却して、生成す
る沈殿を口過し、水洗後、室温で減圧乾燥した。粗結晶
36.5g (0,097モル)が得られ、GLC分析
、および高速液クロ分析では、純度98%、ニトロ化物
は1.2%以下で、粗収率は97%であった。これをイ
ソプロピルアルコールで再結晶して、純度99.7%の
4,4′−ジブロモジフェニルスルフォンの結晶31.
0g (0,0850モル)が得られた。
ドより、4,4′−ジブロモジフェニルスルフォンの合
成 ガラスライニング製オートクレーブに、4,4′−ジブ
ロモジフェニルサルファイド34.4g(0,1モル)
に、塩化第二鉄FeCf5’6Hz01g、比重1.3
43の硝酸100m1(1゜16モル)を加えて、よく
撹はんしながら、1時間かけて、100°Cに昇温して
、100−105°Cに、さらに5時間撹はん保持した
。反応生成物はとりだして、口過し、冷却して、生成す
る沈殿を口過し、水洗後、室温で減圧乾燥した。粗結晶
36.5g (0,097モル)が得られ、GLC分析
、および高速液クロ分析では、純度98%、ニトロ化物
は1.2%以下で、粗収率は97%であった。これをイ
ソプロピルアルコールで再結晶して、純度99.7%の
4,4′−ジブロモジフェニルスルフォンの結晶31.
0g (0,0850モル)が得られた。
実施例V−34,4’−ジクロロジフェニルサルファイ
ドより、4.4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合
成 ガラスライニング製オートクレーブに、4.4′−ジク
ロロジフェニルサルファイド25.5g(0,1モル)
に、塩化第二鉄FeC1x’6Hz01g1比重1.3
43の硝酸30m1 (0゜35モル)を加えて、よく
撹はんしながら、酸素ボンベより、純酸素をふきこみ、
内圧をlO気圧に加圧してから、この圧力を保って1時
間かけて、100°Cに昇温して、100−105°C
に、さらに5時間撹はん保持した。反応生成物はとりだ
して、口過し、冷却して、生成する沈殿を口過し、水洗
後、室温で減圧乾燥した。粗結晶23.3g(0,09
2モル)が得られ、GLC分析、および高速液クロ分析
では、純度97%、ニトロ化物は1%以下であり、融点
145°Cで、粗収率は92%であった。これをイソプ
ロピルアルコールで再結晶して、融点148°C5純度
99.5%の4゜4′−ジクロロジフェニルスルフォン
の結晶19 。
ドより、4.4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合
成 ガラスライニング製オートクレーブに、4.4′−ジク
ロロジフェニルサルファイド25.5g(0,1モル)
に、塩化第二鉄FeC1x’6Hz01g1比重1.3
43の硝酸30m1 (0゜35モル)を加えて、よく
撹はんしながら、酸素ボンベより、純酸素をふきこみ、
内圧をlO気圧に加圧してから、この圧力を保って1時
間かけて、100°Cに昇温して、100−105°C
に、さらに5時間撹はん保持した。反応生成物はとりだ
して、口過し、冷却して、生成する沈殿を口過し、水洗
後、室温で減圧乾燥した。粗結晶23.3g(0,09
2モル)が得られ、GLC分析、および高速液クロ分析
では、純度97%、ニトロ化物は1%以下であり、融点
145°Cで、粗収率は92%であった。これをイソプ
ロピルアルコールで再結晶して、融点148°C5純度
99.5%の4゜4′−ジクロロジフェニルスルフォン
の結晶19 。
0g (0,0652モル)が得られた。
〔次亜塩素酸塩を酸化剤とする酸化法〕実施例Vl−1
4,4’−ジクロロジフェニルサルファイドより、4.
4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合成 特に、微粉砕した4、4′−ジクロ口ジフェニルサルフ
ァイド25.5g (0,1モル)を、エチルアルコー
ル5Qmffi、炭酸ナトリウム15゜9g(0,15
モル)を溶解させた水溶液200m1中に加え、激しく
撹はんして、分散させながら、30°Cで、20%次亜
塩素酸ナトリウム93゜1g(0,25モル)を加え、
1時間かけて、40°Cまで、温度を上げ、再び35°
Cに温度を落としてから、20%次亜塩素酸塩ナトリウ
ム水溶液37.3g (0,,10モル)を、2時間か
けて滴下してから、75−100°Cで5時間激しく撹
はんしながら反応させた。反応後、撹はんを止めると結
晶が出てくるので、減圧でエチルアルコールを留去後、
15°Cに冷却後、反応生成物を口過した。冷水で洗浄
してから、室温で減圧乾燥した。
4,4’−ジクロロジフェニルサルファイドより、4.
4′−ジクロロジフェニルスルフォンの合成 特に、微粉砕した4、4′−ジクロ口ジフェニルサルフ
ァイド25.5g (0,1モル)を、エチルアルコー
ル5Qmffi、炭酸ナトリウム15゜9g(0,15
モル)を溶解させた水溶液200m1中に加え、激しく
撹はんして、分散させながら、30°Cで、20%次亜
塩素酸ナトリウム93゜1g(0,25モル)を加え、
1時間かけて、40°Cまで、温度を上げ、再び35°
Cに温度を落としてから、20%次亜塩素酸塩ナトリウ
ム水溶液37.3g (0,,10モル)を、2時間か
けて滴下してから、75−100°Cで5時間激しく撹
はんしながら反応させた。反応後、撹はんを止めると結
晶が出てくるので、減圧でエチルアルコールを留去後、
15°Cに冷却後、反応生成物を口過した。冷水で洗浄
してから、室温で減圧乾燥した。
融点145°Cの結晶が26.Ig (0,091モル
)が得られ、GLC分析では、純度97%で、相数率9
1%であった。これをイソプロピルアルコールで、再結
晶することによって、融点149°C1純度99%の4
,4′−ジクロロジフェニルスルフォンの結晶21.2
g (0,071モル)が得られた。
)が得られ、GLC分析では、純度97%で、相数率9
1%であった。これをイソプロピルアルコールで、再結
晶することによって、融点149°C1純度99%の4
,4′−ジクロロジフェニルスルフォンの結晶21.2
g (0,071モル)が得られた。
実施例VT−24,4’−ジブロモジフェニルサルファ
イドより、4.4′−ジブロモジフェニルスルフォンの
合成 特に、微粉砕した4、4′−ジブロモジフェニルサルフ
ァイド34.4g (0,1モル)を、エチルアルコー
ル50m4、炭酸ナトリウム15゜9g(0,15モル
)を溶解させた水溶液200m!中に加え、激しく撹は
んして、分散させながら、30°Cで、20%次亜塩素
酸ナトリウム939、Ig(0,25モル)を加え、1
時間かけて、40℃まで、温度を上げ、再び35゛Cに
温度を落としてから、20%次亜塩素酸ナトリウム水溶
液37、 3g (0,10モル)を、2時間かけて滴
下してから、75−100°Cで5時間激しく撹はんし
ながら反応させた。反応後、撹はんを止めると結晶が出
てくるので、減圧でエチルアルコールを留去後、15°
Cに冷却後、反応生成物を口過した。
イドより、4.4′−ジブロモジフェニルスルフォンの
合成 特に、微粉砕した4、4′−ジブロモジフェニルサルフ
ァイド34.4g (0,1モル)を、エチルアルコー
ル50m4、炭酸ナトリウム15゜9g(0,15モル
)を溶解させた水溶液200m!中に加え、激しく撹は
んして、分散させながら、30°Cで、20%次亜塩素
酸ナトリウム939、Ig(0,25モル)を加え、1
時間かけて、40℃まで、温度を上げ、再び35゛Cに
温度を落としてから、20%次亜塩素酸ナトリウム水溶
液37、 3g (0,10モル)を、2時間かけて滴
下してから、75−100°Cで5時間激しく撹はんし
ながら反応させた。反応後、撹はんを止めると結晶が出
てくるので、減圧でエチルアルコールを留去後、15°
Cに冷却後、反応生成物を口過した。
冷水で洗浄してから、室温で減圧乾燥した。粗結晶が3
5.0g (0,093モル)が得られ、GLC分析で
は、純度98%で、相数率93%であった。コレをイソ
プロピルアルコールで、再結晶することによって、純度
99.4%の4.4’−ジブロモジフェニルスルフォン
の結晶28.6g(0,076モル)が得られた。
5.0g (0,093モル)が得られ、GLC分析で
は、純度98%で、相数率93%であった。コレをイソ
プロピルアルコールで、再結晶することによって、純度
99.4%の4.4’−ジブロモジフェニルスルフォン
の結晶28.6g(0,076モル)が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ジフェニルサルファイドを、含ハロゲン非極性溶媒
中でハロゲンガスで、ハロゲン化して、下記一般式(I
I)で表わされる化合物を得、これを酸化剤を用いて酸
化することを特徴とする下記一般式( I )で表わされ
るハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )及び(II)中、R_1はハロゲン原子を表
わし、R_2は水素又はハロゲン原子を表わす。〕2)
酸化剤が過酸化水素である特許請求の範囲第1項記載の
方法。 3)酸化を酢酸溶媒中で、過酸化水素を用いて行う特許
請求の範囲第1又は第2項記載の方法。 4)酸化を重炭酸塩水溶液を媒体として、過酸化水素を
用いて行う特許請求の範囲第1又は第2項記載の方法。 5)酸化剤が硝酸である特許請求の範囲第1項記載の方
法。 6)酸化を、ハロゲン化鉄塩を触媒として、硝酸を用い
て行う特許請求の範囲第1又は第5項記載の方法。 7)酸化剤に硝酸と酸素、または酸素含有ガスを用いて
行う特許請求範囲第1、第5及び第6項の何れか1項に
記載の方法。 8)酸化剤が次亜塩素酸塩である特許請求の範囲第1項
記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26282587A JPH01106858A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | ハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26282587A JPH01106858A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | ハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01106858A true JPH01106858A (ja) | 1989-04-24 |
Family
ID=17381136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26282587A Pending JPH01106858A (ja) | 1987-10-20 | 1987-10-20 | ハロゲン置換ジフェニルスルフォン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01106858A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104557625A (zh) * | 2013-10-29 | 2015-04-29 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种二甲基砜的制备方法 |
WO2018007481A1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-11 | Basf Se | Process for preparing an organic sulfone |
JP2021505645A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-18 | 浙江新和成股▲分▼有限公司Zhejiang Nhu Co.,Ltd. | 4−フェニルチオ−フェニルメルカプタンの製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51136647A (en) * | 1975-04-11 | 1976-11-26 | Crown Zellerbach Corp | Selective production of high purity 4*4**substituted diarylsulphone in high yield |
JPS5444623A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-09 | Asahi Glass Co Ltd | Production of polybrominated diphenyl |
-
1987
- 1987-10-20 JP JP26282587A patent/JPH01106858A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS51136647A (en) * | 1975-04-11 | 1976-11-26 | Crown Zellerbach Corp | Selective production of high purity 4*4**substituted diarylsulphone in high yield |
JPS5444623A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-09 | Asahi Glass Co Ltd | Production of polybrominated diphenyl |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104557625A (zh) * | 2013-10-29 | 2015-04-29 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种二甲基砜的制备方法 |
CN104557625B (zh) * | 2013-10-29 | 2017-01-25 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种二甲基砜的制备方法 |
WO2018007481A1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-11 | Basf Se | Process for preparing an organic sulfone |
CN109415311A (zh) * | 2016-07-08 | 2019-03-01 | 巴斯夫欧洲公司 | 制备有机砜的方法 |
US10836715B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-11-17 | Basf Se | Process for preparing an organic sulfone |
JP2021505645A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-18 | 浙江新和成股▲分▼有限公司Zhejiang Nhu Co.,Ltd. | 4−フェニルチオ−フェニルメルカプタンの製造方法 |
US11220478B2 (en) | 2017-12-22 | 2022-01-11 | Zhejiang Nhu Company Ltd. | Preparation method for 4-phenylthio-benzenethiol |
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