JP2574747Y2 - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JP2574747Y2 JP2574747Y2 JP1992003905U JP390592U JP2574747Y2 JP 2574747 Y2 JP2574747 Y2 JP 2574747Y2 JP 1992003905 U JP1992003905 U JP 1992003905U JP 390592 U JP390592 U JP 390592U JP 2574747 Y2 JP2574747 Y2 JP 2574747Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- ion beam
- slit plate
- disk
- width
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、真空容器内で回転お
よび並進させられるウェーハディスクに装着されたウェ
ーハにイオンビームを照射してイオン注入を行う、いわ
ゆるメカニカルスキャン方式のイオン注入装置に関す
る。
よび並進させられるウェーハディスクに装着されたウェ
ーハにイオンビームを照射してイオン注入を行う、いわ
ゆるメカニカルスキャン方式のイオン注入装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】この種のイオン注入装置の従来例を図４
に示す。この装置は、基本的には、図示しない真空容器
内で例えば矢印Ａ方向に高速回転させられると共に矢印
Ｂ方向に並進させられるウェーハディスク８の周縁部に
装着された複数枚のウェーハ６にイオンビーム２を照射
して各ウェーハ６にイオン注入を行うよう構成されてい
る。
に示す。この装置は、基本的には、図示しない真空容器
内で例えば矢印Ａ方向に高速回転させられると共に矢印
Ｂ方向に並進させられるウェーハディスク８の周縁部に
装着された複数枚のウェーハ６にイオンビーム２を照射
して各ウェーハ６にイオン注入を行うよう構成されてい
る。
【０００３】上記イオンビーム２のビームラインの最も
下流側（即ちウェーハディスク８のすぐ上流側）には、
ディスク並進方向Ｂに直交する方向に長い長円形の開口
部４０を有する成形スリット板４が固定されており、イ
オンビーム２はこの開口部４０を通してウェーハディス
ク８上のウェーハ６に照射される。従って、ウェーハ６
に対する注入面でのイオンビーム２のサイズ、その内で
もここではそのディスク並進方向Ｂの幅Ｗ′（図５参
照）に注目して見ると、この幅Ｗ′は開口部４０のディ
スク並進方向Ｂの幅Ｗで決定されている。
下流側（即ちウェーハディスク８のすぐ上流側）には、
ディスク並進方向Ｂに直交する方向に長い長円形の開口
部４０を有する成形スリット板４が固定されており、イ
オンビーム２はこの開口部４０を通してウェーハディス
ク８上のウェーハ６に照射される。従って、ウェーハ６
に対する注入面でのイオンビーム２のサイズ、その内で
もここではそのディスク並進方向Ｂの幅Ｗ′（図５参
照）に注目して見ると、この幅Ｗ′は開口部４０のディ
スク並進方向Ｂの幅Ｗで決定されている。
【０００４】これを平面的に説明すると、図５に示すよ
うに、成形スリット板４によって成形された（即ちビー
ムサイズが決定された）イオンビーム２を中心にして、
ディスク並進方向Ｂにウェーハ６が一定の並進幅Ｓだけ
並進させられる。
うに、成形スリット板４によって成形された（即ちビー
ムサイズが決定された）イオンビーム２を中心にして、
ディスク並進方向Ｂにウェーハ６が一定の並進幅Ｓだけ
並進させられる。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】上記の場合、ウェーハ
６が並進の両端部Ｐ、Ｑにあるときは、ウェーハ６上に
イオンビーム２が当たっていないようにしなければなら
ない。もしイオンビーム２が当たり続けると、そこだけ
注入量が増えて均一な注入が不可能になるからである。
６が並進の両端部Ｐ、Ｑにあるときは、ウェーハ６上に
イオンビーム２が当たっていないようにしなければなら
ない。もしイオンビーム２が当たり続けると、そこだけ
注入量が増えて均一な注入が不可能になるからである。
【０００６】ところが従来の装置ではウェーハディスク
８の並進幅Ｓが一定であるため、注入可能なウェーハサ
イズの上限はイオンビーム２の幅Ｗ′によって決定さ
れ、それより大きいウェーハ６になると、図６に示すよ
うに、ウェーハ６が並進の両端部Ｐ、Ｑにあるときでも
それにイオンビーム２が当たり続け、均一な注入が不可
能になる。
８の並進幅Ｓが一定であるため、注入可能なウェーハサ
イズの上限はイオンビーム２の幅Ｗ′によって決定さ
れ、それより大きいウェーハ６になると、図６に示すよ
うに、ウェーハ６が並進の両端部Ｐ、Ｑにあるときでも
それにイオンビーム２が当たり続け、均一な注入が不可
能になる。
【０００７】また仮にウェーハサイズに合わせてウェー
ハディスク８の並進幅Ｓを大きくすると、ウェーハディ
スク８は非常に大きな部品であるため、それの収納用の
真空容器を含めて当該イオン注入装置全体が大型化する
という別の問題が発生する。
ハディスク８の並進幅Ｓを大きくすると、ウェーハディ
スク８は非常に大きな部品であるため、それの収納用の
真空容器を含めて当該イオン注入装置全体が大型化する
という別の問題が発生する。
【０００８】そこでこの考案は、ウェーハディスクの並
進幅を変えることなく、異なるサイズのウェーハに対し
て均一なイオン注入を可能にしたイオン注入装置を提供
することを主たる目的とする。
進幅を変えることなく、異なるサイズのウェーハに対し
て均一なイオン注入を可能にしたイオン注入装置を提供
することを主たる目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この考案のイオン注入装置は、前述したような成形
スリット板を、ウェーハディスク並進方向の幅が互いに
異なる複数の開口部を有するものとし、かつこの成形ス
リット板を動かして、イオンビームの軌道上に位置させ
る開口部を変える駆動機構を設けたことを特徴とする。
め、この考案のイオン注入装置は、前述したような成形
スリット板を、ウェーハディスク並進方向の幅が互いに
異なる複数の開口部を有するものとし、かつこの成形ス
リット板を動かして、イオンビームの軌道上に位置させ
る開口部を変える駆動機構を設けたことを特徴とする。
【００１０】
【作用】上記構成によれば、駆動機構によって成形スリ
ット板を動かしてイオンビームを通す開口部を変えるこ
とによって、ウェーハに対する注入面上でのイオンビー
ムの幅を変えることができる。その結果例えば、大きな
サイズのウェーハにイオン注入するときには、小さい幅
の開口部を選んでビーム幅を狭くすることができ、その
ようにすれば、ウェーハディスクの並進幅を変えなくて
も、ウェーハが並進の両端部に来たときにそれにイオン
ビームが当たり続けることはなくなり、均一なイオン注
入を行うことができる。
ット板を動かしてイオンビームを通す開口部を変えるこ
とによって、ウェーハに対する注入面上でのイオンビー
ムの幅を変えることができる。その結果例えば、大きな
サイズのウェーハにイオン注入するときには、小さい幅
の開口部を選んでビーム幅を狭くすることができ、その
ようにすれば、ウェーハディスクの並進幅を変えなくて
も、ウェーハが並進の両端部に来たときにそれにイオン
ビームが当たり続けることはなくなり、均一なイオン注
入を行うことができる。
【００１１】
【実施例】図１は、この考案の一実施例に係るイオン注
入装置の成形スリット板周りを示す斜視図である。図４
等の従来例と同一または相当する部分には同一符号を付
し、以下においては当該従来例との相違点を主に説明す
る。
入装置の成形スリット板周りを示す斜視図である。図４
等の従来例と同一または相当する部分には同一符号を付
し、以下においては当該従来例との相違点を主に説明す
る。
【００１２】この実施例においては、前述した従来の成
形スリット板４に対応する成形スリット板４ａを、矢印
Ｂで示すウェーハディスク並進方向に並んだ三つの開口
部４１〜４３を有するものとしており、しかも各開口部
４１〜４３のディスク並進方向Ｂの幅Ｗ1 〜Ｗ3 を互い
に異ならせている。
形スリット板４に対応する成形スリット板４ａを、矢印
Ｂで示すウェーハディスク並進方向に並んだ三つの開口
部４１〜４３を有するものとしており、しかも各開口部
４１〜４３のディスク並進方向Ｂの幅Ｗ1 〜Ｗ3 を互い
に異ならせている。
【００１３】そしてこの成形スリット板４ａを、次のよ
うな駆動機構によってディスク並進方向Ｂに動かして、
イオンビーム２の軌道上に位置させる開口部４１〜４３
を変えることができるようにしている。即ちこの例で
は、この成形スリット板４ａの一端側を、真空容器（図
示省略）内に支持されたガイドレール１０にスライド可
能に嵌め込み、ロッド１２を介して、真空容器外に設け
られた駆動源１４によって、当該成形スリット板４ａを
ディスク並進方向Ｂに動かすことができるようにしてい
る。駆動源１４は例えばエアシリンダーであるが、これ
に限定されるものではない。
うな駆動機構によってディスク並進方向Ｂに動かして、
イオンビーム２の軌道上に位置させる開口部４１〜４３
を変えることができるようにしている。即ちこの例で
は、この成形スリット板４ａの一端側を、真空容器（図
示省略）内に支持されたガイドレール１０にスライド可
能に嵌め込み、ロッド１２を介して、真空容器外に設け
られた駆動源１４によって、当該成形スリット板４ａを
ディスク並進方向Ｂに動かすことができるようにしてい
る。駆動源１４は例えばエアシリンダーであるが、これ
に限定されるものではない。
【００１４】このような構造によれば、駆動源１４によ
って成形スリット板４ａを動かして異なる開口部４１〜
４３をイオンビーム２の軌道上に位置させる、即ちイオ
ンビーム２を通す開口部４１〜４３を変えることによっ
て、ウェーハ６に対する注入面上でのイオンビーム２の
サイズ、より具体的にはその幅を変えることができる。
即ち、幅の広いイオンビーム２を得たいときは幅の広い
開口部（例えば開口部４１）を、幅の狭いイオンビーム
２を得たいときは幅の狭い開口部（例えば開口部４３）
をイオンビーム２の軌道上に位置させれば良い。
って成形スリット板４ａを動かして異なる開口部４１〜
４３をイオンビーム２の軌道上に位置させる、即ちイオ
ンビーム２を通す開口部４１〜４３を変えることによっ
て、ウェーハ６に対する注入面上でのイオンビーム２の
サイズ、より具体的にはその幅を変えることができる。
即ち、幅の広いイオンビーム２を得たいときは幅の広い
開口部（例えば開口部４１）を、幅の狭いイオンビーム
２を得たいときは幅の狭い開口部（例えば開口部４３）
をイオンビーム２の軌道上に位置させれば良い。
【００１５】例えば、大きいサイズのウェーハ６にイオ
ン注入するときは、図２に示すように、幅の狭い開口部
４３（幅Ｗ3 ）を選んでイオンビーム２の幅（Ｗ3 ′）
を狭くしておけば良く、そのようにすれば、ウェーハデ
ィスク８の並進幅Ｓを変えなくても、ウェーハ６が並進
の両端部Ｐ、Ｑに来たときにそれにイオンビーム２が当
たり続けることはなくなり、均一なイオン注入を行うこ
とができる。
ン注入するときは、図２に示すように、幅の狭い開口部
４３（幅Ｗ3 ）を選んでイオンビーム２の幅（Ｗ3 ′）
を狭くしておけば良く、そのようにすれば、ウェーハデ
ィスク８の並進幅Ｓを変えなくても、ウェーハ６が並進
の両端部Ｐ、Ｑに来たときにそれにイオンビーム２が当
たり続けることはなくなり、均一なイオン注入を行うこ
とができる。
【００１６】小さいサイズのウェーハ６にイオン注入す
るときは、ビームの利用効率を良くする観点から、図３
に示すように、幅の広い開口部４１（幅Ｗ1 ）を選んで
イオンビーム２の幅（幅Ｗ1 ′）を広くしておけば良
い。
るときは、ビームの利用効率を良くする観点から、図３
に示すように、幅の広い開口部４１（幅Ｗ1 ）を選んで
イオンビーム２の幅（幅Ｗ1 ′）を広くしておけば良
い。
【００１７】なお、成形スリット板の複数の開口部の配
置や同スリット板を動かす方向、またそのための駆動機
構の構成は、上記例のようなものに限定されるものでは
ない。例えば、複数の開口部をディスク並進方向Ｂに直
交する方向に一直線に並べてその方向に成形スリット板
をスライドさせても良いし、複数の開口部を角度の異な
る半径方向に並べて成形スリット板を回転させるように
しても良い。
置や同スリット板を動かす方向、またそのための駆動機
構の構成は、上記例のようなものに限定されるものでは
ない。例えば、複数の開口部をディスク並進方向Ｂに直
交する方向に一直線に並べてその方向に成形スリット板
をスライドさせても良いし、複数の開口部を角度の異な
る半径方向に並べて成形スリット板を回転させるように
しても良い。
【００１８】
【考案の効果】以上のようにこの考案によれば、駆動機
構によって成形スリット板を動かすことによって、ウェ
ーハに対する注入面上でのイオンビームの幅を変えるこ
とができるので、ウェーハディスクの並進幅を変えるこ
となく、異なるサイズのウェーハに対して均一なイオン
注入が可能になる。
構によって成形スリット板を動かすことによって、ウェ
ーハに対する注入面上でのイオンビームの幅を変えるこ
とができるので、ウェーハディスクの並進幅を変えるこ
となく、異なるサイズのウェーハに対して均一なイオン
注入が可能になる。
【図１】 この考案の一実施例に係るイオン注入装置の
成形スリット板周りを示す斜視図である。
成形スリット板周りを示す斜視図である。
【図２】 実施例のイオン注入装置におけるウェーハサ
イズが大きい場合のウェーハとイオンビームとの関係を
示す平面図である。
イズが大きい場合のウェーハとイオンビームとの関係を
示す平面図である。
【図３】 実施例のイオン注入装置におけるウェーハサ
イズが小さい場合のウェーハとイオンビームとの関係を
示す平面図である。
イズが小さい場合のウェーハとイオンビームとの関係を
示す平面図である。
【図４】 従来のイオン注入装置の成形スリット板およ
びウェーハディスク周りを示す概略図である。
びウェーハディスク周りを示す概略図である。
【図５】 従来のイオン注入装置におけるウェーハサイ
ズが小さい場合のウェーハとイオンビームとの関係を示
す平面図である。
ズが小さい場合のウェーハとイオンビームとの関係を示
す平面図である。
【図６】 従来のイオン注入装置におけるウェーハサイ
ズが大きい場合のウェーハとイオンビームとの関係を示
す平面図である。
ズが大きい場合のウェーハとイオンビームとの関係を示
す平面図である。
２ イオンビーム ４ａ 成形スリット板 ４１〜４３ 開口部 ６ ウェーハ ８ ウェーハディスク １０ ガイドレール １２ ロッド １４ 駆動源
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01J 37/317 H01J 37/09 H01L 21/265
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内で回転および並進させられる
ウェーハディスクに装着されたウェーハに、成形スリッ
ト板の開口部を通してイオンビームを照射して当該ウェ
ーハにイオン注入を行う装置において、前記成形スリッ
ト板を、ウェーハディスク並進方向の幅が互いに異なる
複数の開口部を有するものとし、かつこの成形スリット
板を動かして、イオンビームの軌道上に位置させる開口
部を変える駆動機構を設けたことを特徴とするイオン注
入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992003905U JP2574747Y2 (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992003905U JP2574747Y2 (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | イオン注入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0557757U JPH0557757U (ja) | 1993-07-30 |
| JP2574747Y2 true JP2574747Y2 (ja) | 1998-06-18 |
Family
ID=11570209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992003905U Expired - Lifetime JP2574747Y2 (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2574747Y2 (ja) |
-
1992
- 1992-01-07 JP JP1992003905U patent/JP2574747Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0557757U (ja) | 1993-07-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R323113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |