JP2588183B2 - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置

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JP2588183B2
JP2588183B2 JP62006130A JP613087A JP2588183B2 JP 2588183 B2 JP2588183 B2 JP 2588183B2 JP 62006130 A JP62006130 A JP 62006130A JP 613087 A JP613087 A JP 613087A JP 2588183 B2 JP2588183 B2 JP 2588183B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は電子ビームを使って、マスクやSiウエーハに
LSIパターンを形成する電子ビーム露光装置に係わり、
特に高い描画スループットが得られるように改良を図っ
た可変成形ビーム方式電子ビーム露光装置に関する。
(従来の技術) 電子ビーム露光装置は近年益々高速性と高精度が要求
されて来ており、このような要求に対応する方式として
可変成形ビーム方式の電子ビーム露光装置が登場して来
た。
第4図は本方式の標準的電子ビーム露光装置で採用さ
れている描画方法を模式的に示した図である。電子銃10
1から放射した電子ビームは第1成形アパーチャ102で矩
形状にカットした像が、成形偏向器103の偏向を受けた
後第2成形アパーチャ104上に投影される。この投影像
と第2成形アパーチャ104のAND像が更に副偏向器105と
主偏向器106の偏向を受けた後、被露光試料107上に投影
されて所望の図形が描かれる。副偏向器105は比較的狭
い領域を高速で位置決めしてshotする時に使い、主偏向
器106は副偏向器105が偏向する領域を位置決めするのに
使う。図では成形偏向器103、主偏向器106、副偏向器10
5とも静電108極偏向器が使われているが、これ以外の場
合(例えば静電4極偏向器など)もある。
(発明が解決しようとする問題点) 従来の可変成形ビーム方式電子ビーム露光装置では可
変サイズの矩形や3角形をshotの基本単位としている。
これは任意の図形が矩形や3角形の単位に分割でき、こ
の単位で成形ビームが得られれば任意のパターンの描画
が可能となるからである。
例えば第5図にはメモリパターンのブロット図を2種
類示してあるが、これらのパターンも矩形や3角形のsh
otをつなぎ合わせて描画することが出来る。
ところが近年のLSIの益々の高集積化に対応して1chip
で描画すべき図形数は激増し、必然的に成形ビームのsh
otの数も比例して激増して来ている。このような事情か
ら1chipの描画に要する時間も飛躍的に増え、スループ
ットが著しく低下するという問題が出て来ていた。例え
ば第5図(a)のメモリパターン201は第5図(b)お
よび第6図に示すパターン群202が繰返しの単位となっ
ているが、合計69個の矩形や3角形のshotに分解して描
画する必要があり、スループット向上の障害となってい
た。
本発明はこのような問題点に対処すべくなされたもの
である。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段および作用) 上述の問題を解決するために本発明ではクリックスト
ップ式のネジに固定された棒状の支持板に複数組載置し
たアパーチャを可変ビーム成形に使う。このクリックス
トップ式のネジはクリックストップで棒状のアパーチャ
の位置を電気光学鏡筒の真空を破らずに変えて、電気光
学系の光軸位置に所望の組のアパーチャを固定すること
ができる。支持板上に載置した複数のアパーチャ上には
予め描画が予想されるそれぞれのパターンについて最適
な形状に加工がなされている。あるパターンについて最
適な形状とは、例えばそのパターンに繰返し現われる図
形々状そのものか、その図形々状を構成する基本図形の
組み合わせである。またこれらは1組のアパーチャに複
数個あっても良い。更に、他の一般的な図形(例えば矩
形や3角形)を発生させるための形状も各組に備えられ
ている。
このクリックストップ式のアパーチャ全部を交換する
にはエアロックバルブとの併用により電子光学鏡筒を局
所的に真空ダウンさせるだけで済む。従って別の幾組か
のアパーチャが短時間でセットする事が可能である。こ
のため、描画すべきパターンの種類やレイヤーに応じて
作られたアパーチャを選択して、従来よりはるかに短時
間で描画ができる。
(実施例) 以下に本発明を実施例を用いて説明する。第1図は本
発明の実施例を模式的に示す図で、1は電子銃カソー
ド、2と7は真空ポンプ、3と4はエアロックバルブ、
5はクリックストップ式のネジに取付けた第1成形アパ
ーチャ6は第2成形アパーチャである。簡単のための種
々のレンズ、偏向器などは本図から省略してある。
エアロックバルブ3、同4はクリックストップ式第1
成形アパーチャ5を丸ごと交換するときクローズするが
通常はオープンの状態で電子銃カソード1から放射した
電子ビームが第1成形アパーチャ5で成形される。第1
成形アパーチャは第2図(a)にその上面図を示すよう
に幾組かの違った図形状の開口部が作られている。描画
するパターンの種類又はレイヤーによって、この中の1
組が光軸に来るよう5のクリックストップのネジを調節
する。ここでは第2図の上から2番目のアパーチャが光
軸位置に来るように調節する。図右に拡大図が示してあ
る。描画時は描画データに従って、第1成形アパーチャ
5上にある偏向器(図示せず)で5個ある図形状の開口
部の何れか一つに位置決めする。位置決めされたアパー
チャの像が、第2成形アパーチャに投影される。第2成
形アパーチャは第2図(b)に上面図を示すような形状
をしている。第2図(a)で中央の矩形アパーチャが位
置決めされるとその像は第2図(b)に点線で示すよう
な第2成形アパーチャの種々の位置に投影され、その位
置関係で任意長の矩形や種々の向きを持つ3角形のビー
ムが成形される。第2図(b)で周辺4図形のうち何れ
か1つが位置決めされた場合はその像は第2図(b)の
アパーチャの中央部に投影され、即ち第2成形アパーチ
ャでビームをカットされることなく第1アパーチャ像の
形状を保って試料面に到達する。
第3図はこのような構成の電子ビーム露光装置で第6
図のパターンを描画する場合のshot配色を示している。
第3図で1,2,4,6,7,10,11,14,17の番号を付された図形
は第2図(a)の第1成形アパーチャの中央の矩形に位
置決めが行われて、その像を第2図(b)の4の位置に
投影して得た成形ビームをshotして描画する。
第3図3,13の番号の図形は第2図(a)で左上の図形
に位置決めして、その像を第2成形アパーチャを素通り
させて得た成形ビームをshotして描画する。同様に第3
図5,13の番号の図形は第2図(a)で右上の図形に、第
3図12,16の番号の図形は第2図(a)で左下の図形
に、また第3図9,15の番号の図形は第2図(a)で右下
の図形に位置決めして、それぞれの像を第2成形アパー
チャを素通りさせて得た成形ビームをshotして描画す
る。このようにして、第6図の従来例では69shotかかっ
たものが、僅か17ショットで描画できることが確認でき
た。
(発明の効果) 以上実施例で説明したように、本発明によれば描画す
べきパターンに繰り返し現われる図形に合わせて作られ
たアパーチャを使ってビーム形成が行えるので、同一の
パターンを描画するのに従来法と比較してshot数が飛躍
的に減少し描画スループットの大幅な向上が得られる。
また従来と較べ斜矩形を3角形などで近似して描画する
必要性が少なくなるので、データ処理時間も低減でき
る。
本発明によれば予め描画すべきパターンに合わせた専
用のアパーチャを用意しておき、それを交換しながら、
高スループットで描画することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す平面図、第2図はアパー
チャ形状の例を示す平面図、第3図は本発明のメモリパ
ターンを示す図、第4図は可変成形ビーム方式電子ビー
ム露光装置の従来例を示す図、第5図は従来方式でメモ
リパターンを描画する時のshot分割を示す図、第6図は
メモリパターンを示す図である。 1……電子銃カソード、2……真空ポンプ、3……エア
ロックバルブ、5……クリックストップアパーチャ(第
1成形アパーチャ)、6……第2成形アパーチャ。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】棒状の薄い板に複数組みのアパーチャを載
    置させ、クリックストップ式のネジにこのアパーチャを
    載置した板を、電子光学系の鏡筒内のエアロックバルブ
    により真空可能な領域に取付け、描画するチップの種類
    又はレイヤー毎に、前記クリップストップ式のネジを回
    転させて所望のアパーチャを選択して、このアパーチャ
    を使って成形させた種々の形状の成形ビームを用いて描
    画することを特徴とする可変成形ビーム方式の電子ビー
    ム露光装置。
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