JP2558751B2 - 電子ビーム描画方法 - Google Patents
電子ビーム描画方法Info
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- JP2558751B2 JP2558751B2 JP62277840A JP27784087A JP2558751B2 JP 2558751 B2 JP2558751 B2 JP 2558751B2 JP 62277840 A JP62277840 A JP 62277840A JP 27784087 A JP27784087 A JP 27784087A JP 2558751 B2 JP2558751 B2 JP 2558751B2
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- aperture
- circular
- pattern
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概要〕 成形ビーム方式のうちのビーム形状可変方式の電子ビ
ーム描画装置に関し、 円形状のパターンを寸法精度良くしかも短時間で描画
可能とすることを目的とし、 第１の矩形アパーチャを通過した電子ビームを偏向さ
せて上記電子ビームの第２の矩形アパーチャに対する位
置関係を可変させて電子ビームの断面形状を可変整形
し、該整形された電子ビームを試料に照射させて描画を
行なう電子ビーム描画装置において、上記第２の矩形ア
パーチャより上記試料測の部位に円形のアパーチャをそ
の径を可変して形成しうるアパーチャ機構を設け、該ア
パーチャ機構が、通常は開放状態とされ、円形パターン
を描画しようとする際に絞られて上記円形パターンに対
応する径の円形アパーチャを形成し、該円形アパーチャ
を通過した断面円形の電子ビームが上記試料を照射して
描画を行なうように構成する。
ーム描画装置に関し、 円形状のパターンを寸法精度良くしかも短時間で描画
可能とすることを目的とし、 第１の矩形アパーチャを通過した電子ビームを偏向さ
せて上記電子ビームの第２の矩形アパーチャに対する位
置関係を可変させて電子ビームの断面形状を可変整形
し、該整形された電子ビームを試料に照射させて描画を
行なう電子ビーム描画装置において、上記第２の矩形ア
パーチャより上記試料測の部位に円形のアパーチャをそ
の径を可変して形成しうるアパーチャ機構を設け、該ア
パーチャ機構が、通常は開放状態とされ、円形パターン
を描画しようとする際に絞られて上記円形パターンに対
応する径の円形アパーチャを形成し、該円形アパーチャ
を通過した断面円形の電子ビームが上記試料を照射して
描画を行なうように構成する。
本発明は形成ビーム方式のうちのビーム形状可変方式
の電子ビーム描画方法に関する。
の電子ビーム描画方法に関する。
第８図は従来のビーム形状可変方式の電子ビーム描画
装置を示す。図中、１は電子銃、２はブランキング電
極、３は照射レンズ、４は第１のアパーチャ部材、５は
第１のアパーチャ部材４に形成してある第１の矩形アパ
ーチャ、６は整形偏向器、７は整形レンズ、８は第２の
アパーチャ部材、９は第２のアパーチャ部材に形成して
ある第２の矩形アパーチャ、10は縮小レンズ、11は投影
レンズ、12は位置決め偏向器である。
装置を示す。図中、１は電子銃、２はブランキング電
極、３は照射レンズ、４は第１のアパーチャ部材、５は
第１のアパーチャ部材４に形成してある第１の矩形アパ
ーチャ、６は整形偏向器、７は整形レンズ、８は第２の
アパーチャ部材、９は第２のアパーチャ部材に形成して
ある第２の矩形アパーチャ、10は縮小レンズ、11は投影
レンズ、12は位置決め偏向器である。
13は試料であり、具体的にはたとえばウェハである。
電子銃１よりの電子ビーム14は、第１の矩形アパーチ
ャ５を通って断面が矩形の電子ビーム14−１となる。
ャ５を通って断面が矩形の電子ビーム14−１となる。
電子ビーム14−１は整形偏向器６により適宜偏向され
て、電子ビーム14−２となって、第２のアパーチャ部材
８に向かう。第９図は電子ビーム14−２と第２の矩形ア
パーチャとの位置関係の１例を示す。
て、電子ビーム14−２となって、第２のアパーチャ部材
８に向かう。第９図は電子ビーム14−２と第２の矩形ア
パーチャとの位置関係の１例を示す。
電子ビーム14−２の一部が第２の矩形アパーチャ９を
通り、電子ビーム14−３となり、偏向器12により偏向さ
れて試料13の所定個所を照射し、ワンショットの描画が
行なわれる。
通り、電子ビーム14−３となり、偏向器12により偏向さ
れて試料13の所定個所を照射し、ワンショットの描画が
行なわれる。
整形偏向器６により偏向の程度によって、電子ビーム
14−２の第２の矩形アパーチャ９に対する位置関係が可
変され、電子ビーム14−３は断面形状が整形される。即
ち、電子ビーム14−２が第９図中矢印Ａ方向に偏向され
る程、電子ビーム14−３は断面形状は小さくなるように
整形される。
14−２の第２の矩形アパーチャ９に対する位置関係が可
変され、電子ビーム14−３は断面形状が整形される。即
ち、電子ビーム14−２が第９図中矢印Ａ方向に偏向され
る程、電子ビーム14−３は断面形状は小さくなるように
整形される。
照射個所が描画しようとするパターンに沿うように、
電子ビーム14−３を偏向器12により逐次偏向させること
により、所望のパターンが描画される。
電子ビーム14−３を偏向器12により逐次偏向させること
により、所望のパターンが描画される。
また、描画しようとするパターンのサイズに応じて、
電子ビーム14−３を適宜整形させることにより、ショッ
トの回数を減らして大面積のパターンも短時間で描画で
きる。
電子ビーム14−３を適宜整形させることにより、ショッ
トの回数を減らして大面積のパターンも短時間で描画で
きる。
第10図に示すように試料13上の二点鎖線で囲んで示す
描画領域15に円形のパターンを描画しようとすることが
ある。
描画領域15に円形のパターンを描画しようとすることが
ある。
この描画も、上記の場合と同様に、電子ビーム14−３
を順次ショットすると共に偏向させて、電子ビーム14−
３の照射部16を次々に移すことにより行なわれる。複数
の照射部16が縦横に整列した集合がパターン17を形成す
る。
を順次ショットすると共に偏向させて、電子ビーム14−
３の照射部16を次々に移すことにより行なわれる。複数
の照射部16が縦横に整列した集合がパターン17を形成す
る。
第８図中第1,第２のアパーチャ5,9と整形偏向器６と
による整形はサイズは違っても矩形に限られる。
による整形はサイズは違っても矩形に限られる。
このため、パターン17は周囲に凹凸を有する形状とな
ってしまい、円形パターンを寸法精度良く形成すること
が出来ないという問題点があった。
ってしまい、円形パターンを寸法精度良く形成すること
が出来ないという問題点があった。
なお、上記矩形がい小サイズとなるように整形する
と、形成されたパターンはより円形にい近づくが、描画
の回数が多くなり、描画に要する時間が長くなってしま
うという問題点があった。
と、形成されたパターンはより円形にい近づくが、描画
の回数が多くなり、描画に要する時間が長くなってしま
うという問題点があった。
本発明は円形状のパターンを寸法精度良くしかも短時
間で描画することができる電子ビーム描画方法を提供す
るとこを目的とする。
間で描画することができる電子ビーム描画方法を提供す
るとこを目的とする。
本発明は、電子銃からの電子ビームを複数のアパーチ
ャを通過させることで所定の形状に整形して、試料上に
パターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記
アパーチャと試料との間に、径が可変の円形アパーチャ
を有するアパーチャ機構を設け、所望の円形パターンを
描画する際、前記円形アパーチャの径を対応する大きさ
に調整して前記円形アパーチャで整形された電子ビーム
を得る電子ビーム描画方法である。
ャを通過させることで所定の形状に整形して、試料上に
パターンを描画する電子ビーム描画装置において、前記
アパーチャと試料との間に、径が可変の円形アパーチャ
を有するアパーチャ機構を設け、所望の円形パターンを
描画する際、前記円形アパーチャの径を対応する大きさ
に調整して前記円形アパーチャで整形された電子ビーム
を得る電子ビーム描画方法である。
アパーチャ機構が絞られて円形アパーチャを形成する
と、電子ビームは断面が円形となるように整形される。
これにより、円形のパターンが一回の照射で、即ち、短
時間で、しかも寸法状態が良好とされて形成される。
と、電子ビームは断面が円形となるように整形される。
これにより、円形のパターンが一回の照射で、即ち、短
時間で、しかも寸法状態が良好とされて形成される。
アパーチャ機構は通常は開放状態にあり、第２の矩形
アパーチャにより可変整形された電子ビームが試料に向
うのを妨害しない。
アパーチャにより可変整形された電子ビームが試料に向
うのを妨害しない。
第２図は本発明の電子ビーム描画方法を用いた電子ビ
ーム描画装置の一実施例を示す図であり、第１図は第２
図の装置の概略構成を示す図である。各図中、第８図に
示す構成部分と対応する部分には同一符号を付し、その
説明は省略する。
ーム描画装置の一実施例を示す図であり、第１図は第２
図の装置の概略構成を示す図である。各図中、第８図に
示す構成部分と対応する部分には同一符号を付し、その
説明は省略する。
20はアパーチャ機構であり、第２のアパーチャ部材８
より試料13側の直ぐの部位、具体的には第２のアパーチ
ャ部材８と縮小レンズ10との間に設けてある。
より試料13側の直ぐの部位、具体的には第２のアパーチ
ャ部材８と縮小レンズ10との間に設けてある。
アパーチャ機構20は第３図及び第４図に示すように、
８枚の絞り羽根21が、蜂の巣22と押え環23と環24とによ
り支持されて周方向上に並んだ構成である。
８枚の絞り羽根21が、蜂の巣22と押え環23と環24とによ
り支持されて周方向上に並んだ構成である。
モータ25によりギヤを介して蜂の巣22が回動し、全部
の絞り羽根21が同時に開く方向又は閉じる方向に回動す
る。
の絞り羽根21が同時に開く方向又は閉じる方向に回動す
る。
全部の絞り羽根21は協働して円形のアパーチャを形成
しており、この円形アパーチャの径が可変される。
しており、この円形アパーチャの径が可変される。
第３図は開放状態を示し、径がD1の円形アパーチャ27
−１が形成してある。
−１が形成してある。
第５図は適宜絞られた状態を示し、円形アパーチャ27
−２の径はD2である。
−２の径はD2である。
次に上記のアパーチャ機構20を備えた電子ビーム描画
装置による描画動作について説明する。
装置による描画動作について説明する。
通常はアパーチャ機構20は第３図に示す開放状態にあ
る。
る。
このときの円形アパーチャ27−１は第６図に示すよう
に第２の矩形アパーチャ９よりも大きい。
に第２の矩形アパーチャ９よりも大きい。
これにより、前記のように第２の矩形アパーチャ９の
−のコーナ部を通ることにより断面が矩形状に整形され
た電子ビーム14−３は、アパーチャ機構20により妨害さ
れることなく、円形アパーチャ27−１を通過する。
−のコーナ部を通ることにより断面が矩形状に整形され
た電子ビーム14−３は、アパーチャ機構20により妨害さ
れることなく、円形アパーチャ27−１を通過する。
従って、アパーチャ機構20は、上記電子ビーム14−３
による描画を妨害せず、電子ビーム14−３による描画は
従来の場合と同様に行なわれる。
による描画を妨害せず、電子ビーム14−３による描画は
従来の場合と同様に行なわれる。
次に、第７図中、二点鎖線で囲んで示す描画領域15に
円形のパターンを描画しようとするときの動作について
説明する。
円形のパターンを描画しようとするときの動作について
説明する。
この場合には、モータ25を始動させて、アパーチャ機
構20を動作させ、絞って第５図に示す状態とし、円形ア
パーチャ27−２を形成する。
構20を動作させ、絞って第５図に示す状態とし、円形ア
パーチャ27−２を形成する。
円形アパーチャ27−２のサイズは上記パターン15に対
応する大きさであり、第５図中二点鎖線で示す第２の矩
形アパーチャ９よりも小さい。第６図は円形アパーチャ
27−２と第２の矩形アパーチャ９との関係を拡大して示
す。
応する大きさであり、第５図中二点鎖線で示す第２の矩
形アパーチャ９よりも小さい。第６図は円形アパーチャ
27−２と第２の矩形アパーチャ９との関係を拡大して示
す。
また、整形偏向器６による偏向が零とされ、電子ビー
ム14−２は第１図及び第６図に示すように第２の矩形ア
パーチャ９と一致する。
ム14−２は第１図及び第６図に示すように第２の矩形ア
パーチャ９と一致する。
従って、第１図に示すように、電子ビーム14−２は、
そのまま第２の矩形アパーチャ９を通過して、アパーチ
ャ機構20に至り、その一部が円形アパーチャ27−２を通
過して、断面が円形の電子ビーム14−４となる。
そのまま第２の矩形アパーチャ９を通過して、アパーチ
ャ機構20に至り、その一部が円形アパーチャ27−２を通
過して、断面が円形の電子ビーム14−４となる。
電子ビーム14−４は第２図中偏向器12により偏向され
て、前記の描画領域15を照射する。照射された部分は符
号２で示すように、描画領域15の全体に及び、且つその
形状は円形である。
て、前記の描画領域15を照射する。照射された部分は符
号２で示すように、描画領域15の全体に及び、且つその
形状は円形である。
従って、円形パターン29が一回の描画動作により、短
時間で描画することが出来る。
時間で描画することが出来る。
更には、描画された円形パターン29は周囲に凹凸の無
い形状となり、寸法精度の高いものとなる。
い形状となり、寸法精度の高いものとなる。
以上説明した様に、本発明によれば、アパーチャ機構
により円形のアパーチャが径を可変して形成されるた
め、断面形状が円形である電子ビームの径を適宜異なら
しめて整形することが出来、所望径の円形パターンを一
回の照射で、即ち短時間で、しかも寸法形状を高精度と
されて描画することができる。
により円形のアパーチャが径を可変して形成されるた
め、断面形状が円形である電子ビームの径を適宜異なら
しめて整形することが出来、所望径の円形パターンを一
回の照射で、即ち短時間で、しかも寸法形状を高精度と
されて描画することができる。
またアパーチャ機構が開放状態では、第２の矩形アパ
ーチャにより整形された電子ビームはそのままアパーチ
ャ機構を通過し、断面が矩形状とされた電子ビームによ
る描画を正常に行なうことが出来る。
ーチャにより整形された電子ビームはそのままアパーチ
ャ機構を通過し、断面が矩形状とされた電子ビームによ
る描画を正常に行なうことが出来る。
第１図は本発明の電子ビーム描画方法を用いた電子ビー
ム描画装置の一実施例の概略機構図、 第２図は本発明の電子ビーム描画方法を用いた電子ビー
ム描画装置の一実施例を示す図、 第３図は第２図中アパーチャ機構の開放状態の平面図、 第４図は第３図のアパーチャ機構の一部を分解して示す
斜視図、 第５図はアパーチャ機構が円形アパーチャを形成してい
る状態を示す図、 第６図は円形アパーチャを第２の矩形アパーチャと重ね
合せて示す図、 第７図は円形パターンの描画を説明する図、 第８図は従来の電子ビーム描画装置の１例の構成図、 第９図は電子ビームの可変整形を説明する図、 第10図は整形された断面矩形状の電子ビームによる円形
パターンの描画を説明する図である。 図において、 １は電子銃、 ４は第１のアパーチャ部材、 ５は第１の矩形アパーチャ、 ６は整形偏向器、 ８は第２のアパーチャ部材、 ９は第２の矩形アパーチャ、 13は試料、 14,14−1,14−2,14−３は電子ビーム、 14−４は断面円形の電子ビーム、 15は描画領域 20はアパーチャ機構、 21は絞り羽根、 22は蜂の巣、 23は押え環、 24は環、 25はモータ、 26はギヤ、 27−1,27−２は円形アパーチャ、 28は照射部、 29は円形パターン を示す。
ム描画装置の一実施例の概略機構図、 第２図は本発明の電子ビーム描画方法を用いた電子ビー
ム描画装置の一実施例を示す図、 第３図は第２図中アパーチャ機構の開放状態の平面図、 第４図は第３図のアパーチャ機構の一部を分解して示す
斜視図、 第５図はアパーチャ機構が円形アパーチャを形成してい
る状態を示す図、 第６図は円形アパーチャを第２の矩形アパーチャと重ね
合せて示す図、 第７図は円形パターンの描画を説明する図、 第８図は従来の電子ビーム描画装置の１例の構成図、 第９図は電子ビームの可変整形を説明する図、 第10図は整形された断面矩形状の電子ビームによる円形
パターンの描画を説明する図である。 図において、 １は電子銃、 ４は第１のアパーチャ部材、 ５は第１の矩形アパーチャ、 ６は整形偏向器、 ８は第２のアパーチャ部材、 ９は第２の矩形アパーチャ、 13は試料、 14,14−1,14−2,14−３は電子ビーム、 14−４は断面円形の電子ビーム、 15は描画領域 20はアパーチャ機構、 21は絞り羽根、 22は蜂の巣、 23は押え環、 24は環、 25はモータ、 26はギヤ、 27−1,27−２は円形アパーチャ、 28は照射部、 29は円形パターン を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】電子銃からの電子ビームを複数のアパーチ
ャを通過させることで所定の形状に整形して、試料上に
パターンを描画する電子ビーム描画装置において、 前記アパーチャと試料との間に、径が可変の円形アパー
チャを有するアパーチャ機構を設け、所望の円形パター
ンを描画する際、前記円形アパーチャの径を対応する大
きさに調整して前記円形アパーチャで整形された電子ビ
ームを得ることを特徴とする電子ビーム描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62277840A JP2558751B2 (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 電子ビーム描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62277840A JP2558751B2 (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 電子ビーム描画方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01120022A JPH01120022A (ja) | 1989-05-12 |
| JP2558751B2 true JP2558751B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=17588997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62277840A Expired - Lifetime JP2558751B2 (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | 電子ビーム描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2558751B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH078969Y2 (ja) * | 1988-09-08 | 1995-03-06 | 株式会社大林組 | 解氷装置 |
| GB2421630B (en) * | 2004-12-21 | 2006-11-29 | Leica Microsys Lithography Ltd | Dual-mode electron beam column |
| JP4841878B2 (ja) * | 2005-07-07 | 2011-12-21 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム装置及び電子ビームの照射方法 |
| JP4843425B2 (ja) * | 2006-09-06 | 2011-12-21 | エルピーダメモリ株式会社 | 可変成形型電子ビーム描画装置 |
-
1987
- 1987-11-02 JP JP62277840A patent/JP2558751B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01120022A (ja) | 1989-05-12 |
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